JPH0562885A - Ｓｏｒ露光システム - Google Patents
Ｓｏｒ露光システムInfo
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- JPH0562885A JPH0562885A JP3222889A JP22288991A JPH0562885A JP H0562885 A JPH0562885 A JP H0562885A JP 3222889 A JP3222889 A JP 3222889A JP 22288991 A JP22288991 A JP 22288991A JP H0562885 A JPH0562885 A JP H0562885A
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- Japan
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- exposure
- sor
- mirror
- ring
- shutter
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 Ｘ線反射ミラーで反射されたＳＯＲ光を用い
てマスク上のパターンを半導体ウェハに転写するＳＯＲ
露光システムにおいて、ＳＯＲリングへの電子注入時及
びＳＯＲリング停止時に，ＳＯＲリングから発生するガ
ンマ線等の放射線から人体を保護すると共に、Ｘ線反射
ミラーの放射線損傷を低減し、安定した反射率とメンテ
ナンスの容易化を可能にする。 【構成】 ＳＯＲリングと露光装置の間に設けられるビ
ームポート中で、ＳＯＲリングとＸ線反射ミラーの間に
少なくともガンマ線を遮断する第１シャッタ５とＸ線を
遮断する第２シャッタ８を配置すると共に、該ミラーと
露光装置の間にＸ線の露光量を制御する露光量制御用シ
ャッタ１１を配置する。
てマスク上のパターンを半導体ウェハに転写するＳＯＲ
露光システムにおいて、ＳＯＲリングへの電子注入時及
びＳＯＲリング停止時に，ＳＯＲリングから発生するガ
ンマ線等の放射線から人体を保護すると共に、Ｘ線反射
ミラーの放射線損傷を低減し、安定した反射率とメンテ
ナンスの容易化を可能にする。 【構成】 ＳＯＲリングと露光装置の間に設けられるビ
ームポート中で、ＳＯＲリングとＸ線反射ミラーの間に
少なくともガンマ線を遮断する第１シャッタ５とＸ線を
遮断する第２シャッタ８を配置すると共に、該ミラーと
露光装置の間にＸ線の露光量を制御する露光量制御用シ
ャッタ１１を配置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＳＯＲリングからのシ
ンクロトロン放射光を用いるＳＯＲ露光システム、特に
は半導体装置の製造分野でマスク上のパターンを半導体
ウェハ上に転写するために利用されるＳＯＲ露光システ
ムに関する。
ンクロトロン放射光を用いるＳＯＲ露光システム、特に
は半導体装置の製造分野でマスク上のパターンを半導体
ウェハ上に転写するために利用されるＳＯＲ露光システ
ムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線露光の光源としてシンクロト
ロン放射光（以下ＳＯＲ光と記す）を用いることが提案
され、ＳＯＲ光のシートビームをミラーを用いて鉛直方
向に拡大し、露光領域を確保する方法が考えられてい
る。この方法において、Ｘ線によるミラーの損傷を低減
するために特開平２−９８１２１号公報に開示されてい
るように、露光時間を制御する露光量調節シャッタとは
別に、ミラーよりもＸ線源に近い側にＸ線を遮断するミ
ラー保護シャッタを設置、開閉制御する方法が提案され
ている。
ロン放射光（以下ＳＯＲ光と記す）を用いることが提案
され、ＳＯＲ光のシートビームをミラーを用いて鉛直方
向に拡大し、露光領域を確保する方法が考えられてい
る。この方法において、Ｘ線によるミラーの損傷を低減
するために特開平２−９８１２１号公報に開示されてい
るように、露光時間を制御する露光量調節シャッタとは
別に、ミラーよりもＸ線源に近い側にＸ線を遮断するミ
ラー保護シャッタを設置、開閉制御する方法が提案され
ている。
【０００３】また、ＳＯＲリングに電子注入を行う時、
およびＳＯＲリングを停止させる時には、Ｘ線ばかりで
はなく、人体に有害なα粒子、β粒子、ガンマ線、中性
子等の放射線が発生することが問題となっている。これ
らの放射線を遮断するために、図９に示すように、ＳＯ
Ｒリング１と露光装置２を別部屋に配置し、仕切６をコ
ンクリートなどの放射線シール壁にする方法が提案され
ている。
およびＳＯＲリングを停止させる時には、Ｘ線ばかりで
はなく、人体に有害なα粒子、β粒子、ガンマ線、中性
子等の放射線が発生することが問題となっている。これ
らの放射線を遮断するために、図９に示すように、ＳＯ
Ｒリング１と露光装置２を別部屋に配置し、仕切６をコ
ンクリートなどの放射線シール壁にする方法が提案され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、仕切壁６に
は必要なＸ線３を通すためのダクト穴８からの放射線漏
れには対策がなされていなかった。この放射線はまた、
Ｘ線遮断用に作られているミラー保護シャッタをも透過
し、ミラーにも損傷を与える。
