DE69005626T2 - Photographischer und kinematographischer Film enthaltend eine antistatische Schicht. - Google Patents

Photographischer und kinematographischer Film enthaltend eine antistatische Schicht.

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Description

    Technisches Gebiet
  • Diese Erfindung betrifft ein Material mit einer antistatischen Schicht auf einem Film, der ausgewählt ist aus einem photographischen Film und einem kinematographischen Film.
  • Stand der Technik
  • Zinnoxidbeschichtungen sind auf Glas aufgebracht worden, um es antistatischer zu machen. Beispielsweise sind derartige Beschichtungen auf die Oberfläche von Kathodenstrahlröhren und ähnlichen Vorrichtungen aufgebracht worden, wo die Ansammlung von statischen Ladungen unerwünscht ist. Antistatische Beschichtungen bekämpfen die Ansammlung von Staub auf Oberflächen, wo Staub die Funktion des Gegenstandes beeinträchtigt.
  • Antistatische Beschichtungen sind in gleicher Weise auf anderen Gebieten nützlich. Beispielsweise ist allgemein bekannt, daß zahlreiche Typen von photographischen Filmträgern die Tendenz zur Erzeugung von Ladungen von statischer Elektrizität während des Aufspulens und Abspulens haben und daß diese Ladungen nicht leicht abfließen, da die Materialien, die als Filmträger verwendet werden, gewöhnlich schlechte elektrische Leiter sind. Hohe Spannungen, die auf diese Weise erzeugt wurden, können sich plötzlich im Verlaufe der Herstellung entladen oder im Verlaufe des Gebrauchs des Produktes durch den Benutzer, was zu Lichtblitzen von statischer Elektrizität führt und zu einer unerwünschten Aufzeichnung der statischen elektrischen Entladung auf einer strahlungsempfindlichen Schicht, wie beispielsweise einer Schicht einer photographischen Emulsion. Um dieses Ergebnis zu vermeiden, ist es übliche praxis, auf die Rückseite des Filmträgers eine elektrisch leitfähige Schicht aufzubringen, die auch als antistatische Schicht bezeichnet wird, um die Ableitung der statischen Ladungen zu erleichtern und um somit plötzliche Entladungen zu vermeiden und die dadurch auftretenden Lichtblitze, die ansonsten die strahlungsempfindliche Schicht schädigen würden. Die antistatische Beschichtung braucht nicht auf die Rückseite des Filmträgers, wie oben angegeben, aufgebracht zu werden. Alternativ kann sie in Form einer Haftschicht verwendet werden oder als leitfähige Deckschicht (COC).
  • Bekannte afltistatische Schichten bestehen im allgemeinen aus einem Bindemittel, in dem eine organische oder anorganische Ieitfähige Substanz dispergiert ist, um die Oberfläche, auf die die Schicht aufgetragen ist, beispielsweise einen Filmträger, ausreichend leitfähig zu machen, um einen Abfluß der elektrostatischen Ladungen zu einem Entladungsmittel zu ermöglichen. Meistens sind antistatische Schichten mehr oder weniger hygroskopische Schichten, wobei ihre Wirksamkeit eine Funktion des Grades der Luftfeuchtigkeit ist. Manche Schichten können unter Bedingungen von geringer relativer Feuchtigkeit nicht sehr wirksam sein, da sie dann nicht länger ausreichend leitfähig sind. In entsprechender Weise sind einige hygroskopische Schichten nicht sehr geeignet für Bedingungen unter hoher Feuchtigkeit, da sie klebrig werden.
  • Es ist schwierig, sie von den Oberflächen, an denen sie anhaften, zu entfernen. Die Anstrengungen, die erforderlich sind, um zwei übereinanderliegende Schichten zu trennen, führen beispielsweise manchmal zu Ladungen, die höher sind als jene, die auftreten würden in Abwesenheit jeder antistatischen Schicht.
  • Spezielle Literaturstellen, die sich mit antistatischen Materialien befassen und die Verwendung von Zinnoxid zur Erzeugung leitfähiger Filme, werden im folgenden angegeben.
  • Die U.S.-Patentschrift 4 203 769 von Claude Guestaux, deren Inhaber die Firma Eastinan Kodak Company ist, beschreibt eine Vanadiumpentoxid-Zusammensetzung für die Verwendung im Falle photographischer Filme oder Papiere und anderer strahlungsempfindlicher Gegenstände. Die am meisten bevorzugte Zusammensetzung enthält 100% V&sub2;O&sub5;. Im Falle dieser Erfindung wurde gefunden, daß, sobald als die Gewichtsmenge an amorphen V&sub2;O&sub5; in dem antistatischen Material den Wert von 90% erreicht und überschreitet, eine kolloidale Lösung von V&sub2;O&sub5; erhalten wird mit einem ungewöhnlich hohen Gehalt an V&sub2;O&sub5;, so daß es möglich ist, hohe antistatische Eigenschaften zu erzielen, z.B. eine hohe Leitfähigkeit, mit einer geringeren abgeschiedenen Menge an dem antistati schen Material als sie benötigt wird, wenn eine geringere Menge an amorphem V&sub2;O&sub5; vorhanden ist.
  • Die U.S.-Patentschrift 3 676 362 beschreibt die Herstellung von Sb&sub2;O&sub3;, SnO&sub2;, TiO&sub2; und ZrO&sub2; durch ein Sol-Gel-Verfahren. Die anorganischen Oxide werden in Polymere eingearbeitet unter Erzeugung einer Widerstandsfähigkeit gegenüber Entflammbarkeit und unter Erzeugung anderer wünschenswerter Eigenschaften.
