DE69021813D1 - Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen. - Google Patents
Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen.Info
- Publication number
- DE69021813D1 DE69021813D1 DE69021813T DE69021813T DE69021813D1 DE 69021813 D1 DE69021813 D1 DE 69021813D1 DE 69021813 T DE69021813 T DE 69021813T DE 69021813 T DE69021813 T DE 69021813T DE 69021813 D1 DE69021813 D1 DE 69021813D1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- measurement
- multilayered layers
- thin multilayered
- thin
- layers
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0675—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating using interferometry
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24885089A JPH03110405A (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | 多層薄膜評価装置 |
JP24143990A JP2728773B2 (ja) | 1990-09-11 | 1990-09-11 | 半導体多層薄膜の膜厚評価装置及び膜厚評価方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69021813D1 true DE69021813D1 (de) | 1995-09-28 |
DE69021813T2 DE69021813T2 (de) | 1996-05-23 |
Family
ID=26535258
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69033111T Expired - Lifetime DE69033111T2 (de) | 1989-09-25 | 1990-09-24 | Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen |
DE69021813T Expired - Lifetime DE69021813T2 (de) | 1989-09-25 | 1990-09-24 | Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen. |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69033111T Expired - Lifetime DE69033111T2 (de) | 1989-09-25 | 1990-09-24 | Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5227861A (de) |
EP (2) | EP0420113B1 (de) |
DE (2) | DE69033111T2 (de) |
Families Citing this family (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4135959C2 (de) * | 1991-10-31 | 1994-01-20 | Leica Ag Heerbrugg | Verfahren zur Messung der Neigungen von Grenzflächen in einem optischen System |
JPH05302816A (ja) * | 1992-04-28 | 1993-11-16 | Jasco Corp | 半導体膜厚測定装置 |
JPH074922A (ja) * | 1993-06-21 | 1995-01-10 | Jasco Corp | 半導体多層薄膜膜厚測定装置およびその測定方法 |
IL110466A (en) * | 1994-07-26 | 1998-07-15 | C I Systems Israel Ltd | Film thickness mapping using interferometric spectral imaging |
US5473432A (en) * | 1994-09-12 | 1995-12-05 | Hewlett-Packard Company | Apparatus for measuring the thickness of a moving film utilizing an adjustable numerical aperture lens |
US6454761B1 (en) | 1995-01-30 | 2002-09-24 | Philip D. Freedman | Laser surgery device and method |
GB9616853D0 (en) * | 1996-08-10 | 1996-09-25 | Vorgem Limited | An improved thickness monitor |
US6124141A (en) * | 1998-01-07 | 2000-09-26 | International Business Machines Corporation | Non-destructive method and device for measuring the depth of a buried interface |
IL125964A (en) * | 1998-08-27 | 2003-10-31 | Tevet Process Control Technolo | Method and apparatus for measuring the thickness of a transparent film, particularly of a photoresist film on a semiconductor substrate |
US6184985B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-02-06 | Filmetrics, Inc. | Spectrometer configured to provide simultaneous multiple intensity spectra from independent light sources |
US6204922B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-03-20 | Filmetrics, Inc. | Rapid and accurate thin film measurement of individual layers in a multi-layered or patterned sample |
US6172756B1 (en) | 1998-12-11 | 2001-01-09 | Filmetrics, Inc. | Rapid and accurate end point detection in a noisy environment |
US6459488B1 (en) * | 2000-02-10 | 2002-10-01 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Diffuse reflectance method and apparatus for determining thickness of an infrared translucent layer |
DE10123470B4 (de) * | 2001-05-15 | 2010-08-19 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Verfahren und Anordnung zur berührungslosen Ermittlung von Produkteigenschaften |
WO2003025497A1 (en) * | 2001-09-21 | 2003-03-27 | Kmac | Apparatus for measuring thickness profile and refractive index distribution of multiple layers of thin films by means of two-dimensional reflectometry and method of measuring the same |
US6885467B2 (en) * | 2002-10-28 | 2005-04-26 | Tevet Process Control Technologies Ltd. | Method and apparatus for thickness decomposition of complicated layer structures |
DE10319843A1 (de) | 2003-05-03 | 2004-12-02 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zum Bestimmen der Tiefe einer vergrabenen Struktur |
KR100947228B1 (ko) * | 2003-06-20 | 2010-03-11 | 엘지전자 주식회사 | 광디스크의 두께 측정 방법 |
JP2005069840A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Japan Science & Technology Agency | 時系列変換パルス分光計測装置の時系列信号取得のための光路差補償機構 |
DE102004021922B3 (de) * | 2004-05-04 | 2005-11-03 | Infineon Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Dicke einer strukturierten dielektrischen Schicht |
US7617980B2 (en) * | 2005-04-25 | 2009-11-17 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Integrated optical module for reflectance sensing |
US7295293B2 (en) * | 2005-10-21 | 2007-11-13 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Apparatus and method for testing a reflector coating |
