DE69223202D1 - Synchrotron-Belichtungssystem und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen unter Verwendung dieses Systems - Google Patents

Synchrotron-Belichtungssystem und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen unter Verwendung dieses Systems

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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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