  • Die U.S.-Patentschrift 4 452 830 beschreibt eine elektroleitfähige Zusammensetzung aus einer Dispersion von Titanoxid-Teilchen mit einer aufgetragenen Schicht aus Antimonenthaltendem Zinkoxid.
  • Die U.S.-Patentschrift 4 594 182 beschreibt Indium-enthaltende Zinnoxid-Zusammensetzungen zur Erzeugung eines transparenten leitfähigen Filmes.
  • Die U.S.-Patentschrift 2 772 190 lehrt, daß die elektrische Leitfähigkeit von Zinnoxodfilmen gesteigert wird durch Antimon und durch Phosphorverbindungen.
  • Die japanische Literaturstelle Kokoku Nr. Sho 45 (1970) -5915 betrifft die Behandlung von synthetischen Harzen, um sie antistatisch zu machen. Die verwendeten Verbindungen werden ausgewählt aus Stannoalkoxiden und Stannoacylaten. Diese Verbindungen hydrolysieren unter dem Einfluß von Sauerstoff zu vierwertigen Zinnresten, welche Polyinere der folgenden Struktur bilden:
  • Gonzales-Oliver und andere beschreiben in der Literaturstelle J. of Non-Crystalline Solids 82(1986), Seiten 400-410 elektroleitfähige, mit Antimon dotierte Zinnoxidbeschichtungen, die hergestellt werden nach Tauchbeschichtungs und Sprühbeschichtungsverfahren.
  • Die japanische Literaturstelle Kokai 56-82504 beschreibt die Verwendung von kollaidalem Zinnoxid bei der Herstellung von elektrisch leitfähigen transparenten Filmen. Das kolloidale Oxid wird auf das Substrat aufgetragen und unter Verwendung eines Gasplasmas verarbeitet, das Sauerstoff enthält. Das Zinnoxid-Kolloid kann mit einem Element der Gruppe III B dotiert sein, beispielsweise mit Aluminium, Gallium, Indium, Tellur oder einem Element der Gruppe V B, beispielsweise mit Arsen, Antimon oder Wismuth.
  • 35 Die japanische Literaturstelle Kokai 55-35428 (1980, 035428) beschreibt einen transparenten elektrisch leitfähigen Film, hergestellt auf einer Glasplatte durch Eintauchen der Platte in eine Lösung von B(OcH&sub3;)&sub4; und Sn(OCH&sub3;)&sub4; in wäßriger Essigsäure und Methanol, Trocknen der beschichteten Platte bei 150ºC und durch zweistündiges Erhitzen auf 500ºC. Beschreibuna der Erfindung
  • Diese Erfindung stellt ein Material bereit, das eine antistatische Schicht auf einem Film aufweist, der ausgewählt ist aus einem photographischen Film und einem cinematographischen Film, wobei die Schicht aufweist ein durch ein Sol- Gel-Verfahren erhaltenes Heteropolykondensat mit einem Zinnoxid und Boroxid in einem drei-dimensionalen Metalloxidnetzwerk, in dem die Zinnoxid- und Boroxidreste zusammengebunden sind über brückenbildende Sauerstoffatome, und in dein der Boroxidgehalt bei 1 bis 30 Mol-% liegt und wobei das Heteropolykondensat weiter dadurch gekennzeichnet ist, daß es hergestellt worden ist nach einem Verfahren, bei dem eine Mischung aus einer hydrolysierbaren Zinnverbindung und einer hydrolysierbaren Borverbindung, worin die Borverbindung in einer Menge von 1 bis 30 Mol-% vorliegt, einer Hydrolysen-/Kondensation in einem organischen Lösungsmittel unterworfen wird, unter Verwendung einer stoichiometrischen oder praktisch stoichiometrischen Menge von Wasser, unter Erzeugung einer Lösung des Heteropolykondensates und nachfolgender Aufbringung der Lösung des Kondensates auf den Film und Entfernung des Lösungsmittels bei einer Temperatur von 50ºC bis 150ºC unter Erzeugung der antistatischen Beschichtung aus dem Heteropolykondensat auf dem Film, wobei die antistatische Schicht zu einem Blatt-Widerstand in Ohm pro Quadrat bei 49%iger relativer Feuchtigkeit von 10&sup9; führt, wenn die Schicht bei dieser Temperatur erzeugt wird.
  • Gemäß einem wichtigen Aspekt werden die Heteropolykondensate zur Herstellung von antistatischen Schichten verwendet, die transparent sind. Derartige Beschichtungen oder Schichten werden dazu verwendet, um photographische Filme und cinematographische Filme zu beschichten, um auf ihnen eine leitfähige Oberfläche zu erzeugen. Derartige aufgetragene Oberflächen sind weniger empfänglich für die Ansammlung von unerwünschten Staubpartikeln, die die Verwendbarkeit oder die ästhetischen Charakteristika des Gegenstandes schmälern. Die Oberfläche ist ferner weniger empfänglich für den Aufbau von unerwünschten elektrostatischen Ladungen.
  • Das Beschichtungsverfahren ist nicht teuer und leicht durchführbar ohne die Notwendigkeit einer kostspieligen Vorrichtung. Weiterhin hat sich gezeigt, daß es nicht erforderlich ist, die Beschichtung bei erhöhten Temperaturen von größer als 150ºC zu härten, um den spezifischen elektrischen Widerstand zu reduzieren. Dies bedeutet, daß die antistatischen Beschichtungen, Filme und Schichten durch ein Verfahren bei niedriger Temperatur erzeugt werden können. Dieses Auffinden und der Grad der antistatischen Eigenschaft, die durch die Beschichtung herbeigeführt wird, waren völlig unerwartet.
