DE69428710T2 - Verfahren und vorrichtung zum zuführen von vorläufverbindungen in einen cvd - reaktor - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zum zuführen von vorläufverbindungen in einen cvd - reaktorInfo
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012022744A1 (de) * | 2012-11-21 | 2014-05-22 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6428623B2 (en) | 1993-05-14 | 2002-08-06 | Micron Technology, Inc. | Chemical vapor deposition apparatus with liquid feed |
JP3030309B2 (ja) * | 1994-03-09 | 2000-04-10 | 工業技術院長 | 薄膜製造装置 |
JP3787574B2 (ja) * | 1995-02-28 | 2006-06-21 | マイクロン・テクノロジー・インコーポレーテッド | プレカーサを用いた化学蒸着 |
US5916640A (en) * | 1996-09-06 | 1999-06-29 | Msp Corporation | Method and apparatus for controlled particle deposition on surfaces |
WO1998055668A1 (en) * | 1997-06-02 | 1998-12-10 | Msp Corporation | Method and apparatus for vapor generation and film deposition |
US6409839B1 (en) | 1997-06-02 | 2002-06-25 | Msp Corporation | Method and apparatus for vapor generation and film deposition |
DE19803740C2 (de) * | 1998-01-30 | 2001-05-31 | Mtu Aero Engines Gmbh | Gasphasenbeschichtungsverfahren und Vorrichtung zur Gasphasenbeschichtung von Werkstücken |
US6409837B1 (en) | 1999-01-13 | 2002-06-25 | Tokyo Electron Limited | Processing system and method for chemical vapor deposition of a metal layer using a liquid precursor |
AU4325000A (en) * | 1999-02-10 | 2000-08-29 | Auburn University Industrial Programs & Tech Transfer | Method of hot-filament chemical vapor deposition of diamond |
FR2800754B1 (fr) | 1999-11-08 | 2003-05-09 | Joint Industrial Processors For Electronics | Dispositif evaporateur d'une installation de depot chimique en phase vapeur |
DE10003758A1 (de) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Aixtron Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden wenigstens eines in flüssiger oder gelöster Form vorliegenden Prekursors |
DE10007059A1 (de) | 2000-02-16 | 2001-08-23 | Aixtron Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von beschichteten Substraten mittels Kondensationsbeschichtung |
DE10057491A1 (de) * | 2000-11-20 | 2002-05-23 | Aixtron Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Zuführen eines in die Gasform gebrachten flüssigen Ausgangsstoffes in einen CVD-Reaktor |
US6701066B2 (en) * | 2001-10-11 | 2004-03-02 | Micron Technology, Inc. | Delivery of solid chemical precursors |
FR2831466B1 (fr) * | 2001-10-30 | 2004-01-23 | Dgtec | Dispositif de fabrication de poudre par pyrolyse d'aerosol |
US20030123080A1 (en) * | 2001-12-27 | 2003-07-03 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming device and method for controling the same |
FR2839730B1 (fr) * | 2002-05-15 | 2004-08-27 | Centre Nat Rech Scient | Formation de carbure de silicium monocristallin |
FR2841233B1 (fr) * | 2002-06-24 | 2004-07-30 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de depot par pyrolyse de nanotubes de carbone |
US20060035470A1 (en) * | 2002-10-30 | 2006-02-16 | Hitachi Kokusai Electronic, Inc. | Method for manufaturing semiconductor device and substrate processing system |
DE102004015174A1 (de) | 2004-03-27 | 2005-10-13 | Aixtron Ag | Verfahren zum Abscheiden von insbesondere Metalloxiden mittels nicht kontinuierlicher Precursorinjektion |
FR2874028B1 (fr) * | 2004-08-06 | 2006-10-27 | Qualiflow Sa Sa | Dispositif d'introduction dans une enceinte de precurseurs liquides en mode pulse avec mesure et controle du debit |
DE112006000596T5 (de) * | 2005-03-16 | 2008-01-24 | Horiba Ltd. | Filmbildungssystem und -verfahren |
JP5198853B2 (ja) * | 2005-03-18 | 2013-05-15 | 株式会社堀場製作所 | 成膜方法及び成膜装置 |
US20070194470A1 (en) * | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Aviza Technology, Inc. | Direct liquid injector device |
FR2900070B1 (fr) | 2006-04-19 | 2008-07-11 | Kemstream Soc Par Actions Simp | Dispositif d'introduction ou d'injection ou de pulverisation d'un melange de gaz vecteur et de composes liquides et procede de mise en oeuvre dudit dispositif. |