は必要なＸ線３を通すためのダクト穴８からの放射線漏
れには対策がなされていなかった。この放射線はまた、
Ｘ線遮断用に作られているミラー保護シャッタをも透過
し、ミラーにも損傷を与える。
【０００５】本発明は、上記のような問題点に鑑み、人
体の保護及び、長期にわたるミラー反射率の安定化とメ
ンテナンスの容易化を図ったＳＯＲ露光システムを提供
することを目的とする。
体の保護及び、長期にわたるミラー反射率の安定化とメ
ンテナンスの容易化を図ったＳＯＲ露光システムを提供
することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のＳＯＲ露光シス
テムは、この目的を達成するため、シンクロトロン放射
光を発生するＳＯＲリングと前記シンクロトロン放射光
に露光処理を行なう少なくとも１つの露光装置と、前記
ＳＯＲリングと前記露光装置の各々とを接続し前記シン
クロトロン放射光を導くビームポートと、前記ビームポ
ート中に設けられ、前記シンクロトロン放射光を鉛直方
向に拡大させるためのＸ線反射ミラーにより構成される
ＳＯＲ露光システムにおいて、前記ビームポート中の前
記ＳＯＲリングと前記ミラーとの間に、少なくともガン
マ線を遮断する第１遮断手段と、Ｘ線を遮断する第２遮
断手段を設けると共に、前記ミラーとウェハとの間にマ
スク上の回路パターンを前記ウェハに転写する際の露光
量を制御する露光量調節手段とを設けられている。
テムは、この目的を達成するため、シンクロトロン放射
光を発生するＳＯＲリングと前記シンクロトロン放射光
に露光処理を行なう少なくとも１つの露光装置と、前記
ＳＯＲリングと前記露光装置の各々とを接続し前記シン
クロトロン放射光を導くビームポートと、前記ビームポ
ート中に設けられ、前記シンクロトロン放射光を鉛直方
向に拡大させるためのＸ線反射ミラーにより構成される
ＳＯＲ露光システムにおいて、前記ビームポート中の前
記ＳＯＲリングと前記ミラーとの間に、少なくともガン
マ線を遮断する第１遮断手段と、Ｘ線を遮断する第２遮
断手段を設けると共に、前記ミラーとウェハとの間にマ
スク上の回路パターンを前記ウェハに転写する際の露光
量を制御する露光量調節手段とを設けられている。
【０００７】
【作用】これにより、ＳＯＲリングへの電子注入時や停
止時にのみ発生するガンマ線などの放射線が人体に及ぼ
す悪影響及びミラーの損傷を除去することができる。ま
た、Ｘ線遮断用のミラー保護シャッタは露光毎に開閉す
るのが望ましいが、ガンマ線遮断用のシャッタは鉛など
の重金属で厚く作られるため重いものとなるので、これ
らを別個に設けることによって、前者は軽く耐久性の良
いもの、後者は電子注入時のみの開閉であるから高速で
なくてもよく、確実に放射線を遮断するもの、といった
ように機能を重視して設計することができる。
止時にのみ発生するガンマ線などの放射線が人体に及ぼ
す悪影響及びミラーの損傷を除去することができる。ま
た、Ｘ線遮断用のミラー保護シャッタは露光毎に開閉す
るのが望ましいが、ガンマ線遮断用のシャッタは鉛など
の重金属で厚く作られるため重いものとなるので、これ
らを別個に設けることによって、前者は軽く耐久性の良
いもの、後者は電子注入時のみの開閉であるから高速で
なくてもよく、確実に放射線を遮断するもの、といった
ように機能を重視して設計することができる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【０００９】図１は本発明の実施例の概略構成を示す図
である。同図では１つのＳＯＲリングを用いて露光を行
なう２つの露光装置２Ａ、２Ｂが示されている。各露光
装置は同様に構成されているので、同一のものには同一
符号の後にＡ、Ｂをそれぞれ付し、説明はＡが付された
ものについてのみ行なう。
である。同図では１つのＳＯＲリングを用いて露光を行
なう２つの露光装置２Ａ、２Ｂが示されている。各露光
装置は同様に構成されているので、同一のものには同一
符号の後にＡ、Ｂをそれぞれ付し、説明はＡが付された
ものについてのみ行なう。
【００１０】同図において、１はＳＯＲ光を発するとこ
ろのＳＯＲリング、２Ａは露光処理を行う露光装置、３
ＡはＳＯＲリング１と露光装置２Ａとを接続し、ＳＯＲ
光４をＳＯＲリング１から露光装置２Ａに導くビームポ
ートである。
ろのＳＯＲリング、２Ａは露光処理を行う露光装置、３
ＡはＳＯＲリング１と露光装置２Ａとを接続し、ＳＯＲ
光４をＳＯＲリング１から露光装置２Ａに導くビームポ
ートである。
【００１１】ビームポート３Ａの構成としては、ＳＯＲ
リング１側より、α粒子、β粒子、ガンマ線、中性子等
の放射線を遮断するための第１の遮断手段である鉛シャ
ッタ５Ａ、Ｘ線を遮断するための第２の遮断手段である
ミラー保護シャッタ８Ａ、ＳＯＲ光４を反射・拡大して
露光に要する領域にＸ線を照射するためのＸ線ミラー９
Ａ、ミラーチャンバ７Ａ側の超高真空雰囲気と露光装置
２Ａ内の雰囲気（例えば減圧Ｈｅ雰囲気）とを分離する
と同時に、ＳＯＲリング１から発生する露光に有害な電
磁波を遮蔽する窓１０Ａが順に設けられており、ミラー
保護シャッタ８ＡとＸ線ミラー９Ａは超高真空のミラー
チャンバー７Ａの中に配置されている。さらに鉛シャッ
タ５Ａの近傍にビームポート３Ａが通過する遮蔽壁６が
設けられている。
リング１側より、α粒子、β粒子、ガンマ線、中性子等