  • Die Erfindung führt zu antistatischen Schichten, die ihrer Natur nach praktisch nicht mikroskopisch sind. Verglichen mit Materialien des Standes der Technik sind die antistatischen Materialien dieser Erfindung weniger empfindlich gegenüber durch Feuchtigkeit verursachten Variationen in der antistatischen Aktivität. Überdies lassen sich die antistatischen Schichten dieser Erfindung, wie oben erwähnt, leicht auf Filme aufbringen durch Anwendung bekannter Techniken. Im Hinblick auf die oben diskutierten Vorteile, die durch diese Erfindung erreicht werden, wird durch die Erfindung ein wesentlicher technischer Fortschritt erzielt.
  • Beste Ausführungsform der Durchführung der Erfindung
  • Die Zusammensetzungen, die zur Herstellung der antistatischen Schicht verwendet werden, können restliche hydrolysierbare und/oder nicht völlig kondensierte Spezies enthalten.
  • In antistatischen Schichten aus Materialien dieser Erfindung liegt der Boroxidgehalt bei 1 bis 30 Mol-% oder vorzugsweise bei 2 bis 20 Mol-%.
  • Wie oben angegeben, bilden die Heteropolykc;ndensate Schichten, die optisch klar, d.h. transparent sind. Es wird angenommen, daß die optische Klarheit auf der Homogenität der Zusammensetzungen beruht. Mit anderen Worten: aufgrund der Transparenz der Zusammensetzungen wird angenommen, daß sie praktisch frei von heterogenen Teilchen und unmischbaren Domänen sind, die eine Größe haben, die ausreicht, um sichtbares Licht zu streuen. Infolgedessen führt diese Erfindung zu einer antistatischen Schicht mit einem Zinnoxid- und Boroxid-Heteropolykondensat, worin der Boroxidgehalt die elektrische Leitfähigkeit der Schicht steigert.
  • Schichten dieser Erfindung werden durch ein Sol-Gel-Verfahren erzeugt. Durch dieses Verfahren können die Boroxidreste und die Zinnoxidreste in den Zusammensetzungen zu einem Netzwerk miteinander verbunden werden. Dies bedeutet, daß durch die Erfindung nicht-kolloidale Partikel bereitgestellt werden, in denen das Boroxid nicht lediglich an der Oberfläche der diskreten Zinnoxidteilchen konzentriert ist. Mit anderen Worten, die Schichten dieser Erfindung umfassen Borund Zinnspezies, die durch brückenbildende Sauerstoffatome miteinander verbunden sind. Einige der neuen Materialien bestehen vermutlich aus nicht vollkondensierten Oxiden, da sie nach einem Niedrig-Temperaturverfahrrn erzeugt werden.
  • Gemäß einer besonders bevorzugte Ausführungsform betrifft diese Erfindung ein Niedrig-Temperaturverfahren zur Erzeugung einer nicht von einem Kolloid abgeleiteten antistatischen Schicht auf einem Film, ausgewählt aus photographi-5schem und cinematographischem Film, wobei das Verfahren umfaßt (i) Bildung eines Zinnoxid-Sol-Gels mit 1 bis 30 Mol-% Boroxid, indem man eine Mischung aus einer hydrolysierbaren Zinnverbindung und einer hydrolysierbaren Boroxidverbindung in einem organischen Lösungsmittel einer Nydrolyse/Kondensation unterwirft, unter Verwendung einer praktisch stoichiometrischen Menge an Wasser, wodurch ein Hetero-Polykonden sat-Netzwerk von Boroxid- und Zinnoxidspezies erzeugt wird, indem das Boroxid kovalent in das Netzwerk eingebunden ist, und (ii) indem man nachfolgend die Lösung des Hetero-Polykondensates, das erzeugt worden ist, auf ein Substrat aufbringt und das Lösungsmittel bei einer Temperatur zwischen 50ºC und 150ºC entfernt, unter Erzeugung einer antistatischen Schicht auf den Filmen.
  • Wie im vorstehenden angegeben, werden die Zusammensetzungen zur Herstellung der antistatischen Schichten hergestellt aus Zinn- und Borverbindungen, die Zinnoxid- und Boroxidreste liefern (wozu nicht voll kondensierte oder hydrolysierte Spezies von jedem Element gehören können, wie oben erwähnt), wenn sie unter den angewandten Verfahrensbedingungen miteinander umgesetzt werden. Dies bedeutet, daß die Zusammensetzungen hergestellt werden aus Reaktionsmischungen, die eine hydrolysierbare Zinnverbindung enthalten. Im Falle dieser Erfindung können Zinntetrahalogenide, z.B. Verbindungen der Formel SnX&sub4;, worin X für ein Halogenatom steht, verwendet werden. Ein bevorzugtes Tetrahalogenid ist Zinntetrachlorid.
  • Man kann ebenfalls Stannialkoxide und Stanniacylate zur Herstellung der Heteropolykondensate dieser Erfindung verwenden. Diese Materialien entsprechen den Formeln:
  • Wie in dem Beispiel gezeigt wird, werden gute Ergebnisse erhalten, wenn eine tetravalente Zinnverbindung verwendet wird, Diese Ergebnisse legen es im Lichte der Lehren der japanischen Literaturstelle Kokoku Nr. 45-5915 nahe, daß auch Stannoalkoxide und Stannoacylate für die Durchführung dieser Erfindung geeignet sind. Bei ihrer Verwendung können diese Verbindungen in Gegenwart von Sauerstoff, Luft, oder in Gegenwart von an Sauerstoff angereicherter Luft umgesetzt werden, so daß Zinn in einem tetravalenten Zustand erzeugt wird.