US20080158572A1 (en) * | 2006-12-27 | 2008-07-03 | Honeywell, Inc. | System and method for measurement of thickness of thin films |
JP5172203B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2013-03-27 | 大塚電子株式会社 | 光学特性測定装置および測定方法 |
US8852175B2 (en) | 2008-11-21 | 2014-10-07 | Amo Development Llc | Apparatus, system and method for precision depth measurement |
JP7112879B2 (ja) | 2018-05-15 | 2022-08-04 | 株式会社サイオクス | 窒化物半導体積層物の製造方法、膜質検査方法および半導体成長装置の検査方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3319515A (en) * | 1963-08-27 | 1967-05-16 | Du Pont | Interferometric optical phase discrimination apparatus |
US3899253A (en) * | 1973-09-10 | 1975-08-12 | Mario W Overhoff | Apparatus and method for automatic cross correlation interferometry |
US4555767A (en) * | 1982-05-27 | 1985-11-26 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for measuring thickness of epitaxial layer by infrared reflectance |
JPS59105508A (ja) * | 1982-12-08 | 1984-06-18 | Canon Inc | 白色干渉膜厚測定方法 |
JPS61140806A (ja) * | 1984-12-14 | 1986-06-27 | Jeol Ltd | 膜厚測定方法 |
JPH0721405B2 (ja) * | 1985-03-01 | 1995-03-08 | 株式会社日立製作所 | フーリェ変換方式赤外線膜厚測定方法 |
JPS61235707A (ja) * | 1985-04-12 | 1986-10-21 | Toray Ind Inc | 膜厚測定装置 |
US4625114A (en) * | 1985-07-15 | 1986-11-25 | At&T Technologies, Inc. | Method and apparatus for nondestructively determining the characteristics of a multilayer thin film structure |
US4748329A (en) * | 1987-02-17 | 1988-05-31 | Canadian Patents And Development Ltd. | Method for on-line thickness monitoring of a transparent film |
JPS63302307A (ja) * | 1987-06-02 | 1988-12-09 | Hitachi Ltd | 光学的膜厚測定方法 |
US4927269A (en) * | 1989-01-31 | 1990-05-22 | Bruke Analytische Messtechnik Gmbh | Correction of non-linearities in detectors in fourier transform spectroscopy |
-
1990
- 1990-09-24 EP EP90118322A patent/EP0420113B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-24 EP EP95100378A patent/EP0650030B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-24 DE DE69033111T patent/DE69033111T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-24 US US07/587,114 patent/US5227861A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-09-24 DE DE69021813T patent/DE69021813T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0420113A2 (de) | 1991-04-03 |
DE69021813T2 (de) | 1996-05-23 |
US5227861A (en) | 1993-07-13 |
DE69033111T2 (de) | 1999-09-09 |
EP0420113A3 (en) | 1991-06-19 |
DE69033111D1 (de) | 1999-06-17 |
EP0650030B1 (de) | 1999-05-12 |
EP0650030A2 (de) | 1995-04-26 |
EP0420113B1 (de) | 1995-08-23 |
EP0650030A3 (de) | 1995-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69021813D1 (de) | Apparat und Verfahren für die Ausmessung von dünnen mehrschichtigen Lagen. | |
DE69101142D1 (de) | Verfahren und apparat für die herstellung von wabenmaterial. | |
DE69013581D1 (de) | Verfahren und einrichtung für die ununterbrochene herstellung absorbierender körper. | |
DE3877516D1 (de) | Geraet und verfahren zur bohrlochmessung. | |
DE69128466D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung für frequenzselektive Ultraschallprüfung von mehrschichtigen Strukturen | |
DE3783847D1 (de) | Verfahren und apparat fuer immunoassay. | |
DE3584117D1 (de) | Verfahren zur ultraschallmessung und dazugehoeriges geraet. | |
DE3579972D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur eigendiagnose von stellgliedern. | |
DE68917416D1 (de) | Verfahren und Apparat für die Messung und Abstimmung eines Aufzugssystems. | |
DE68923877D1 (de) | Verfahren und vorrichtung für die hydroponkultur. | |
DE3855341D1 (de) | Verfahren und Vorrichtung für die Bestimmung einer isotopischen Zusammensetzung | |
DE3851587D1 (de) | Verfahren und Apparatur zur Widerstandsmessung. | |
DE3854334D1 (de) | Verfahren und Gerät zur Bestimmung von Substanzen. | |
DE69312172D1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum gleichzeitigen Strangpressen von dünnen Schichten | |
DE69010143D1 (de) | Testeinrichtung und Verfahren zur Bestimmung von Fructoasminen. | |
DE69006213D1 (de) | Verfahren und gerät zur nichtzerstörenden kennzeichnung von komposit-schichtkörpern. | |
DE69020411D1 (de) | Verfahren und Gerät für augenoptische Messungen. | |
DE3852430D1 (de) | Magnetron-Zerstäubungsgerät und Verfahren zur Anwendung desselben zur Schichtenherstellung. | |
DE3888083D1 (de) | Verfahren und Apparat zur rheologischen Prüfung. | |
DE69015286D1 (de) | Verfahren und Gerät zum Nachweisen von Fremdkörpern. | |
FI103737B1 (fi) | Menetelmä ja laite tekosaaren konstruktoimiseksi ja siten saatu rakenne | |
DE69304708D1 (de) | Verfahren und vorrichtung für die zubereitung von mischungen mit komprimierten fluiden | |
DE68906883D1 (de) | Verfahren und apparat fuer die herstellung und verfluessigung von gasen. | |
DE69020410D1 (de) | Verfahren und Gerät für augenoptische Messungen. | |
DE69017029D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur nichtzerstörenden prüfung. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |