DE69026140T2 - Verfahren zum Entwickeln von Trockenflachdruckplatten - Google Patents

Verfahren zum Entwickeln von Trockenflachdruckplatten

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DE69026140T2 DE1990626140 DE69026140T DE69026140T2 DE 69026140 T2 DE69026140 T2 DE 69026140T2 DE 1990626140 DE1990626140 DE 1990626140 DE 69026140 T DE69026140 T DE 69026140T DE 69026140 T2 DE69026140 T2 DE 69026140T2
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser erfordert, das durchgeführt wird unter Verwendung eines Entwicklers zum Entwickeln einer vorsensibilisierten Platte ("wasserfreie PS-Platte") für die Verwendung zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die eine Siliconkautschukschicht als Druckfarbe abweisende Schicht aufweist und kein Anfeuchtungswasser während des Druckens benötigt ("wasserfreie lithographische Druckplatte"). Die vorliegende Erfindung bezieht sich insbesondere auf ein Verfahren, bei dem ein Entwickler für eine wasserfreie PS-Platte verwendet wird, die ausgezeichnete Eigenschaften in bezug auf Sicherheit, Entwickelbarkeit und Rasterpunkt-Wiedergabe aufweist.
  • Es sind bereits verschiedene Arten von wasserfreien PS- Platten für lithographische Druckplatten vorgeschlagen worden, die eine Siliconkautschukschicht als Druckfarbenabweisende Schicht aufweisen. Insbesondere diejenigen, die beispielsweise in JP-B-54-26 923 und in JP-B-56-23 150 beschrieben sind, umfassen auf einem Substrat eine photopolyinerisierbare Haftschicht (Klebstoffschicht) und eine Siliconkautschukschicht in der genannten Reihenfolge. Diese wasserfreie PS-Platte wird mit aktinischer Strahlung bildmäßig belichtet durch einen positiven Film hindurch, der mit der PS-Platte unter Vakuum in engem Kontakt steht, es wird nur die Siliconkautschukschicht der unbelichteten Abschnitte der belichteten wasserfreien PS-Platte selektiv abgelöst (abgezogen) durch Eintauchen der belichteten Platte in einen Entwickler, der besteht aus oder hauptsächlich umfaßt einen paraffinischen Kohlenwasserstoff, um die darunterliegende unbelichtete photopolymerisierbare Haftschicht (Klebstoffschicht) freizulegen und auf diese Weise Druckfarbe aufnehmende Bildabschnitte zu erzeugen. Andererseits quillt die Siliconkautschukschicht auf den freiliegenden Abschnitten mit dem Entwickler auf, sie haftet jedoch fest an der photopolymerisierbaren Klebstoffschicht (Haftschicht) und deshalb verbleibt sie auf der Oberfläche der Platte. Die zuletzt genannten Abschnitte dienen als Druckfarbe abweisende bildfreie Abschnitte. Auf diese Weise wird eine wasserfreie lithographische Druckplatte hergestellt.
  • Die nach einem solchen Plattenherstellungsverfahren erhaltene wasserfreie lithographische Druckplatte weist häufig eine schlechte Wiedergabe der feinen Rasterpunkte auf, wenn sie unvollständig entwickelt wird, weil ein Teil der Siliconkautschukschicht auch auf den Abschnitten zurückbleibt, von denen sie vollständig abgelöst (abgezogen) oder entfernt werden sollte. Wenn darüber hinaus die Plattenoberfläche übermäßig stark gerieben wird, wird selbst die Siliconkautschukschicht, die auf der Oberfläche der Druckplatte angeordnet sein muß und als bildfreie Abschnitte fungiert, beschädigt.
  • Unter diesen Umständen wurde zur Verbesserung der Entwikkelbarkeit einer wasserfreien PS-Platte ein Verfahren vorgeschlagen, bei dem ein polares Lösungsmittel, das sogar die photopolymerisierbare Haftschicht (Klebstoffschicht) auflösen kann, dem Entwickler zugesetzt wird, um einen Teil der lichtempfindlichen Schicht aufzulösen, während die Siliconkautschukschicht durch Reiben der Plattenoberfläche entfernt wird. Die lichtempfindliche Schicht der bildfreien Abschnitte quillt jedoch ebenfalls bis zu einem gewissen Umfang auf, wenn die Menge des polaren Lösungsmittels zunimmt, und als Folge davon wird auch die Siliconkautschukschicht auf den bildfreien Abschnitten abgerieben. Wenn andererseits die Menge des polaren Lösungsmittels unzureichend ist, ist ein zufriedenstellender Effekt, der durch die Zugabe erzielt werden soll, nicht zu erwarten.
  • In JP-B-63-21 890 (US-A-4 378 423) wird die Verwendung einer spezifischen Propylenoxid-Verbindung unter den polaren Lösungsmitteln vorgeschlagen, welche die Entwickelbarkeit der Entwickler verbessert. Außerdem lösen die resultierenden Entwickler die lichtempfindliche Schicht der Bildabschnitte nicht heraus und bringen die lichtempfindliche Schicht der bildfreien Abschnitte auch dann nicht zum Aufquellen, wenn die Menge der Propylenoxid-Verbindung erhöht wird. Deshalb können die Entwickler eine lithographische Druckplatte ergeben, bei der die schattierten Abschnitte, die feine Rasterpunkte aus dem Siliconkautschuk aufweisen, ausreichend wiedergegeben werden.
  • Der Entwickler besteht jedoch zu 100 % aus organischen Lösungsmitteln und deshalb tritt ein Sicherheitsproblem auf, weil er leicht Feuer fangen kann.