  • Vorzugsweise enthalten diese Ausgangsmaterialien kurzkettige Acyl- und kurzkettige Alkoxygruppen, d.h. Acyl- und A1koxygruppen, die bis zu 6 Kohlenstoffatome aufweisen. Dies bedeutet, daß die durch R in den Formeln (II) und (III) dargestellten Gruppen organische Gruppen sind, vorzugsweise Gruppen, die allein aus Kohlenstoff und Wasserstoff bestehen und in besonders vorteilhafter Weise aus Alkylresten bestehen mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen und derartigen Alkylresten, die durch Etherbindungen substituiert sind. Bezüglich des zu1etzt genannten Typs einer Verbindung ist ein bevorzugtes Beispiel ein Rest mit der Formel -OCH&sub2;CH&sub2;-OCH&sub2;CH&sub2;OCH&sub3;. Dieser Typ eines Restes kann sich ableiten von einer Umsetzung von Stannihalogenid in Gegenwart von Methoxyethoxyethanol.
  • ln den im Rahmen dieser Erfindung verwendeten Ausgangsmaterialien können höhere Acyl- und Alkoxygruppen vorhanden sein. Beispielsweise kann man eine Gruppe auswählen, die mehr als 6 Kohlenstoffatome aufweist, um eine Reaktionskomponente zu haben, die löslicher in einem organischen Lösungsmittel der Wahl ist, oder falls eine geringere Hydrolysegeschwindigkeit erwünscht ist.
  • Andere hydro1ysierbare Zinnverbindungen können zur Herstellung der antistatischen Zusammensetzungen verwendet werden. Dies bedeutet, daß man beliebige Zinnverbindungen verwenden kann, die innerhalb einer ansprechbaren Zeit hydrolysieren, d.h. etwa mit der gleichen Geschwindigkeit wie die obenerwähnten Zinnverbindungen, wenn sie mit Wasser bei einer Temperatur von -20ºC bis 130ºC in Kontakt gebracht werden. Ein Fachmann kann leicht feststellen, ob eine Verbindung für diese Erfindung geeignet ist durch Durchführung einfacher Experimente, um die Geschwindigkeit der Hydrolyse festzustellen.
  • Bezüglich der als Ausgangsmaterialien verwendeten Zinnverbindungen ist festzustellen, daß Zinntetrahalogenide durch Hydrolyse oder Alkoholyse korrosive Nebenprodukte bilden. Die Nebenprodukte von Zinnalkoxiden sind nicht so korrosiv. Jedoch können die Alkoxide nicht so leicht zugänglich sein oder sie können kostspieliger sein als beispielsweise Zinntetrachlorid. Überdies können die Alkoxide leicht hergestellt werden aus den Tetrahalogeniden durch Zugabe des entsprechenden Alkohols. Weiterhin können die Alkoxide nicht so leicht wie die Halogenide hydrolysieren. Überdies hydrolysieren Zinnalkoxide mit kurzkettigen Alkoxygruppen im allgemeinen schneller als jene mit größeren Alkoxygruppen. Ein Fachmann kann diese Vergleichspunkte berücksichtigen, wenn er die Zinnverbindung (oder Verbindungen) für die Verwendung im Rahmen dieser Erfindung auswählt.
  • Wie im vorstehenden dargelegt, werden die Zusammensetzungen teilweise hergestellt aus einer Borverbindung, die ein Boroxid durch Hydrolyse und Kondensation erzeugen kann. Typische Borverbindungen, die als Ausgangsmaterialien im Rahmen dieser Erfindung verwendet werden können, sind die Borate. Vorzugsweise handelt es sich dabei um Derivate von kurzkettigen Alkoholen. Mit anderen Worten, vorzugsweise werden die Borverbindungen aus Boraten ausgewählt, die der folgenden Formel entsprechen:
  • B(OR)&sub3;
  • worin OR eine kurzkettige Alkoxygruppe wie oben beschrieben ist. Festzustellen ist jedoch, daß, obgleich die durch R dargestellten Gruppen vorzugsweise bis zu 6 Kohlenstoffatome enthalten, auch Borate mit größeren Gruppen im Rahmen dieser Erfindung verwendet werden können. Andere Typen von Borverbindungen, die zur Verwendung im Rahmen dieser Erfindung geeignet sind, lassen sich von einem Fachmann leicht ermitteln, durch Durchführung eines einfachen Versuches zur Bestimmung der Hydrolysegeschwindigkeit Wenn derartige Verbindungen etwa gleich schnell wie die Borate hydrolysieren, dann können sie im Rahmen dieser Erfindung verwendet werden.
  • Die gemischten Oxid-Heteropolykondensate dieser Erfindung können aus einer Mischung aus einer oder mehreren Zinn- und einer oder mehreren Borverbindungen der oben diskutierten Typen hergestellt werden. Die relativen Mengen werden derart ausgewählt, daß der Borgehalt des Produktes die Elektroleitfähigkeit des Produktes erhöht. Wie oben angegeben, liegt die Menge an Boroxid (berechnet als B&sub2;O&sub3;) im allgemeinen im Bereich von 1 bis 30 Mol-%.