の放射線を遮断するための第１の遮断手段である鉛シャ
ッタ５Ａ、Ｘ線を遮断するための第２の遮断手段である
ミラー保護シャッタ８Ａ、ＳＯＲ光４を反射・拡大して
露光に要する領域にＸ線を照射するためのＸ線ミラー９
Ａ、ミラーチャンバ７Ａ側の超高真空雰囲気と露光装置
２Ａ内の雰囲気（例えば減圧Ｈｅ雰囲気）とを分離する
と同時に、ＳＯＲリング１から発生する露光に有害な電
磁波を遮蔽する窓１０Ａが順に設けられており、ミラー
保護シャッタ８ＡとＸ線ミラー９Ａは超高真空のミラー
チャンバー７Ａの中に配置されている。さらに鉛シャッ
タ５Ａの近傍にビームポート３Ａが通過する遮蔽壁６が
設けられている。
【００１２】露光装置２Ａの内部には、Ｘ線ミラー９Ａ
で拡大されたＳＯＲ光４を用いてマスク１２Ａ上の回路
パターンをウェハ１３Ａに転写する際のＸ線の露光量を
制御する露光量調節シャッタ１１Ａが設けられている。
で拡大されたＳＯＲ光４を用いてマスク１２Ａ上の回路
パターンをウェハ１３Ａに転写する際のＸ線の露光量を
制御する露光量調節シャッタ１１Ａが設けられている。
【００１３】次にＳＯＲ露光システムの制御系について
説明する。
説明する。
【００１４】２１はＳＯＲ制御装置であり、ＳＯＲリン
グ１を制御する。また、鉛シャッタ駆動部２４Ａを介し
て鉛シャッタ５の開閉を制御する。
グ１を制御する。また、鉛シャッタ駆動部２４Ａを介し
て鉛シャッタ５の開閉を制御する。
【００１５】２２Ａは露光装置制御系Ａであって、露光
装置２Ａを制御する。また、ミラー保護シャッタ駆動部
２５Ａを介してミラー保護シャッタ８Ａの開閉を制御
し、露光量調節シャッタ駆動部２６Ａを介して露光量調
節シャッタ１１Ａの開閉を制御する。
装置２Ａを制御する。また、ミラー保護シャッタ駆動部
２５Ａを介してミラー保護シャッタ８Ａの開閉を制御
し、露光量調節シャッタ駆動部２６Ａを介して露光量調
節シャッタ１１Ａの開閉を制御する。
【００１６】２３はＳＯＲ制御装置２１と各露光装置制
御系２２とを結ぶ通信系であり、ＳＯＲを中心として通
信ラインを接続してもよいし、ＬＡＮなどで構成しても
よい。
御系２２とを結ぶ通信系であり、ＳＯＲを中心として通
信ラインを接続してもよいし、ＬＡＮなどで構成しても
よい。
【００１７】図２は本発明の実施例に係わるＳＯＲ制御
装置２１の動作手順を示すフローチャートである。
装置２１の動作手順を示すフローチャートである。
【００１８】ステップＳ２０１では、イニシャライズ、
真空排気、自己診断等の立ち上げ処理を行う。次にステ
ップＳ２０２で全ビームポートの鉛シャッタ閉信号（鉛
シャッタ開信号ＯＦＦ）を出し、ステップＳ２０３で全
ビーチポートの鉛シャッタ５を閉める。そしてＳＯＲリ
ング１がフルエネルギーになるまで電子注入及び加速、
蓄積を行う（ステップＳ２０４〜Ｓ２０６）。フルエネ
ルギーになるとＳＯＲ運転信号を各露光装置制御系２２
に対して出し、各ビームポートの鉛シャッタ５を開いて
対応する鉛シャッタ開信号を出す（ステップＳ２０７〜
Ｓ２０９）。このとき、各ビームポートが使用されてい
るか否かをＳＯＲ制御装置２１は知る必要がなく、放射
線を発する注入時に確実に鉛シャッタ５を閉めていれば
よい。
真空排気、自己診断等の立ち上げ処理を行う。次にステ
ップＳ２０２で全ビームポートの鉛シャッタ閉信号（鉛
シャッタ開信号ＯＦＦ）を出し、ステップＳ２０３で全
ビーチポートの鉛シャッタ５を閉める。そしてＳＯＲリ
ング１がフルエネルギーになるまで電子注入及び加速、
蓄積を行う（ステップＳ２０４〜Ｓ２０６）。フルエネ
ルギーになるとＳＯＲ運転信号を各露光装置制御系２２
に対して出し、各ビームポートの鉛シャッタ５を開いて
対応する鉛シャッタ開信号を出す（ステップＳ２０７〜
Ｓ２０９）。このとき、各ビームポートが使用されてい
るか否かをＳＯＲ制御装置２１は知る必要がなく、放射
線を発する注入時に確実に鉛シャッタ５を閉めていれば
よい。
【００１９】これで通常運転状態にはいるので、ステッ
プＳ２１０でオペレータからの立ち下げ指示があるかチ
ェックし、あれば鉛シャッタを閉め、鉛シャッタ開信号
をＯＦＦし、立ち下げ処理をして停止する（ステップＳ
２１１〜Ｓ２１３）。立ち下げ指示がなければステップ
Ｓ２１４でエネルギー低下をチェックする。低下してい
なければステップＳ２１０に戻って通常運転を続け、低
下していればステップＳ２１５でＳＯＲ停止警報を各露
光装置制御系２２に対して出す。そして、稼働中の全て
の露光装置制御系２２からＳＯＲ停止了承信号を受ける
まで待ち、その後にＳＯＲ運転信号をおとし、ＳＯＲ停
止警報もおとす（ステップＳ２１６〜Ｓ２１８）。そし
てステップＳ２０２に戻って電子注入・加速を再開す
る。
プＳ２１０でオペレータからの立ち下げ指示があるかチ
ェックし、あれば鉛シャッタを閉め、鉛シャッタ開信号
をＯＦＦし、立ち下げ処理をして停止する（ステップＳ
２１１〜Ｓ２１３）。立ち下げ指示がなければステップ
Ｓ２１４でエネルギー低下をチェックする。低下してい
なければステップＳ２１０に戻って通常運転を続け、低
下していればステップＳ２１５でＳＯＲ停止警報を各露
光装置制御系２２に対して出す。そして、稼働中の全て
の露光装置制御系２２からＳＯＲ停止了承信号を受ける
まで待ち、その後にＳＯＲ運転信号をおとし、ＳＯＲ停
止警報もおとす（ステップＳ２１６〜Ｓ２１８）。そし