JP2008007838A (ja) * | 2006-06-30 | 2008-01-17 | Horiba Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
FR2940323B1 (fr) | 2008-12-18 | 2011-02-11 | Centre Nat Rech Scient | Procede de depot de films d'oxydes sur tubes metalliques textures |
TWI506391B (zh) * | 2010-04-15 | 2015-11-01 | Novellus Systems Inc | 氣體及液體注射系統 |
DE102011121078B4 (de) | 2011-12-12 | 2013-11-07 | Oliver Feddersen-Clausen | Zyklisches Verdampfungsverfahren |
US9834445B2 (en) * | 2015-11-30 | 2017-12-05 | Korea Institute Of Energy Research | Porous graphene member, method for manufacturing same, and apparatus for manufacturing same using the method |
GB2574400B (en) * | 2018-06-04 | 2022-11-23 | Dyson Technology Ltd | A Device |
CN114182354B (zh) * | 2021-11-08 | 2023-04-07 | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 | 反应室气体增湿装置及扩散设备 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1461060A (fr) * | 1964-12-26 | 1966-12-10 | Fujitsu Ltd | Procédé pour la fabrication de films minces |
EP0334982B1 (de) * | 1988-03-30 | 1991-11-27 | Ohkawara Kakohki Co., Ltd. | Vorrichtung zur Herstellung sprühgetrockneter Granulate |
US5316579A (en) * | 1988-12-27 | 1994-05-31 | Symetrix Corporation | Apparatus for forming a thin film with a mist forming means |
US5090985A (en) * | 1989-10-17 | 1992-02-25 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method for preparing vaporized reactants for chemical vapor deposition |
US4970093A (en) * | 1990-04-12 | 1990-11-13 | University Of Colorado Foundation | Chemical deposition methods using supercritical fluid solutions |
US5278138A (en) * | 1990-04-16 | 1994-01-11 | Ott Kevin C | Aerosol chemical vapor deposition of metal oxide films |
JP2856859B2 (ja) * | 1990-08-01 | 1999-02-10 | 三菱電機株式会社 | 有機金属化学気相蒸着法による酸化物超電導体の製造方法 |
US5085731A (en) * | 1991-02-04 | 1992-02-04 | Air Products And Chemicals, Inc. | Volatile liquid precursors for the chemical vapor deposition of copper |
DE69218152T2 (de) * | 1991-12-26 | 1997-08-28 | Canon Kk | Herstellungsverfahren einer niedergeschlagenen Schicht mittels CVD, unter Verwendung von flüssigem Rohstoff und dazu geeignete Vorrichtung |
US5393564A (en) * | 1993-05-14 | 1995-02-28 | Micron Semiconductor, Inc. | High efficiency method for performing a chemical vapor deposition utilizing a nonvolatile precursor |
US5492724A (en) * | 1994-02-22 | 1996-02-20 | Osram Sylvania Inc. | Method for the controlled delivery of vaporized chemical precursor to an LPCVD reactor |
US5451260A (en) * | 1994-04-15 | 1995-09-19 | Cornell Research Foundation, Inc. | Method and apparatus for CVD using liquid delivery system with an ultrasonic nozzle |
US5441766A (en) * | 1994-08-25 | 1995-08-15 | Korea Institute Of Science And Technology | Method for the production of highly pure copper thin films by chemical vapor deposition |
-
1993
- 1993-07-12 FR FR9308838A patent/FR2707671B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-07-08 EP EP94922896A patent/EP0730671B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-08 DE DE69428710T patent/DE69428710T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-08 US US08/583,090 patent/US5945162A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-07-08 WO PCT/FR1994/000858 patent/WO1995002711A1/fr active IP Right Grant
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012022744A1 (de) * | 2012-11-21 | 2014-05-22 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer |
DE102012022744B4 (de) * | 2012-11-21 | 2016-11-24 | Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh | Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer |
Also Published As
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---|---|
FR2707671B1 (fr) | 1995-09-15 |
DE69428710D1 (de) | 2001-11-22 |
EP0730671B1 (de) | 2001-10-17 |
EP0730671A1 (de) | 1996-09-11 |
WO1995002711A1 (fr) | 1995-01-26 |
FR2707671A1 (fr) | 1995-01-20 |
US5945162A (en) | 1999-08-31 |
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