  • Unter diesen Umständen haben die Erfinder der vorliegenden Erfindung umfangreiche Untersuchungen durchgeführt, um einen Entwickler für wasserfreie PS-Platten mit einer Siliconkautschukschicht als Druckfarbe abweisender Schicht zu schaffen, der sich unter den üblichen Bedingungen durch solubilisierung desselben in Wasser nicht entzündet, und sie haben versucht, einen Entwickler für wasserfreie PS- Platten herzustellen, der hauptsächlich Wasser umfaßt, dem die obengenannte Propylenoxid-Verbindung nach Verfahren zugesetzt wird, wie sie in JP-A-1-159 644 (EP-A-320 945) und JP-A-61-275 759 beschrieben sind. Den Erfindern ist es jedoch nicht gelungen, einen solchen Entwickler zu entwikkeln, weil die Propylenoxid-Verbindung in Wasser gut löslich ist.
  • Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser erfordert, zu schaffen, das durchgeführt wird unter Verwendung eines Entwicklers für wasserfreie PS-Platten, der ausgezeichnete Eigenschaften in bezug auf Sicherheit, Entwicklungsvermögen und Rasterpunkt-Wiedergabe aufweist.
  • Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben verschiedene Untersuchungen durchgeführt, um das obengenannte Ziel zu erreichen und als Ergebnis haben sie gefunden, daß dann, wenn ein spezifisches Ethylenglycol-Derivat selbst in einer geringen Menge verwendet wird, ein Entwickler für wasserfreie PS-Platten erhalten werden kann, der ein ausreichendes Entwicklungsvermögen aufweist, um eine Siliconkautschukschicht auf Bildbereichen zu entfernen, und der eine ausgezeichnete Rasterpunktwiedergabe aufweist. Auf der Basis dieser Erkenntnisse beruht die vorliegende Erfindung.
  • Das obengenannte Ziel wurde erreicht durch Schaffung eines Verfahrens zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Anfeuchtungswasser benötigt, das die folgenden Stufen umfaßt:
  • (1) bildmäßiges Belichten einer vorsensibilisierten Platte, die umfaßt ein Substrat, auf das in der genannten Reihenfolge eine photopolymerisierbare Haftschicht (Klebstoffschicht) und eine Siliconkautschukschicht aufgebracht sind, mit Licht; und
  • (2) Entwickeln der resultierenden Platte mit einem Entwickler, wobei der Entwickler umfaßt:
  • a) Wasser,
  • b) mindestens ein Ethylenglycol-Derivat der folgenden Formel (I):
  • CmH&sub2;m+1(OCH&sub2;CH&sub2;)nOH (I)
  • worin m eine ganze Zahl von 5 bis 8 und n die Zahl 1 oder 2 darstellen, und
  • c) einen Solubilisator (Lösungsvermittler) zum Solubilisieren des genannten Ethylenglycol- Derivats in Wasser, der ausgewählt wird aus der Gruppe, die besteht aus
  • i) einem anionischen oberflächenaktiven Agens (Tensid), ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus:
  • Alkansulfonsäuren, Hydroxyalkansulfonsäuresalzen, Dialkylsulfobernsteinsäuresalzen, linearen Alkylbenzolsulfonsäuresalzen, verzweigten Alkylbenzolsulfonsäuresalzen, Alkylnaphthalinsulfonsäuresalzen, Alkyldiphenylethersulfonsäuresalzen, Alkylphenoxypolyoxyethylenpropylsulfonsäuresalzen, Polyoxyethylenalkylsulfophenyläthersalzen, Natrium-N- methyl-N-oleyltaurin, Dinatrium-N-alkylsulfobernsteinsäuremonoamid, Petroleumsulfonsäuresalzen, sulfatiertem Rizinusöl, Schwefelsäureestersalzen von Alkylfettsäureestern, Alkylschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkyletherschwefelsäureestersalzen, Fettsäuremonoglyceridschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenstyrylphenyletherschwefel säureestersalzen, Alkylphosphorsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkyletherphosphorsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkylphenyletherphosphorsäureestersalzen, partiell veresterten Produkten von Styrol/Maleinsäsureanhydrid-Copolymeren, partiell veresterten Produkten von Olefin/Maleinsäureanhydrid-Copolymeren, Polyoxyethylennaphthyletherschwefelsäureestersalzen und Naphthalinsulfonsäuresalz- Formalin-Kondensaten; oder
  • ii) einer wasserlöslichen aromatischen Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, die besteht aus:
  • Natriumbenzolsulfonat, Natrium-m-benzoldisulfonat, Ammoniumbenzolsulfonat, Natriumsalicylat, Natrium-p-Toluolsulfonat, Natrium-dimethylbenzolsulfonat, Natrium-p-chlorobenzolsulfonat, Natriumbenzoat, Natrium-p-methoxybenzoat, Natrium-p-ethoxybenzoat, Natrium-o, -m- und -p-methylbenzoat, Natrium-o-, -m- und -p-chlorobenzoat, Natrium-p- ethylbenzoat, Natrium-1-naphthalinsulfonat und Natrium-2- naphthalinsulfonat.
  • Das Ethylenglycolderivat der allgemeinen Formel (I) kann allein oder in Form einer Kombination desselben verwendet werden und seine Menge liegt vorzugsweise in dem Bereich von 1 bis 40 Gew.-%, besonders bevorzugt von 5 bis 15 Gew.-%.