てステップＳ２０２に戻って電子注入・加速を再開す
る。
【００２０】次に露光装置制御系２２の動作手順につい
て図３を用いて説明する。同図では１つの露光装置制御
系の処理を示してあるが、他の露光装置制御系について
も全く同様である。ステップＳ３０１ではイニシャライ
ズ、自己診断、雰囲気コントロール等の立ち上げ処理を
行う。そしてステップＳ３０２からＳ３０４でマスク１
２およびウェハ１３を各ステージ上に供給する。
て図３を用いて説明する。同図では１つの露光装置制御
系の処理を示してあるが、他の露光装置制御系について
も全く同様である。ステップＳ３０１ではイニシャライ
ズ、自己診断、雰囲気コントロール等の立ち上げ処理を
行う。そしてステップＳ３０２からＳ３０４でマスク１
２およびウェハ１３を各ステージ上に供給する。
【００２１】ステップＳ３０５からＳ３１１が１ショッ
トの露光処理である。ＳＯＲ運転信号がＯＮ、ＳＯＲ停
止警報がＯＦＦ、且つ使用しているビームポートの鉛シ
ャッタ開信号がＯＮであることを確認する。そして、オ
ートフォーカス（ＡＦ）、オートアライメント（ＡＡ）
を行ってマスク１２とウェハ１３を所定の位置関係と
し、ミラー保護シャッタを開けた後、露光処理を行う。
トの露光処理である。ＳＯＲ運転信号がＯＮ、ＳＯＲ停
止警報がＯＦＦ、且つ使用しているビームポートの鉛シ
ャッタ開信号がＯＮであることを確認する。そして、オ
ートフォーカス（ＡＦ）、オートアライメント（ＡＡ）
を行ってマスク１２とウェハ１３を所定の位置関係と
し、ミラー保護シャッタを開けた後、露光処理を行う。
【００２２】Ｘ線反射ミラー９及び露光量調節シャッタ
１１の実施例の一態様として、図４に揺動ミラー９およ
び回転板１１を用いた場合を示す。揺動ミラー９は、ミ
ラーを揺動することによってＳＯＲ光４を鉛直方向に拡
大するものであるが、反射角によってＸ線の反射率が異
なり、同図によると上方向ほどＸ線強度が弱い。それを
補正するように回転板１１の開口部を設けてあるので、
実際の露光処理としては、露光量調節シャッタ駆動部２
６を介して回転板１１を回転させ、遮光部で停止するよ
うに駆動するだけでよい。
１１の実施例の一態様として、図４に揺動ミラー９およ
び回転板１１を用いた場合を示す。揺動ミラー９は、ミ
ラーを揺動することによってＳＯＲ光４を鉛直方向に拡
大するものであるが、反射角によってＸ線の反射率が異
なり、同図によると上方向ほどＸ線強度が弱い。それを
補正するように回転板１１の開口部を設けてあるので、
実際の露光処理としては、露光量調節シャッタ駆動部２
６を介して回転板１１を回転させ、遮光部で停止するよ
うに駆動するだけでよい。
【００２３】１ショットの露光が終了すると、ステップ
Ｓ３１２で１枚のウェハの全ショットの露光が終了した
否かを判断する。終了していなければステップＳ３１３
で次のショットへウェハ１３をステップ移動し、ステッ
プＳ３０５に戻って次ショット露光を行う。１ウェハの
露光が終了していた場合には、ステップＳ３１４で露光
済みのウェハを回収し、ステップＳ３１５でウェハカセ
ット内の全ウェハの露光が終了したか否かを判断する。
終了していなければステップＳ３０４に戻って次ウェハ
の露光を行う。
Ｓ３１２で１枚のウェハの全ショットの露光が終了した
否かを判断する。終了していなければステップＳ３１３
で次のショットへウェハ１３をステップ移動し、ステッ
プＳ３０５に戻って次ショット露光を行う。１ウェハの
露光が終了していた場合には、ステップＳ３１４で露光
済みのウェハを回収し、ステップＳ３１５でウェハカセ
ット内の全ウェハの露光が終了したか否かを判断する。
終了していなければステップＳ３０４に戻って次ウェハ
の露光を行う。
【００２４】１ウェハカセットの露光が終了していた場
合には、ステップＳ３１６で露光済みのウェハカセット
を回収し、ステップＳ３１７でオペレータからの立ち下
げ指示があるか判断する。立ち下げ指示がなければ、ス
テップＳ３１８でマスク交換の指示があるか判断し、な
ければそのままステップＳ３０３に戻り、あればステッ
プＳ３１９でマスク１２を回収し、ステップＳ３０２に
戻って次のウェハカセット露光処理に移る。ステップＳ
３１７で立ち下げ指示がでていればステップＳ３２０で
立ち下げ処理を行なって停止する。
合には、ステップＳ３１６で露光済みのウェハカセット
を回収し、ステップＳ３１７でオペレータからの立ち下
げ指示があるか判断する。立ち下げ指示がなければ、ス
テップＳ３１８でマスク交換の指示があるか判断し、な
ければそのままステップＳ３０３に戻り、あればステッ
プＳ３１９でマスク１２を回収し、ステップＳ３０２に
戻って次のウェハカセット露光処理に移る。ステップＳ
３１７で立ち下げ指示がでていればステップＳ３２０で
立ち下げ処理を行なって停止する。
【００２５】ＳＯＲリング１が停止していてＳＯＲ運転
信号が出ていないときには、ステップＳ３０５からＳ３
２２に分岐してオペレータからの露光装置立ち下げ指示
があるか判断する。指示があればステップＳ３２０で立
ち下げ処理をして停止し、指示がなければステップＳ３
０５に戻り、ＳＯＲリング１の復旧を待つ。エネルギー
低下により、ＳＯＲ停止警報が出ているときには、ステ
ップＳ３０６からＳ３２１に分岐してＳＯＲ制御装置２
１に対してＳＯＲ停止了承信号を出し、ステップＳ３２
２に移り、以降前述の処理を行う。ステップＳ３０７か
ら鉛シャッタが閉じていることによって分岐してきた場
合もステップＳ３２２以降、同様である。
信号が出ていないときには、ステップＳ３０５からＳ３
２２に分岐してオペレータからの露光装置立ち下げ指示
があるか判断する。指示があればステップＳ３２０で立
ち下げ処理をして停止し、指示がなければステップＳ３
０５に戻り、ＳＯＲリング１の復旧を待つ。エネルギー
低下により、ＳＯＲ停止警報が出ているときには、ステ
ップＳ３０６からＳ３２１に分岐してＳＯＲ制御装置２
１に対してＳＯＲ停止了承信号を出し、ステップＳ３２
２に移り、以降前述の処理を行う。ステップＳ３０７か
ら鉛シャッタが閉じていることによって分岐してきた場
合もステップＳ３２２以降、同様である。
【００２６】次に第２の実施例として図５を用いて露光
装置制御系２２の処理を説明する。ステップＳ５０１か
らＳ５０７までは図３のステップＳ３０１からＳ３０７
と同様である。ステップＳ５０８では、ＳＯＲ光４の照
度プロファイル測定がなされているか否かをチェックす
る。なされていればそのままステップＳ５１２に処理を
移し、なされていなければミラー保護シャッタを開けて
照度プロファイルを測定する（ステップＳ５０９〜Ｓ５
１１）。
装置制御系２２の処理を説明する。ステップＳ５０１か
らＳ５０７までは図３のステップＳ３０１からＳ３０７
と同様である。ステップＳ５０８では、ＳＯＲ光４の照
度プロファイル測定がなされているか否かをチェックす
る。なされていればそのままステップＳ５１２に処理を
移し、なされていなければミラー保護シャッタを開けて
照度プロファイルを測定する（ステップＳ５０９〜Ｓ５
１１）。
【００２７】プロファイル測定について図６を用いて詳
細に説明する。同図は本実施例に係わるＸ線ミラー９お
よび露光量調節シャッタ１１の一態様として、シリンド
リカルミラーと、開口部を備えた幅広のベルトを２本の
円筒ドラムの間にかけたシャッタを用いた場合の概略構
成図である。露光量調整シャッタ１１以降は省略してい
る。各構成要素は図１と同一のものには同一の符号を付
している。６１はベルト、６２は駆動ドラム、６３はア
イドルドラム、６４は駆動ドラム６２を回転させるため
のアクチュエータ、６５は露光制御用開口部、６６は露
光制御用開口部６５の前縁、６７は露光制御用開口部６
５の後縁、６８は後面開口部、６９はベルト６１の移動
方向である。ＳＯＲリング１から出るＳＯＲ光４はＸ方
向（水平方向）には均一で、Ｙ方向（鉛直方向）に非常
に薄いガウシャン分布を持ったシートビームであり、そ
れをシリンドリカルミラーを用いてＹ方向に拡大する
と、ウェハ１３上に照射されるＸ線強度分布は図７に示
すようになる。この不均一な分布を図５のステップＳ５
１０で測定し、プロファイルが測定済であることを示す
フラグをステップＳ５１１でＯＮにする。
細に説明する。同図は本実施例に係わるＸ線ミラー９お
よび露光量調節シャッタ１１の一態様として、シリンド
リカルミラーと、開口部を備えた幅広のベルトを２本の
円筒ドラムの間にかけたシャッタを用いた場合の概略構
成図である。露光量調整シャッタ１１以降は省略してい
る。各構成要素は図１と同一のものには同一の符号を付
している。６１はベルト、６２は駆動ドラム、６３はア
イドルドラム、６４は駆動ドラム６２を回転させるため
のアクチュエータ、６５は露光制御用開口部、６６は露
光制御用開口部６５の前縁、６７は露光制御用開口部６
５の後縁、６８は後面開口部、６９はベルト６１の移動
方向である。ＳＯＲリング１から出るＳＯＲ光４はＸ方
向（水平方向）には均一で、Ｙ方向（鉛直方向）に非常
に薄いガウシャン分布を持ったシートビームであり、そ
れをシリンドリカルミラーを用いてＹ方向に拡大する
と、ウェハ１３上に照射されるＸ線強度分布は図７に示
すようになる。この不均一な分布を図５のステップＳ５
１０で測定し、プロファイルが測定済であることを示す
フラグをステップＳ５１１でＯＮにする。
【００２８】ここで、ミラー保護シャッタを閉めてもよ
いが、すぐに露光処理を行なうので本実施例では特に閉
動作をしていない。そして、ステップＳ５１２〜Ｓ５１
４で先の実施例と同様にオートフォーカス（ＡＦ）、オ
ートアライメント（ＡＡ）を行い、ミラー保護シャッタ
を開けた後、露光処理を行う。露光処理はＳＯＲ光４の
照度プロファイルに基づいて計算された駆動方法によっ
て露光量調節シャッタ駆動部２６を介して露光量調節シ
ャッタ１１を駆動する。具体的には、ステップＳ５１０
の測定結果に基づいて、ウェハ１３上に塗布されたレジ
ストの感光度が均一となるように露光量調節シャッタの
ベルト６１を可変速駆動する。即ち、あるＹ点におい
て、露光制御用開口部６５の前縁６６が通過してから後
縁６７が通過するまでの時間（露光時間）を制御するの
みである。
いが、すぐに露光処理を行なうので本実施例では特に閉
動作をしていない。そして、ステップＳ５１２〜Ｓ５１
４で先の実施例と同様にオートフォーカス（ＡＦ）、オ
ートアライメント（ＡＡ）を行い、ミラー保護シャッタ
を開けた後、露光処理を行う。露光処理はＳＯＲ光４の
照度プロファイルに基づいて計算された駆動方法によっ
て露光量調節シャッタ駆動部２６を介して露光量調節シ
ャッタ１１を駆動する。具体的には、ステップＳ５１０
の測定結果に基づいて、ウェハ１３上に塗布されたレジ
ストの感光度が均一となるように露光量調節シャッタの
ベルト６１を可変速駆動する。即ち、あるＹ点におい
て、露光制御用開口部６５の前縁６６が通過してから後
縁６７が通過するまでの時間（露光時間）を制御するの
みである。
【００２９】この方式において、ベルト６１の移動方向
６９を一方向固定とし、露光制御は図６の表側に露光制
御用開口部６５があるときのみとすると、１ショット露
光後にベルト６１を元の露光開始位置まで戻す必要があ
る。その戻し駆動の際にも露光制御用開口部６５と後面
開口部６８とが同時に開状態になることがあるので、戻
し駆動時には露光量調節シャッタ１１にはＸ線が照射し
ていてはならない。そこで、本例では図５のステップＳ
５１５でミラー保護シャッタ８を閉めた後、ステップＳ
５１７のステップ移動、あるいはステップＳ５１８のウ
ェハ回収の際に露光量調節シャッタ１１のベルト６１を
戻している。ここでは、ミラー保護シャッタ８はミラー
の保護だけでなく、望まない露光を避けるための補助シ
ャッタとしての機能を兼ねている。
６９を一方向固定とし、露光制御は図６の表側に露光制
御用開口部６５があるときのみとすると、１ショット露
光後にベルト６１を元の露光開始位置まで戻す必要があ
る。その戻し駆動の際にも露光制御用開口部６５と後面
開口部６８とが同時に開状態になることがあるので、戻
し駆動時には露光量調節シャッタ１１にはＸ線が照射し
ていてはならない。そこで、本例では図５のステップＳ
５１５でミラー保護シャッタ８を閉めた後、ステップＳ
５１７のステップ移動、あるいはステップＳ５１８のウ
ェハ回収の際に露光量調節シャッタ１１のベルト６１を
戻している。ここでは、ミラー保護シャッタ８はミラー
の保護だけでなく、望まない露光を避けるための補助シ
ャッタとしての機能を兼ねている。
【００３０】以降、ステップＳ５１５〜Ｓ５２６は図３
のステップＳ３１１〜Ｓ３２２と同様である。但し、本
実施例ではＳＯＲリングに電子注入をする度に照度プロ
ファイルを測定するので、ステップＳ５２７でプロファ
イル測定済フラグをＯＦＦするという処理が入る。
のステップＳ３１１〜Ｓ３２２と同様である。但し、本
実施例ではＳＯＲリングに電子注入をする度に照度プロ
ファイルを測定するので、ステップＳ５２７でプロファ
イル測定済フラグをＯＦＦするという処理が入る。
【００３１】以上述べたように、本発明ではＸ線ミラー
９や露光量制御シャッタ１１の構成を特に限定すること
なく、種々の露光装置に用いることができる。
９や露光量制御シャッタ１１の構成を特に限定すること
なく、種々の露光装置に用いることができる。
【００３２】なお、上記実施例では、ウェハカセットを
回収した後にマスクを交換することになっているが、ウ
ェハカセットの全ウェハが露光終了する前にマスクを交
換することも可能である。
回収した後にマスクを交換することになっているが、ウ
ェハカセットの全ウェハが露光終了する前にマスクを交
換することも可能である。
【００３３】また、第１の遮断手段として鉛シャッタと
記述してきたが、前述したα粒子、β粒子、ガンマ線、
中性子等の放射線を遮断する材料を選べばよく、タング
ステン、鉄、ステンレス、銅等の金属等を用いてもよ
い。
記述してきたが、前述したα粒子、β粒子、ガンマ線、
中性子等の放射線を遮断する材料を選べばよく、タング
ステン、鉄、ステンレス、銅等の金属等を用いてもよ
い。
【００３４】鉛シャッタを設置する位置は遮蔽壁の上流
でも下流でも良いが、露光室内の任意の位置から見て、
遮蔽壁も鉛シャッタも通さずにＳＯＲリング１を見込む
角が存在しないことが条件である。
でも下流でも良いが、露光室内の任意の位置から見て、
遮蔽壁も鉛シャッタも通さずにＳＯＲリング１を見込む
角が存在しないことが条件である。
【００３５】図８に示すように、仕切壁６のダクト穴８
を対角線状に結んだ線を延長した線をｌ1、鉛シャッタ
５の端と、その点からも最も近いダクト穴の端とを結ん
だ線を延長した線をｌ2とすると、ｌ1よりも角度が浅
く、ｌ2よりも角度が深い領域（同図上に斜線で示した
範囲）は、露光室から望むことができる。したがって、
この範囲内にＳＯＲリング１が存在しないように鉛シャ
ッタを配置すれば上記条件を満たしたといえる。
を対角線状に結んだ線を延長した線をｌ1、鉛シャッタ
５の端と、その点からも最も近いダクト穴の端とを結ん
だ線を延長した線をｌ2とすると、ｌ1よりも角度が浅
く、ｌ2よりも角度が深い領域（同図上に斜線で示した
範囲）は、露光室から望むことができる。したがって、
この範囲内にＳＯＲリング１が存在しないように鉛シャ
ッタを配置すれば上記条件を満たしたといえる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ビームポート中のＳＯＲリングとミラーとの間に鉛シャ
ッタを設け、ＳＯＲ制御装置から制御するようにしてい
るので、露光装置が稼働中か否かを考慮することなくＳ
ＯＲリングの電子注入・停止の際に発生するガンマ線な
どの放射性を確実に遮断することができ、人体に及ぼす
影響を除くと同時にミラーに損傷をも低減させ、長期に
わたるミラー反射率の安定化及びメンテナンスの容易化
をなす効果がある。また、それぞれのシャッタの機能が
明確にわかれているので、機能重視の最適な設計が可能
となる。
ビームポート中のＳＯＲリングとミラーとの間に鉛シャ
ッタを設け、ＳＯＲ制御装置から制御するようにしてい
るので、露光装置が稼働中か否かを考慮することなくＳ
ＯＲリングの電子注入・停止の際に発生するガンマ線な
どの放射性を確実に遮断することができ、人体に及ぼす
影響を除くと同時にミラーに損傷をも低減させ、長期に
わたるミラー反射率の安定化及びメンテナンスの容易化
をなす効果がある。また、それぞれのシャッタの機能が
明確にわかれているので、機能重視の最適な設計が可能
となる。
【図１】本発明の実施例に係わるＳＯＲ露光システムの
概略構成図である。
概略構成図である。
【図２】上記実施例におけるＳＯＲ制御装置の動作手順
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図３】上記実施例における露光装置制御系の動作手順
を示すフローチャートである。
を示すフローチャートである。
【図４】上記実施例のＸ線ミラー、露光量調節シャッタ
部分の構成の一態様を示す概略構成図である。
部分の構成の一態様を示す概略構成図である。
【図５】上記実施例における露光装置制御系の動作手順
の他の例を示すフローチャートである。
の他の例を示すフローチャートである。
【図６】図５の実施例のＸ線ミラー、露光量調節シャッ
タ部分の構成の一態様を示す概略構成図である。
タ部分の構成の一態様を示す概略構成図である。
【図７】図５の実施例におけるウェハ上に照射されるＸ
線の強度分布を示すフラグである。
線の強度分布を示すフラグである。
【図８】鉛シャッタの設置位置を説明するための配置図
である。
である。
【図９】従来のＳＯＲ露光システムの部屋配置を示す該
略図である。
略図である。
１ ＳＯＲリング ２ Ｘ線露光装置 ５ 鉛シャッタ ８ ミラー保護シャッタ ９ Ｘ線反射ミラー １１ 露光量調節シャッタ ２１ ＳＯＲ制御装置 ２２ 露光装置制御系
Claims (3)
- 【請求項１】 シンクロトロン放射光を発生するＳＯＲ
リングと前記シンクロトロン放射光に露光処理を行なう
少なくとも１つの露光装置と、前記ＳＯＲリングと前記
露光装置の各々とを接続し前記シンクロトロン放射光を
導くビームポートと、前記ビームポート中に設けられ、
前記シンクロトロン放射光を鉛直方向に拡大させるため
のＸ線反射ミラーにより構成されるＳＯＲ露光システム
において、 前記ビームポート中の前記ＳＯＲリングと前記ミラーと
の間に、少なくともガンマ線を遮断する第１遮断手段
と、Ｘ線を遮断する第２遮断手段を設けると共に、前記
ミラーとウェハとの間にマスク上の回路パターンを前記
ウェハに転写する際の露光量を制御する露光量調節手段
とを設けたことを特徴とするＳＯＲ露光システム。 - 【請求項２】 前記第１遮断手段は前記ガンマ線が発生
する際に遮断状態とされ、前記第２遮断手段は露光処理
を行なう際に透過状態とされることを特徴とする請求項
１に記載のＳＯＲ露光システム。 - 【請求項３】 前記第１遮断手段は前記ＳＯＲリングを
制御するＳＯＲ制御装置によって制御され、前記第２遮
断手段は前記Ｘ線露光装置を制御する露光装置制御系に
よって制御され、前記ＳＯＲ制御装置と前記露光装置制
御系がそれぞれの制御状態を通信する事を特徴とする請
求項２に記載のＳＯＲ露光システム。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222889A JPH0562885A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | Ｓｏｒ露光システム |
| EP92307863A EP0531066B1 (en) | 1991-09-03 | 1992-08-28 | Sor exposure system and method of manufacturing semiconductor device using same |
| DE69223202T DE69223202T2 (de) | 1991-09-03 | 1992-08-28 | Synchrotron-Belichtungssystem und Verfahren zur Herstellung von Halbleitervorrichtungen unter Verwendung dieses Systems |
| CA002077237A CA2077237C (en) | 1991-09-03 | 1992-08-31 | Sor exposure system and method of manufacturing semiconductor devices using same |
| US08/272,374 US5581590A (en) | 1991-09-03 | 1994-07-06 | SOR exposure system and method of manufacturing semiconductor devices using same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222889A JPH0562885A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | Ｓｏｒ露光システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0562885A true JPH0562885A (ja) | 1993-03-12 |