  • Wie bereits angegeben, werden die Heteropolykondensate dieser Erfindung nach einem Sol-Gel-Verfahren hergestellt. Ganz allgemein gesagt, werden die Zinn- und Borverbindungen zunächst miteinander vermischt, d.h. praktisch in Abwesenheit von Wasser co-polymerisiert, und zwar in Gegenwart von einem oder mehreren organischen Lösungsmitteln, in denen das Verfahren ausgeführt wird. Alternativ lassen sich die Kondensate dieser Erfindung durch eine zweistufige Reaktion herstellen. Genauer gesagt, können der Borlieferant und der Zinnlieferant zunächst getrennt voneinander umgesetzt werden, zu niedrigmolekularen po1ygomeren, die anschließend miteinander vermischt und umgesetzt werden, unter Erzeugung eines Typs eines Block-Copolymeren. Auch können zwei Präpolymere miteinander vermischt werden, um eine Mischung herzustellen anstelle eines copolymerisierten Systems.
  • Lösungsmittel, die verwendet werden können, lösen vorzugsweise die Zinn- und Borverbindungen oder sind mit den Zinnund Borverbindungen mischbar und sind mischbar mit der Menge an Wasser, die zur Hydrolyse verwendet wird. Zu Lösungsmitteln dieses Typs gehören Tetrahydrofuran, Aceton, Methoxyethoxyethanol, Methoxyethanol, Ethylenglykol, Methylcellusolve, Mischungen hiervon und dgl.. Zu anwendbaren Lösungsmitteln gehören Alkohole, die den Alkoxygruppen in den Zinnund/oder Borverbindungen, die verwendet werden, entsprechen. Dies bedeutet, daß zu den anwendbaren Lösungsmitteln auch Alkohole gehören, die 1 bis 5 Kohlenstoffatome aufweisen, z.B. Methanol, Ethanol, n-Hexanol und dgl..
  • Lösungsmittelmengen des Lösungsmittels werden verwendet. Verwendet wird eine ausreichende Lösungsmittelmenge, um die Metallverbindungen zu lösen, die zur Erzeugung der binären Metalloxide in den Heteropolykondensaten verwendet werden. Es liegt innerhalb des Könnens des Durchschnittsfachmannes, die Menge an Lösungsmittel, die zu verwenden ist, zu bestimmen. Wie in dem folgenden Beispiel gezeigt werden wird, kann die Lösungsmittelmenge das 2- bis 6-fache des Volumens einer flüssigen Reaktionskomponente betragen. Größere oder kleinere Mengen an Lösungsmittel können verwendet werden. Wird eine feste Reaktionskompanente als Ausgangsmaterial verwendet, so kann eine analoge Menge an Lösungsmittel verwendet werden. Die Lösungsmittelmenge, die verwendet wird, wird etwas von der Dicke der gewünschten Produkt-Beschichtung abhängen sowie von der Viskosität des Polymeren, das auf das Substrat aufgetragen wird.
  • Wie in dem Beispiel gezeigt werden wird, werden gute Ergebnisse erhalten, wenn als Reaktionsmedium Methoxyethoxyethanol verwendet wird. Demzufolge sind diese Substanz und andere, die die gleichen Eigenschaften haben, als Reaktionslösungsmittel hoch bevorzugt.
  • Um das Sol-Gel-Verfahren durchzuführen, werden die miteinander umzusetzenden Verbindungen mit Wasser unter Reaktionsbedingungen vermischt. Zu diesem Zweck ist die Wassermenge etwa die Menge, die zur Hydrolyse der hydrolysierbaren Gruppen in den Zinn- und Borverbindungen, die als Ausgangsmaterialien verwendet werden, erforderlich ist. Wird somit beispielsweise ein Zinntetrahalogenid verwendet, so sind vier Mole Wasser für jedes Mol Zinntetrahalogenid erforderlich. Für jedes Mol eines verwendeten Trialkoxyborates sind drei Mole Wasser erforderlich.
  • Die Mengen an Wasser, die oben diskutiert wurden, sind die stoichiometrischen Mengen, d.h. die Mengen an Wasser, die erforderlich sind aufgrund der chemischen Gleichungen, nach denen das Verfahren abläuft. Es ist nicht erforderlich, daß eine genau stoichiometrische Menge verwendet wird. Dies bedeutet, daß für das Verfahren dieser Erfindung eine "im wesentlichen stoichiometrische Mengen" an Wasser verwendet werden kann. Wenn hier von einer "im wesentlichen stoichiometrischen Menge" die Rede ist, so ist damit die stoichiometrische Menge plus oder minus der Menge an Wasser gemeint, die innerhalb eines gewöhnlichen Verfahrensfehlers liegt. Infolgedessen ist in den meisten Fällen eine im wesentlichen stoichiometrische Menge an Wasser die stoichiometrische Menge plus oder minus 10 Mol-%.
  • Bei der Berechnung der stoichiometrischen Menge wird die Wassermenge ignoriert, die bei den Kondensations-Reaktionen in dem Sol-Gel-Verfahren erzeugt wird.
  • Das Sol-Gel-Verfahren umfaßt Kondensations-Reaktionen wie auch Hydrolyse-Reaktionen. Diese Kombination von Reaktionen ergibt sich für Zinn aus der oben zitierten japanischen Patentpublikation Kokoku 45-5915 wie folgt:
  • Ein analoges Hydrolyse-/Kondensationsverfahren findet mit den Borverbindungen statt, die als Ausgangsmaterialien im Rahmen dieser Erfindung verwendet werden. ln diesem Falle reagieren die Bor- und Zinn-Spezies (die -OH-Gruppen enthalten) durch Kondensation unter Bildung eines gemischten Heteropolykondensates, das sowohl Zinnoxid- als auch Boroxidreste enthält. Für den Fachmann ist erkennbar, daß jedes Boratom in dem Substrat an drei brückenbildende Sauerstoffatome -O- gebunden ist. Im Fall einiger Produkte wird angenommen, daß die Boroxidreste willkürlich unter den Zinnoxidgruppen verteilt sind; wobei alles, das erforderlich ist, ist, daß die Bor-enthaltenden Reste zu einer Erhöhung der Elektroleitfähigkeit beitragen.