  • Der erfindungsgemäß verwendete Entwickler wird erhalten durch Solubilisieren des Ethylenglycolderivats in Wasser mit Hilfe eines Solubilisators (Lösungsvermittlers). Zu spezifischen Beispielen für das Ethylenglycol-Derivat gehören Diethylenglycol-mono-n-pentylether, Diethylenglycol mono-n-hexylether, Diethylenglycol-mono-n-heptylether, Diethylenglycol-mono-n-octylether, Ethylenglycol-mono-n- pentylether, Ethylenglycol-mono-n-hexylether, Ethylenglycol-mono-n-heptylether und Ethylenglycol-mono-n- octylether.
  • Der Entwickler kann gegebenenfalls eine organische Säure und/oder ein Amin enthalten zur Verbesserung seines Entwicklungsvermögens, die ausgewählt werden in Abhängigkeit von den Arten der photopolymerisierbaren Klebstoffschichten (Haftschichten) der wasserfreien-PS-Platten. Zu spezifischen Beispielen für diese organischen Säuren gehören Essigsäure, Propionsäure, n-Buttersäure, Isobuttersäure, n-Valerinansäure, Isovaleriansäure, Methylethylessigsäure, Trimethylessigsäure, Capronsäure, Isocapronsäure, α-Methylvaleriansäure, 2-Ethyl-n-buttersäure, Önanthsäure, Caprylsäure, 2-Ethylhexansäure und Milchsäure; und spezifische Beispiele für diese Amine sind Methylamin, Ethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Triethylamin, Propylamin, Butylamin, Amylamin, Dipropylamin, Dibutylamin, Diamylamin, Tripropylamin, Tributylamin, Methyldiethylamin, Ethylendiamin, Trimethylendiamin, Tetramethylendiamin, Benzylamin, N,N-Dimethyl-benzylamin, N,N-Diethyl-benzylamin, o-, m- oder p-Methoxy- oder -Methyl-benzylamin, N,N-Dimethoxybenzyl) amin, β-Phenylethylamin, γ-Phenylpropylamin, Cyclohexylamin, α- oder β-Naphthylamin, o-, m- oder p-Phenylendiamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, 2-Methylaminomethanol, 2-Ethylaminoethanol, 2-(2- Aminoethyl)-ethanol, 2-Amino-2-methyl-1,3-propandiol, 2- Amino-1,3-propandiol, 2-Amino-2-hydroxymethyl-1,3-propandiol, 3-Methoxypropylamin, 3-Ethoxypropylamin, 3-Propoxypropylamin, 3-Isopropoxypropylamin, 3-Butoxypropylamin, 3- Isobutoxypropylamin, 2-Ethylhexyloxypropylamin, 2-Ethoxyethylamin, 2-Propoxyethylamin und 2-Butoxyethylamin.
  • Die bevorzugt verwendeten anionischen oberflächenaktiven Agentien (Tenside) sind Alkylnaphthalinsulfonsäuresalze, Alkyldiphenylethersulfonsäuresalze, lineare Alkylbenzolsulfonsäuresalze, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelsäureestersalze und Po lyoxyethylennaphthyletherschwefelsäureestersalze. Diese oberflächenaktiven Agentien (Tenside) werden vorzugsweise in einer Menge von 0,01 bis 20 Gew.-% verwendet.
  • In dem erfindungsgemäß verwendeten Entwickler wird nur eine geringe Menge eines oberflächenaktiven Agens (Tensids) verwendet zur Solubilisierung des Ethylenglycol-Derivats und der gegebenenfalls vorhandenen weiteren Zusätze in Wasser, weil das Ethylenglycol-Derivat selbst als oberflächenaktives Agens (Tensid) wirkt und deshalb der Gesamtgehalt an organischen Substanzen klein wird verglichen mit demjenigen für die üblichen Entwickler auf Wasserbasis. Dies ist auch eines der wichtigen Merkmale der vorliegenden Erfindung.
  • Die wasserlösliche aromatische Verbindung wird vorzugsweise in einer Menge von 0,1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers, verwendet.
  • Zusätzlich zu den obengenannten Komponenten kann der Entwickler einen Farbstoff wie Kristallviolett oder Astrazone Red enthalten, wodurch die Bildabschnitte gleichzeitig mit der Entwicklung gefärbt werden können.
  • Beispiele für wasserfreie PS-Platten, die zweckmäßig mit dem erfindungsgemäß verwendeten Entwickler entwickelt werden, sind solche, die eine Siliconkautschukschicht als Druckfarbe abweisende Schicht enthalten, insbesondere solche, die auf einem Substrat eine photopolymerisierbare Klebstoffschicht (Haftschicht) und eine Siliconkautschukschicht in der genannten Reihenfolge aufweisen.
  • Das Substrat der PS-Platte muß ausreichend flexibel sein, damit die resultierende wasserfreie lithographische Druckplatte auf eine Druckerpresse paßt, und es muß gegen die während des Druckens auf die Platte einwirkende Belastung beständig sein. Typische Beispiele dafür sind beschichtetes Papier; Metallplatten, z.B. Platten aus rostfreiem Stahl, Eisen, Aluminium und Aluminiumlegierungen; Kunststoffilme, z.B. Polyethylenterephthalatfilme; und Papier oder Kunststoffilme, auf die Blätter (Folien) der obengenannten Metalle auflaminiert sind oder auf denen Metallschichten abgeschieden worden sind. Unter diesen Substraten ist eine Aluminiumplatte besonders erwünscht wegen ihrer hohen Dimensionsbeständigkeit und ihrer geringen Kosten.