Family
ID=16789462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3222889A Pending JPH0562885A (ja) | 1991-09-03 | 1991-09-03 | Ｓｏｒ露光システム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5581590A (ja) |
| EP (1) | EP0531066B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0562885A (ja) |
| CA (1) | CA2077237C (ja) |
| DE (1) | DE69223202T2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3666951B2 (ja) | 1995-10-06 | 2005-06-29 | キヤノン株式会社 | マーク検出方法、これを用いた位置合わせ方法、露光方法及び装置、ならびにデバイス生産方法 |
| JP3138253B2 (ja) * | 1997-03-27 | 2001-02-26 | キヤノン株式会社 | Ｘ線装置およびこれを用いたｘ線露光装置ならびにデバイス製造方法 |
| JP2000294523A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-20 | Sony Corp | 半導体製造装置および半導体装置の製造方法 |
| US20020061309A1 (en) * | 2000-03-08 | 2002-05-23 | Garger Stephen J. | Production of peptides in plants as N-terminal viral coat protein fusions |
| JP2002299221A (ja) * | 2001-04-02 | 2002-10-11 | Canon Inc | Ｘ線露光装置 |
| WO2004079752A2 (en) * | 2003-03-04 | 2004-09-16 | Inpho, Inc. | Systems and methods for controlling an x-ray source |
| DE102012020636A1 (de) * | 2012-10-20 | 2014-04-24 | Forschungszentrum Jülich GmbH Fachbereich Patente | Bandförmiger Chopper für einen Teilchenstrahl |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6380532A (ja) * | 1986-09-24 | 1988-04-11 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線リソグラフイ装置 |
| JP2611762B2 (ja) * | 1986-12-01 | 1997-05-21 | キヤノン株式会社 | Ｓｏｒ露光装置 |
| JPH0355800A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Mitsubishi Electric Corp | Ｓｏｒ装置 |
-
1991
- 1991-09-03 JP JP3222889A patent/JPH0562885A/ja active Pending
-
1992
- 1992-08-28 EP EP92307863A patent/EP0531066B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-08-28 DE DE69223202T patent/DE69223202T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-08-31 CA CA002077237A patent/CA2077237C/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-07-06 US US08/272,374 patent/US5581590A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2077237C (en) | 1998-08-18 |
| DE69223202D1 (de) | 1998-01-02 |
| DE69223202T2 (de) | 1998-04-16 |
| EP0531066B1 (en) | 1997-11-19 |
| EP0531066A1 (en) | 1993-03-10 |
| US5581590A (en) | 1996-12-03 |
| CA2077237A1 (en) | 1993-03-04 |
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