  • Das Hydrolyse-/Kondensationsverfahren wird bei jeder geeigneten Temperatur durchgeführt, die zu den erwünschten Ergebnissen führt. Im allgemeinen wird das Verfahren bei einer Temperatur zwischen -20ºC und 130ºC durchgeführt. Vorzugsweise wird das Verfahren bei einer Temperatur zwischen 0ºC und 70ºC durchgeführt. Reaktionstemperaturen bei Umgebungstemperatur sind hoch bevorzugt.
  • Das Verfahren wird im allgemeinen bei einer Temperatur durchgeführt, bis Hydrolyse und Kondensation praktisch vollständig stattgefunden haben. Falls erwünscht, können mehr als eine Temperatur angewandt werden. Die ausgewählte Temperatur wird mindestens in gewissem Ausmaß bestimmt durch die Reaktivität der verwendeten Reaktionskomponenten und durch die relativen Mengen von angewandten Zinn- und Bor-Reaktionskomponenten.
  • Das Verfahren kann bei jedem beliebigen geeigneten Druck durchgeführt werden. Atmosphärischer Druck ist bevorzugt; jedoch kann auch bei einem sub-atmosphärischen Druck gearbeitet werden, falls dies erwünscht ist, um die Verflüchtigung von Lösungsmittel und anderen flüchtigen vorhandenen Komponenten zu unterstützen. Auch kann ein über-atmosphärischer Druck angewandt werden, jedoch bieten derartige Drucke normalerweise keine Material-Vorteile.
  • Die Verfahrensdauer ist nicht eine wirklich unabhängige Variable, sondern hängt in gewissem Ausmaße von den angewandten anderen Reaktionsvariablen ab, wie beispielsweise der Reaktionstemperatur und der den Ausgangsmaterialien eigenen Reaktivität. Im allgemeinen kann das Verfahren in 0,25 bis 24 Stunden durchgeführt werden. Oben wurde ausgeführt, daß das Verfahren in einer Stufe durchgeführt werden kann, bis die Kondensation vollständig abgelaufen ist. Es ist jedoch nicht erforderlich, daß das Verfahren in dieser Weise durchgeführt wird. Beispielsweise kann das Verfahren in zwei Stufen durchgeführt werden; zunächst erfolgt dabei eine Vorkondensation von einer oder von mehreren Reaktionskomponenten, bis der gewünschte Grad der Kondensation erfolgt ist, worauf die Kondensation vervollständigt wird, nachdem die Reaktionskomponenten miteinander vermischt wurden. Wie oben angegeben, kann das Verfahren durch Vermischen von zwei Polymeren durchgeführt werden. Im Falle dieser Ausführungsformen, bei denen separate Verfahrensstufen angewandt werden, können die separaten Stufen unter Verwendung der gleichen oder von verschiedenen Reaktionsbedingungen durchgeführt werden.
  • Das Verfahren kann bei mehr als einer Reaktionstemperatur durchgeführt werden. Beispielsweise kann ein großer Anteil der Hydrolyse-/Kondensation bei Umgebungstemperatur durchgeführt werden oder bei Temperaturen nahe Umgebungstemperatur, worauf sich eine Endstufe anschließt, die bei einer Temperatur durchgeführt wird, die etwas höher liegt, beispielsweise bei einer Temperatur innerhalb des Bereiches von 50ºC bis 150ºC.
  • Infolgedessen können die antistatischen Schichten dieser Erfindung mittels einer Niedrig-Temperatur-Technik erzeugt werden.
  • Die Beschichtungsverfahren, die angewandt werden, um die antistatische Zusammensetzung dieser Erfindung auf die Filme aufzubringen, können bestehen aus Walzen-Beschichtungsverfahren, bei denen eingesetzt werden ein Benetzungs-Zylinder oder eine Benetzungs-Walze, der bzw. die in die aufzutragende Lösung eintaucht, und ein Zylinder oder eine Walze, um die der Filmträger, der verarbeitet werden soll, geführt wird, wobei zwischen diese ein Lösungs-Meniskus erzeugt wird, der auf den Filmträger auftrifft, was zu einer Be-Schichtung von mindestens einer Oberfläche führt. Jedoch kann ein jedes der üblichen Beschichtungsverfahren angewandt werden, wie beispielsweise eine Trichterbeschichtung, unter Entfernung einer überschüssigen Menge von aufgetragenem Material mittels eines "Luftmessers", eine Bürstenbeschichtung und andere Techniken, die auf dem Beschichtungsgebiet eingesetzt werden.
  • Die Meng an antistatischer Zusammensetzung, die auf die Träger aufgebracht wird, kann sehr verschieden sein. Die Beschichtungsstärke kann variieren von 0,1 mg,/m² bis 300 mg/m², doch kann sie auch höher sein, beispielsweise bis zu 6 g/m² betragen, falls erforderlich. Im Falle photographischer Produkte wird die antistatische Zusammensetzung vorzugsweise in einer Menge von 1 bis 200 mg/m² verwendet.
  • Die antistatische Schicht kann verschiedene Positionen in dcn zu behandelnden Produkten einnehmen, beispielsweise kann sie eine Rückschicht sein oder eine Unterschicht. Im Falle von photographischen Produkten ist die antistatische Schicht im allgemeinen eine Rückschicht, eine die Haftung verbessernde Schicht (subbing layer) oder COC.