  • Die Dicke der photopolymerisierbaren Klebstoffschicht (Haftschicht) ist nicht kritisch, so lange die Schicht die Oberfläche des Substrats gleichmäßig bedeckt und in engem Kontakt mit dem Substrat steht, sie beträgt jedoch vorzugsweise nicht mehr als 100 µm, besonders bevorzugt nicht mehr als 50 µm. Zwischen dem Substrat und der photopolymerisierbaren Klebstoffschicht (Haftschicht) kann gegebenenfalls eine Verankerungs-Überzugsschicht (oder eine Primer- Schicht) vorgesehen sein zur Verbesserung der Haftung zwischen beiden und um eine Halation (Lichthofbildung) zu verhindern.
  • Der Verankerungsüberzug kann ein Epoxyharz, wie es in JP- A-61-54 219 beschrieben ist, enthalten oder bestehen aus beispielsweise einem Urethanharz, einem Phenolharz, einem Acrylharz, einem Alkydharz, einem Polyesterharz, einem Polyamidharz und einem Melaminharz. Der Verankerungsüberzug kann eine durch Licht gehärtete Schicht mit ähnlicher Zusammensetzung wie eine lichtempfindliche Schicht sein. Außerdem kann der Verankerungsüberzug einen Zusatz, z.B. eine Farbstoff und ein Pigment, enthalten, um einen Antihalationseffekt oder andere Effekte zu erzielen.
  • Die Dicke des Verankerungsüberzugs beträgt zweckmäßig 1 bis 50 g/m², ausgedrückt als Beschichtungsmenge.
  • Die photopolymerisierbare Klebstoffschicht (Haftschicht) kann die folgende Zusammensetzung haben:
  • 1) ein photopolymerisierbares ungesättigtes Monomer oder Oligomer mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100ºC 1,0 bis 99,9 Gew.-%
  • 2) ein Photosensibilisator 0,1 bis 20,0 Gew.-%
  • 3) ein gegebenenfalls vorhandener Wärmepolymerisationsinhibitor 0,01 bis 20,0Gew.-%
  • 4) ein Polymer oder ein anorganisches Pulver als gegebenenfalls vorhandener Füllstoff zur Aufrechterhaltung der Gestalt der photopolymerisierbaren Klebstoffschicht (Haftschicht) 0,01 bis 95,0Gew. -%
  • Typische Beispiele für das photopolymerisierbare Monomer oder Oligomer sind (Meth)Acrylate oder (Meth)Acrylamide mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100ºC, die von monovalenten Alkoholen oder monovalenten Ammen mit nicht mehr als 30 Kohlenstoffatomen abgeleitet sind; und (Meth)- Acrylate oder (Meth)Acrylamide mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100ºC, die von Polyhydroxyalkoholen oder polyvalenten Ammen mit nicht mehr als 80 Kohlenstoffatomen abgeleitet sind.
  • Typische Beispiele für den Photosensibilisator sind Benzophenon, Bis(dialkylamino)benzophenon, Xanthon, Chloroxanthon, Acridon, N-Alkylacridon, N-Alkylchloroacridon, Benzoinmethylether und Dibenzylsulfid. Der Sensibilisator kann allein oder in Form einer Kombination desselben verwendet werden.
  • Typische Beispiele für den Wärmepolymerisationsinhibitor sind Hydrochinon, Phenothiazin, 2,4-Dinitrophenol und Triphenylmethan.
  • Darüber hinaus sind Beispiele für den mit Erfolg verwendbaren Füllstoff Polymere, wie (Meth) Acrylat-Copolymere, Polyester, Polyurethane, Polyesterurethane und Polyamide; und ein anorganisches Pulver, wie kolloidales Siliciumdioxid-Pulver und Calciumcarbonat-Pulver.
  • Die Dicke der Siliconkautschukschicht liegt zweckmäßig in dem Bereich von 0,5 bis 50 µm, vorzugsweise von 0,5 bis 5 µm. Beispiele für den Siliconkautschuk sind Siliconkautschuk-Zusammensetzungen vom sogenannten Kondensations- Typ, die hauptsächlich lineares organopolysiloxan (vorzugsweise Dimethylpolysiloxan) mit einem Molekulargewicht in dem Bereich von 100 bis 100 000 umfassen, das durch eine Kondensationsreaktion zwischen den Enden vernetzt wird; und Siliconkautschuk-Zusammensetzungen vom sogenannten Additions-Typ, die erhalten werden durch Umsetzung von linearen Organopolysiloxanen, die eine Vinylgruppe an jedem Ende oder in der Hauptkette aufweisen, mit einem Vernetzungsmittel, das eine Methylhydrogensiloxaneinheit aufweist, in Gegenwart eines Platin-Katalysators. Die Siliconkautschukschicht weist ein Druckfarben- Abstoßungsvermögen auf und ihre Oberfläche ist bis zu einem gewissen Grade klebrig. Deshalb besteht die Neigung, daß Staub sich darauf ablagert, und als Folge davon ist häufig zu beobachten, daß ein positiver Film mit der Oberfläche während der bildmäßigen Belichtung einer PS-Platte nicht ausreichend in Kontakt steht. Aus diesem Grund kann ein dünner transparenter Schutzfilm auf die Oberfläche der Siliconkautschukschicht auflaminiert werden. Dieser Schutzfilm ist nützlich in dem Verfahren zur bildmäßigen Belichtung, er sollte jedoch durch Abziehen oder Auflösen während der Entwicklung entfernt werden und er ist in dem Druckverfahren (Vervielfältigungsverfahren) unnötig. Verwendbare Schutzfilme sind solche, die eine ausreichende Transparenz aufweisen, so daß ultraviolette Strahlen sie passieren können, und die eine Dicke von nicht mehr als 100 µm, vorzugsweise von nicht mehr als 10 µm, haben. Typische Beispiele dafür sind Filme aus den folgenden Materialien: Polyethylen, Polypropylen, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylalkohol, Polyethylenterephthalat und Cellophan.