  • Um die mechanischen Eigenschaften der Schichten zu verbessern und insbesondere den Reibungs-Koeffizienten, kann eine Schicht vorgesehen werden, die eine Verbindung enthält, welche die gewünschte Eigenschaft erzeugt, z.B. ein Gleitmittel, wie beispielsweise Carnaubawachs. Auch kann eine Schutzschicht aufgebracht werden, die ein Cellulosederivat enthält, z.B. Celluloseacetobutyrat.
  • Es ist möglich, mit der antistatischen Schicht die zwei vorstehenden erwähnten Schichten zu verwenden oder eine einzelne Schicht, die sowohl das Bindemittel als auch das Gleitmittel enthält. Die antistatische Schicht behält jedoch ihre leitfähigen Eigenschaften bei.
  • Die antistatischen Schichten, die aus der Zusammensetzung gemäß der Erfindung hergestellt werden, können einen permanenten oder einen temporären Charakter aufweisen, je nach dem welcher Zweck im Falle der behandelten Produkte verfolgt wird. Ein Vorteil der antistatischen Zusammensetzung gemäß dieser Erfindung besteht darin, daß die hieraus hergestellten antistatischen Schichten, und die zu einem dauerhaften Teil einer Beschichtung auf einem Träger gemacht wurden, wie beispielsweise im Falle eines strahlungsempfindlichen, z.B. photographischen Produktes, leitfähig bleiben, sogar nach der Entwicklung und Verarbeitung des produktes in Verarbeitungslösungen und Verarbeitungsanlagen.
  • Im vorstehenden wurde angegeben, daß diese Erfindung ein Verfahren bereitstellt, nachdem eine antistatische Beschichtung bei einer niedrigen Temperatur erzeugt werden kann.
  • Dieses führt zu wesentlichen Vorteilen in Beschichtungsmaterialien, wie beispielsweise im Falle eines photographischen Films. Festzustellen ist jedoch, daß die Zusammensetzungen dieser Erfindung auch bei üblichen höheren Temperaturen verwendet werden können, sofern dies erwünscht ist. Eine weitere Diskussion der Temperaturen, die im Rahmen dieser Erfindung angewandt werden können, findet sich im Anschluß an das Beispiel.
  • Beispiel
  • (A) Zinntetrachlorid (20 ml, 0,17 Mol) sowie 50 ml Methoxyethoxyethanol wurden 30 min lang bei Umgebungstemperatur miteinander verrührt. Daraufhin wurden 12,3 ml Wasser (0,68) Mol langsam zugegeben und bei Umgebungstemperatur 30 min lang eingemischt, worauf die erhaltene Masse 2 h lang auf 60ºC erhitzt wurde, unter Verwendung eines eine konstante Temperatur gewährleistenden Bades. Erhalten wurde eine hochviskose Sol-Gel-Lösung von Zinnoxid, d.h. ein Zinnoxid-Heteropolykondensat.
  • (B) Zinntetrachlorid (20 ml, 0,17 Mol) und 100 ml Methoxyethoxyethanol wurden bei Umgebungstemperatur 30 min lang miteinander verrührt. Unter Rühren wurden zu dieser Mischung 0,5 ml (0,0044 Mol) Trimethylborat zugegeben; die erhaltene Mischung wurde weitere 15 min lang bei Raumtemperatur gerührt. Daraufhin wurden 12,5 ml H&sub2;O (1 Mol Wasser pro Mol hydrolysierbare Gruppe) in 25 ml Methoxyethoxyethanol sehr langsam zugegeben, worauf die Reaktionsmischung weitere 10 min lang bei Umgebungstemperatur gerührt wurde. Das Reaktionsprodukt bestand aus einem gemischten Zinnoxid-, Boroxid-Heteropolykondensat.
  • (C) Proben der Produkte von (A) und (B) wurden mittels eines Beschichtungsmessers auf einen eine Haftschicht aufweisenden Estar-Film auf einem auf 43ºC erhitzten Block aufgetragen, unter Verwendung eines 0,0127 mm Bird-Messers. Die Filme wurden in einem Ofen 15 min lang auf 75ºC erhitzt. Die erhaltenen Blätter waren transparent. Der Widerstand dieser Blätter wurde nach üblichen Methoden gemessen unter Verwendung von abgestimmten Flächen des Blattes zwischen Testelektroden im Vergleich zu Standard-Widerständen. Die Ergebnisse waren wie folgt Widerstands-Messungen Blatt-Widerstände in Ohm pro Quadrat bei 40%iger relativer Feuchtigkeit Proben Zinnoxid-Sol-Gel (A) Zinnoxid-Boroxid-Sol-Gel (B)
  • Wie gezeigt wird, ist die Elektroleitfähigkeit des Produktes dieser Erfindung (B) bemerkenswert besser als die des Vergleichsmaterials.
  • Wie in der oben zitierten japanischen Publikation Kokai 56- 82504 dargelegt wird, sind mit der Herstellung von antistatischen Schichten des Standes der Technik probleme verbunden. Beispielsweise basieren einige Methoden auf einer Abscheidung im Vakuum oder auf Zerstäubungstechniken. Einige Methoden des Standes der Technik erfordern das Erhitzen des Filmes in Gegenwart von Luft auf Temperaturen im Bereich von 400 bis 600ºC oder darüber. Derartige Techniken sind im allgemeinen bei Verwendung von Substraten, wie beispielsweise plastischen Materialien, die bei solchen Temperaturen abgebaut werden, ungeeignet.
  • Im Gegensatz zu den Verfahren des Standes der Technik, die oben diskutiert wurden, erfordert diese Erfindung keine kostspielige Ausrüstung für eine Vakuumabscheidung oder ein Zerstäuben und sie erfordert auch nicht die Anwendung von hohen Temperaturen.
  • Bezüglich der anzuwendenden Temperaturen veranschaulichen die folgenden Angaben die unerwarteten Ergebnisse, die im Falle dieser Erfindung erzielt werden. Wie in dem Beispiel angegeben ist, hat ein undotierter Zinnoxid--Sol-Gel-Film, hergestellt durch Erhitzen an der Luft bei 75ºC, einen Blatt-Widerstand in Ohm pro Quadrat von 10¹³. Nach Erhitzen an der Luft bei 500ºC verminderte sich der Blatt-Widerstand auf 10¹¹. Im Gegensatz hierzu hatte der Film der Erfindung, hergestellt nach diesem Verfahren des obigen Beispieles einen beträchtlich besseren Widerstand von 10&sup9;, auch wenn keine hoch erhöhte Temperatur angewandt wurde, wie im Falle 5der reinen Zinnoxidschicht. Eine Verarbeitung bei erhöhten Temperaturen, d.h. bei 450 bis 500ºC in einer Luft-, Sauerstoff- oder Inertgas-(z.B. Argon)Atmosphäre führt zu einer weiteren Verbesserung der Leitfähigkeit des Produktes dieser Erfindung. Beispielsweise wurde durch Erhitzen in Sauerstoff 1 h lang bei 450ºC der Widerstand auf 10&sup5; Ohm pro Quadrat vermindert. Das undotierte Zinn, das in Argon 1 h lang auf 450ºC erhitzt wurde, hatte einen Widerstand von 10&sup4; Ohm pro Quadrat.
  • Andere Produkte dieser Erfindung lassen sich aus Mischungen von einem Zinntetrahalogenid oder einem Zinnacylat oder Alkoxid der Typen wie oben beschrieben und veranschaulicht, und einem Borat des Typs wie oben definiert und veranschaulicht, herstellen. Die Mischungen werden derart formuliert, daß der Boroxidgehalt der Produkte bei 1 bis 30 Mol-% liegt. Die Mischungen werden hydrolysiert und kondensiert unter Verwendung einer im wesentlichen stoichiometrischen Menge an Wasser sowie in Gegenwart eines organischen Lösungsmittels der oben angegebenen Typen. Die Hydrolyse-/Kondensation wird in Gegenwart von Luft oder Sauerstoff durchgeführt, unter Anwendung einer Reaktionstemperatur von -20ºC bis 130ºC 15 min bis 24 h lang, derart, daß kürzere Zeiten im Falle von höheren Reaktionstemperaturen angewandt werden.
  • Schichten der erhaltenen gemischten Zinnoxid-Boroxid-Heteropolykondensate werden wie oben beschrieben hergestellt. Sie können auch hergestellt werden durch Sprühbeschichtung, Spinnbeschichtung und Tauchbeschichtung, wie beschrieben in Gonzales-Oliver supra, und nach ähnlichen Methoden.
  • Die Konzentration der Zinnoxid-Boroxid-Heteropolykondensate in der Lösung, die zur Beschichtung verwendet wird, kann innerhalb weiter Grenzen schwanken. Ganz allgemein liegt sie bei 0,50 bis 50 Gew.-%. Falls erwünscht, können größere oder kleinere Konzentrationen angewandt werden.
  • Diese Erfindung wurde im Detail unter besonderer Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsformen beschrieben. Ein Fachmann, der sich mit der obigen detaillierten Beschreibung vertraut gemacht hat, kann beliebige Modifizierungen oder Veränderungen durchführen, ohne dabei den Schutzbereich der beigefügten Ansprüche zu verlassen.

Claims (3)

1. Material mit einer antistatischen Schicht auf einem Film, ausgewählt aus photographischem Film und kinematographischem Film; wobei die Schicht ein sich von einem Sol-Gel-Verfahren stammendes Heteropolykondonsat mit einem Zinnoxid und Boroxid in einem dreidimensionalen Metalloxidnetzwerk aufweist, in dem die Zinnoxid- und Boroxidreste über brückenbildende Sauerstoffatome miteinander verbunden sind, und wobei der Boroxidgehalt bei 1 bis 30 Mol-% liegt und wobei das Heteropolykondensat ferner dadurch gekennzeichnet ist, daß es nach einem Verfahren hergestellt wird, bei dem eine Mischung aus einer hydrolisierbaren Zinnverbindung und einer hydrolisierbaren Borverbindung, in der die Borverbindung in einer Menge von 1 bis 30 Mol-% vorliegt, einer Hydrolyse/Kondensation in einem organischen Lösungsmittel unterworfen wird, unter Verwendung einer stöchiometrischen oder praktisch stöchiometrischen Menge von Wasser, unter Bildung einer Lösung des Heteropolykondensates; und nachfolgendem Aufbringen der Lösung des Kondensates auf den Film und Entfernung des Lösungsmittels bei einer Temperatur von 50ºC bis 150ºC, unter Bildung der antistatischen Schicht des Heteropolykondensates auf dem Film, wobei die antistatische Schicht zu einem Blatt-Widerstand in Ohm pro Quadrat bei 49prozentiger relativer Feuchtigkeit von 10&sup9; führt, wenn sie bei dieser Temperatur erzeugt wird.
2. Material nach Anspruch 1, bei dem die Beschichtungsstärke der antistatischen Schicht bei 0,1 mg/m² bis 300 mg/m² liegt.
3. Material nach Anspruch l, bei dem die Beschichtungsstärke der antistatischen Schicht bei 1 bis 200 mg/m² liegt.
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