  • Es ist auch möglich, Punktmuster auf der Oberfläche des Schutzfilms zu erzeugen, um die Befestigung des positiven Films auf einem Vakuumdruckrahmen zu erleichtern.
  • Der positive Film wird auf der resultierenden wasserfreien PS-Platte mit dem obengenannten Aufbau unter Vakuum montiert unter Verwendung des konventionellen Vakuumdruckrahmens. Die PS-Platte wird durch den Film hindurch mit aktinischer Strahlung bestrahlt. Wenn der Schutzfilm vorhanden ist, wird er abgezogen und dann kann nur die Siliconkautschukschicht auf den Bildabschnitten durch schwaches Reiben der Oberfläche derselben mit Gaze oder einem weichen Pad, beispielsweise einem nicht-gewebten Gewebe (Vlies) unter Verwendung des erfindungsgemäß verwendeten Entwicklers entfernt werden, wodurch die photopolymerisierbare Klebstoffschicht (Haftschicht) der Bildabschnitte freigelegt werden kann.
  • Erforderlichenfalls kann die freigelegte photopolymensierbare Klebstoffschicht (Haftschicht) mit einer Färbelösung, wie sie in JP-A-54-103 103 beschrieben ist, angefärbt werden.
  • Die obengenannten Verfahren können mit einer automatischen Entwicklungsvorrichtung vom Platten-Förder-Typ durchgeführt werden, die umfaßt einen Entwicklungsbereich und gegebenenfalls einen Färbebereich, von denen jeder mit einer rotierende Bürste so ausgestattet ist, daß sie der Platte gegenüberliegt. Die in dem Entwicklungsbereich angeordnete rotierende Bürste wird vorzugsweise in Rotation versetzt entlang der Plattenförderrichtung und in Richtung der Rotationswelle der rotierenden Bürste oszilliert, während die in dem Trocknungsbereich angeordnete rotierende Bürste vorzugsweise in einer Richtung entgegengesetzt zu der Plattenförderrichtung in Rotation versetzt wird. Der Entwickler und die Färbelösung (Farbstofflösung) werden durch ein Sprührohr in dem Entwicklungsbereich bzw. in dem Färbebereich auf die Plattenoberfläche aufgesprüht.
  • Die Sicherheit bei der Behandlung (Entwicklung) der wasserfreien PS-Platte kann durch Verwendung des erfindungsgemäß eingesetzten Entwicklers verbessert werden, der ein ausgezeichnetes Entwicklungsvermögen aufweist, und außerdem können wasserfreie lithographische Druckplatten bereitgestellt werden, die eine ausgezeichnete Rasterpunkt Wiedergabe aufweisen und bei denen keine Defekte wie Kratzer auftreten.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren wird nachstehend unter Bezugnahme auf die folgenden Ausführungsbeispiele näher erläutert und die Effekte, die in der Praxis erfindungsgemäß erzielt werden, werden ebenfalls im Detail erläutert. In den folgenden Beispielen steht der Ausdruck "%", wenn nichts anderes angegeben ist, für "Gew.-%".
    • Beispiel 1
  • Eine glatte Aluminiumplatte, die auf übliche Weise entfettet und mit einer wäßrigen Natriumsilicatlösung behandelt worden war, wurde mit einer 0,1 %igen wäßrigen Lösung von γ-Aminopropyltrimethoxysilan 10 s lang behandelt und dann 1 min lang bei 140ºC getrocknet. Auf die Oberfläche der Aluminiumplatte wurde eine Titanweiß-Dispersion mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung aufgebracht zur Bildung einer Primer-Schicht. Die Beschichtungsmenge derselben betrug 4,0 g/m² (bezogen auf das Trockengewicht). Titanweiß-Dispersion Komponente Menge (Gew.-Teile) Paraprene P26SRNAT (erhältlich von der Firma Nippon Polyurethane Co., Ltd.) Methylethylketon Dimethylsulfoxid
  • Eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Zusammensetzung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde auf die Primer-Schicht aufgebracht zur Bildung einer lichtempfindlichen Schicht. Die Beschichtungsmenge derselben betrug 2,0 gim² (bestimmt nach dem Trocknen). Lichtempfindliche Zusammensetzung Komponente Menge (Gew.-Teile) Polyurethan, umfassend ein Polyesterdiol von Adipinsäure/Ethylenglycol/1,4-Butandiol; 1,4-Butandiol und Isophorondiisocyanat Addukt von Glydiylmethacrylat mit Xylylendiamin (Molverhältnis 4/1) Verbindung der folgenden Formel Verbindung der folgenden Formel CH&sub2;=CH-CO-O-(CH&sub2;CH&sub2;O)&sub4;-COCH=CH&sub2; Verbindung der folgenden Formel Defenser MCF 323 (ein Fluoratom enthaltendes oberflächenaktives Agens, erhältlich von der Firma Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Bromphenolblau (pH-Indikator) Propylenglycolmonomethylether Methylethylketon
  • Dann wurde eine Siliconkautschukschicht-Zusammensetzung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung auf die resultierende lichtempfindliche Schicht so aufgebracht, daß ihre Beschichtungsmenge 2,0 g/m² (bezogen auf das Trockengewicht) betrug und die überzugsschicht wurde getrocknet unter Bildung eines gehärteten Siliconkautschuks. Siliconkautschuk-Zusammensetzung Komponente Menge (Gew.-Teile) Dimethylpolysiloxan mit Hydroxylgruppen an beiden Enden (Molekulargewicht etwa 70 000) Methyltriacetoxysilan Dibutylzinndioctanoat Isopar G (erhältlich von der Firma Esso Chemicals Co., Ltd.)
  • Auf die so gebildete Siliconkautschukschicht wurde ein einseitig mattierter OPP (biaxial orientierter Polypropylen)-Film mit einer Dicke von 9 µm auflaminiert unter Bildung einer wasserfreien PS-Platte. Ein positiver Film wurde auf die so erhaltene wasserfreie Platte aufgelegt und sie wurden miteinander unter Vakuum in engen Kontakt gebracht, mit Licht bildmäßig belichtet unter Verwendung einer üblichen Belichtungsvorrichtung, dann wurde der OPP- Film abgezogen, die belichtete Platte wurde in den nachstehend angegeben Entwickler 1 min lang eingetaucht und mit einem Entwicklungs-Pad 1 bis 2 min lang schwach gerieben. Auf diese Weise wurde nur die Siliconkautschukschicht auf den nicht-belichteten Abschnitten entfernt. Entwickler Komponente Menge (Gew.-Teile) Diethylenglycol-mono-n-hexylether New coal B4SN (erhältlich von der Firma Nippon Emulsifying Agent Manufacturing Co., Ltd.; eine 60 %ige wäßrige Lösung der folgenden Verbindung) reines Wasser
  • Die resultierende wasserfreie lithographische Druckplatte wurde auf einer Druckerpresse ("LITHRONE", erhältlich von der Firma Komon Printing Press Manufacturing Co., Ltd.) befestigt, aus der die Einrichtung zur Zuführung von Anfeuchtungswasser entfernt worden, und das Drucken (Vervielfältigen) wurde durchgeführt. Auf diese Weise erhielt man nicht weniger als 50 000 gute Drucksachen.
    • Beispiel 2
  • Eine Aluminiumplatte wurde auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 mit dem Silankuppler behandelt und es wurde die gleiche Primer-Schicht wie in Beispiel 1 auf die Aluminiumplatte auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 aufgebracht. Die nachstehend angegebene photopolymerisierbare lichtempfindliche Zusammensetzung wurde auf die resultierende Primer-Schicht so aufgebracht, daß ihre Beschichtungsmenge 2,0 g/m² (bezogen auf das Trockengewicht) betrug, und dann getrocknet unter Bildung einer lichtempfindlichen Schicht. Lichtempfindliche Zusammensetzung Komponente Menge (Gew.-Teile) Polyurethan, umfassend ein Polyesterdiol von Adipinsäure/Ethylenglycol/1,4-Butandiol; 1,4-Butandiol und Isophorondiisocyanat Addukt von Glycidylmethacrylat mit Xylylendiamin (Molverhältnis 4/1) Verbindung der folgenden Formel CH&sub2;=CH-CO-O-(CH&sub2;CH&sub2;O)&sub4;-COCH=CH&sub2; Ethyl-Michler's-Keton 2-Chlorothioxanthon Bromphenolblau (pH-Indikator) Defenser MCF 323 (ein Fluoratom enthaltenes oberflächenaktives Agens, erhältlich von der Firma Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Propylenglycolmonomethylether
  • Dann wurde die gleiche Siliconkautschuk-Zusammensetzung wie in Beispiel 1 auf die lichtempfindliche Schicht so aufgebracht, daß ihre Beschichtungsmenge 2,0 g/m² (bezogen auf das Trockengewicht) betrug, und die Überzugsschicht wurde getrocknet unter Bildung einer Siliconkautschukschicht. Auf die gebildete Siliconkautschukschicht wurde ein einseitig mattierter OPP-Film mit einer Dicke von 9 µm auflaminiert unter Bildung einer wasserfreien PS-Platte.
  • Die so erhaltene wasserfreie Platte wurde mit Licht auf übliche Weise bildmäßig belichtet, dann wurde der OPP-Film abgezogen, die belichtete Platte wurde in den nachstehend angegebenen wäßrigen Entwickler 1 min lang eingetaucht und mit einem Entwicklungs-Pad 1 bis 2 min lang schwach geneben. Auf diese Weise wurden nur die Siliconkautschukschicht auf den nicht-belichteten Abschnitten entfernt. Entwickler Komponente Menge (Gew.-Teile) Ethylenglycol-mono-n-hexylether New coal B4SN (erhältlich von der Firma Nippon Emulsifying Agent Manufacturing Co., Ltd.; 60 %ige wäßrige Lösung) reines Wasser
  • Mit der resultierenden wasserfreien lithographischen Druckplatte wurde das Drucken (Vervielfältigen) auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Auf diese Weise erhielt man nicht weniger als 50 000 gute Drucksachen.
    • Beispiel 3
  • Eine positiv arbeitende wasserfreie PS-Platte (TAP-HG; erhältlich von der Firma Toray Industries, Inc.) wurde mit Licht auf die übliche Weise bildmäßig belichtet, der auflaminierte Film wurde abgezogen, die Platte wurde in den in Beispiel 1 verwendeten wäßrigen Entwickler 1 min lang eingetaucht und mit einem Entwicklungs-Pad 1 bis 2 min lang schwach gerieben. Auf diese Weise wurde nur die Siliconkautschukschicht auf den nicht-belichteten Abschnitten entfernt. Mit der resultierenden wasserfreien lithographischen Druckplatte wurde das Drucken (Vervielfältigen) auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Dabei erhielt man nicht weniger als 50 000 gute Drucksachen.
    • Beispiel 4
  • Das Beispiel 1 wurde wiederholt, jedoch mit der Ausnahme, daß ein Entwickler mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung verwendet wurde, unter Bildung einer wasserfreien lithographischen Druckplatte. Auf diese Weise wurde nur die Siliconkautschukschicht auf dem unbelichteten Bereich klar entfernt. Entwickler Komponente Menge (Gew.-Teile) Diethylenglycol-mono-n-hexylether Natriumbenzolsulfonat ionenausgetauschtes Wasser
  • Das Drucken (Vervielfältigen) wurde unter Verwendung der resultierenden Druckplatte auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Auf diese Weise erhielt man nicht weniger als 50 000 gute Drucksachen.
    • Beispiel 5
  • Ein positiver Film wurde auf eine wasserfreie PS-Platte (TAP; erhältlich von der Firma Toray Industries, Inc.) auflaminiert, die bestand aus einer lichtempfindlichen Schicht und einer Siliconkautschukschicht auf einem Substrat, und mit der PS-Platte unter Vakuum in engen Kontakt gebracht. Die PS-Platte wurde unter Verwendung einer konventionellen Belichtungsvorrichtung bildmäßig belichtet. Dann wurde der auflaminierte Film abgezogen. Die resultierende PS-Platte wurde in einer automatischen Entwicklungsvorrichtung für eine wasserfreie PS-Platte (TWL 860; erhältlich von der Firma Toray Industries, Inc.), in der das erste Bad und das zweite Bad mit dem nachstehend angegebenen Entwickler gefüllt waren, unter solchen Bedingungen behandelt, daß die Temperatur des ersten Bades 35ºC betrug und diejenige des zweiten Bades Raumtemperatur betrug. Auf diese Weise erhielt man eine wasserfreie lithographische Druckplatte, in der nur die Siliconkautschukschicht auf dem unbelichteten Abschnitt entfernt war und das Bild des positiven Films wirklichkeitsgetreu wiedergegeben war. Entwickler Komponente Menge (Gew.-Teile) Diethylenglycol-mono-n-hexylether Natriumbenzoat ionenausgetauschtes Wasser
  • Durch anschließendes Durchführen eines Färbeverfahrens unter Verwendung der gleichen Vorrichtung, in der das dritte Bad mit einer Färbelösung (PA-2; erhältlich von der Firma Toray Industries, Inc.) gefüllt war, wurde eine lithographische Druckplatte mit guten Plattenprüfeigenschaften erhalten.
    • Beispiele 6 bis 8
  • Die bildmäßig belichtete TAP wurde unter Verwendung einer TWL 860-Vorrichtung, in der das erste Bad und das zweite Bad mit den in der nachstehenden Tabelle 1 angegebenen Entwicklern gefüllt waren, entwickelt. Auf die gleiche Weise wie in Beispiel 5 wurde eine gute Bildwiedergabe erhalten. Tabelle 1 Beispiel Diethylenglycol-mono-n-hexylether Natrium-2-naphthalinsulfonat Natrium-p-chlorbenzolsulfonat Natrium-p-toluolsulfonat ionenausgetauschtes Wasser Gew.-Teile

Claims (13)

1. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Befeuchtungswasser benötigt, wobei das Verfahren die folgenden Schritte umfaßt:
1) Bildweises Belichten einer vorsensibilisierten Platte mit Licht, umfassend ein Substrat mit einer photopolymerisierbaren Klebstoffschicht und einer Silikonkautschukschicht, die in dieser Reihenfolge auf dem Substrat aufgebracht sind, und
2) Entwickeln der erhaltenen Platte mit einem Entwickler, wobei der Entwickler umfaßt:
a) Wasser,
b) mindestens ein Ethylenglycolderivat, dargestellt durch die folgende Formel (I):
Cmh2m+1(OCH&sub2;CH&sub2;)nOH (I)
worin m eine ganze Zahl von 5 bis 8 ist und n ist 1 oder 2, und
c) einen Lösungsvermittler zum Löslichmachen des Ethylenglycolderivats in Wasser, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus:
i) einem anionischen oberflächenaktiven Mittel, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus:
Alkansulfonsäuresalzen, Hydroxyalkansulfonsäuresalzen, Dialkylsulfobernsteinsäuresalzen, Salzen von geradkettigen Alkylbenzolsulfonsäuren, Salzen von verzweigten Alkylbenzolsulfonsäuren, Alkylnaphthalinsulfonsäuresalzen, Alkyldiphenylethersulfonsäuresalzen, Alkylphenoxypolyoxyethylenpropylsulfonsäuresalzen, Polyoxyethylenalkylsulfophenylethersalzen, Natrium-N-methyl-N-oleyltaurin, Dinatrium-N-alkylsulfobernsteinsäuremonoamid, Petroleumsulfonsäuresalzen, sulfatiertem Rizinusöl, Schwefelsäureestersalzen von Alkylfettsäureestern, Alkylschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkyletherschwefelsäureestersalzen, Fettsäuremonoglyceridschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelsäureestersalzen, Polyoxyethylenstyrylphenyletherschwefelsäureestersalzen, Alkylphosphorsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkyletherphosphorsäureestersalzen, Polyoxyethylenalkylphenyletherphosphorsäureestersalzen, partiell veresterten Produkten von Styrol- Maleinsäureanhydrid-Copolymeren, partiell veresterten Produkten von Olefin-Maleinsäureanhydrid-Copolymeren, Polyoxyethylennaphthyletherschwefelsäureestersalzen und Naphthalinsulfonsäuresalz-Formalin-Kondensaten; oder
ii) einer wasserlöslichen aromatischen Verbindung, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus:
Natriumbenzolsulfonat, Natrium-m-benzoldisulfonat, Ammoniumbenzolsulfonat, Natriumsalicylat, Natrium-p- toluolsulfonat, Natriumdimethylbenzolsulfonat, Natrium- p-chlorbenzolsulfonat, Natriumbenzoat, Natrium-p- methoxybenzoat, Natrium-p-ethoxybenzoat, Natrium-o-, m- und p-methylbenzoat, Natrium-o-, m- und p-chlorbenzoat, Natrium-p-ethylbenzoat, Natrium-1-naphthalinsulfonat und Natrium-2-naphthalinsulfonat.
2. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Menge des Ethylenglycolderivats im Bereich von 1 bis 40 Gew.-% liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, worin die Menge des Ethylenglycolderivats im Bereich von 5 bis 15 Gew.-% liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, worin das Ethylenglycolderivat ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Diethylenglycolmono-n-pentylether, Diethylenglycolmono-n-hexylether, Diethylenglycolmono-n-heptylether, Diethylenglycolmono-n-octylether, Ethylenglycolmono-n-pentylether, Ethylenglycolmono-n-hexylether, Ethylenglycolmono-n-heptylether und Ethylenglycolmono-n- octylether.
5. Verfahren nach Anspruch 1, worin das anionische oberflächenaktive Mittel ausgewählt ist aus der Gruppe, bestehend aus Alkylnaphthalinsulfonsäuresalzen, Alkyldiphenylethersulfonsäuresalzen, Salzen von geradkettigen Alkylbenzolsulfonsäuren, Polyoxyethylenalkylphenyletherschwefelsäureestersalzen und Polyoxyethylennaphthyletherschwefelsäureestersalzen.
6. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Menge des anionischen oberflächenaktiven Mittels im Bereich von 0,01 bis 20 Gew.-% liegt.
7. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Entwickler weiterhin eine organische Säure umfaßt, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Essigsäure, Propionsäure, n-Buttersäure, Isobuttersäure, n-Valeriansäure, Isovaleriansäure, Methylethylessigsäure, Trimethylessigsäure, Capronsäure, Isocapronsäure, α-Methylvaleriansäure, 2-Ethyl-n-buttersäure, Heptylsäure, Caprylsäure, 2-Ethylcapronsäure und Milchsäure.
8. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Entwickler weiterhin ein Amin umfaßt, ausgewählt aus der Gruppe, bestehend aus Methylamin, Ethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Triethylamin, Propylamin, Butylamin, Amylamin, Dipropylamin, Dibutylamin, Diamylamin, Tripropylamin, Tributylamin, Methyldiethylamin, Ethylendiamin, Trimethylendiamin, Tetramethylendiamin, Benzylamin, N,N-Dimethylbenzylamin, N,N-Diethylbenzylamin, o-, m- oder p-Methoxy- oder Methyl-benzylamin, N,N-Di(methoxybenzyl)amin, β-Phenylethylamin, γ-Phenylpropylamin, Cyclohexylamin, α- oder β-Naphthylamin, o-, m- oder p-Phenylendiamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, 2-Methylaminomethanol, 2-Ethylaminoethanol, 2-(2-Aminoethyl)ethanol, 2- Amino-2-methyl-1,3-propandiol, 2-Amino-1,3-propandiol, 2-Amino- 2-hydroxymethyl-1,3-propandiol, 3-Methoxypropylamin, 3-Ethoxypropylamin, 3-Propoxypropylamin, 3-Isopropoxypropylamin, 3- Butoxypropylamin, 3-Isobutoxypropylamin, 2-Ethylhexyloxypropylamin, 2-Ethoxyethylamin, 2-Propoxyethylamin und 2-Butoxyethylamin.
9. Verfahren nach Anspruch 1, worin der Entwickler weiterhin einen Farbstoff umfaßt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, worin der Farbstoff Crystal Violet oder Astrazone Red ist.
11. Verfahren nach Anspruch 1, worin die photopolymerisierbare Klebstoffschicht umfaßt:
(1) 1,0 bis 99,9 Gew.-% eines photopolymerisierbaren ungesttigten Monomers oder Oligomers mit einem Siedepunkt von nicht weniger als 100ºC;
(2) 0,1 bis 20,0 Gew.-% eines Photosensibilisators;
(3) 0,01 bis 20,0 Gew.-% eines wahlweisen Wärmepolymerisationsinhibitors; und
(4) 0,01 bis 95,0 Gew.-% eines Polymers oder anorganischen Pulvers als wahlweisem Füllstoff, um die Form der photopolymerisierbaren Klebstoffschicht beizubehalten.
12. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Silikonkautschukschicht ein Silikonkautschuk vom Kondensations-Typ oder ein Silikonkautschuk vom Additions-Typ ist.
13. Verfahren nach Anspruch 1, worin die Menge der wasserlöslichen aromatischen Verbindung im Bereich von 0,1 bis 30 Gew.-% liegt, bezogen auf das Gesamtgewicht des Entwicklers.
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