DE69001514T2 - Verfahren zur verbindung von metallischen leitern einer schichtstruktur mit einer zwischen den schichten liegenden isolierschicht. - Google Patents

Verfahren zur verbindung von metallischen leitern einer schichtstruktur mit einer zwischen den schichten liegenden isolierschicht.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Laserstrahltyp-Arbeitsverfahren gemäp dem Oberbegriff von Anspruch 1. Ein solches Verfahren ist aus "Electronic", Vol. 55, No. 14, July 1982, New York, USA, Seite 159 bis 162, bekannt.
  • Eine Flüssigkristallanzeige wird beispielsweise so gebildet, dar sie zwei lichtleitende Flachglassubstrate hat, die einander gegenüberliegend angeordnet sind. Eines der Substrate hat eine Mehrzahl von Dünnfilmtransistoren, eine Mehrzahl von Pixel- bzw. Bildpunktelektroden, eine Mehrzahl von Treiberdrähten usw. die als ein Filmmuster gegenüber dem anderen Substrat gebildet werden. Eine gemeinsame Elektrode und ein Farbfilter werden so auf dem letzteren Substrat gebildet, daß sie dem ersteren Substrat gegenüberliegen. Ein Flüssigkristall wird in den Raum zwischen den zwei gegenüberliegenden Substraten gefüllt, um eine Flüssigkristallschicht bereitzustellen.
  • Das Filmmusterseitensubstrat wird als Matrixsubstrat bezeichnet und hat ein Schaltungsmuster um das Filmmuster herum. Eine Prüfung für den Zustand des Filmmusters wird durchgeführt.
  • Bei der Herstellung einer solchen Flüssigkristallanzeige sind viele Schritte beteiligt, wie z.B. ein Schritt zum Herstellen eines Matrixsubstrats durch Bilden eines Filmmusters auf einem Glassubstrat und ein Schritt zum Prüfen des Filmmusters. Dünnfilmtransistoren auf dem Filmmuster werden manchmal aufgrund statischer Elektrizität, die beim Filmmuster-Bildungsschritt und bei einem Filmbildungsschritt beteiligt ist, zerstört. Zum Verhindern einer ungünstigen Auswirkung durch die Anwendung statischer Elektrizität auf den Dünnfilmtransistor werden eine Mehrzahl von Metalleitern auf dem Schaltungsmuster-Bildungsabschnitt so bereitgestellt, daß sie elektrisch miteinander verbunden sind. Für eine Prüfung, die für den Zustand des Filmmusters durchzuführen ist, werden die Metalleiter elektrisch voneinander isoliert. Am Ende eines vorbestimmten Prüfens werden die dazugehörigen Metalleiter wieder miteinander verbunden, worauf ein nachfolgender Schritt oder Schritte folgen.
  • Das zum Stand der Technik gehörende Dokument "Electronics", Vol. 55, No. 14, July 1982, New York, USA, Seite 159 bis 162, beschreibt ein Verfahren, bei dem ein erster Laserimpuls durch eine erste Quarzschicht auf eine erste Metallschicht gestrahlt wird, so daß die erste Metallschicht und die erste Quarzschicht durchlöchert werden. Ferner wird ein zweiter Laserimpuls durch eine zweite Quarzschicht auf eine zweite Metallschicht gestrahlt, so daß die zweite Metallschicht und die zweite Quarzschicht durchlöchert werden. Folglich werden erste und zweite geschmolzene Leiter durch die Strahlung der ersten und zweiten Laserimpulse auf die erste bzw. zweite Metallschicht gebildet, und sie diffundieren in die umgekehrte Richtung in die Richtung, wo Laserimpulse gestrahlt werden, und auf diese Weise wird die erste Metallschicht mit der zweiten Metallschicht verbunden. Deshalb muß bei diesem Verfahren die Strahlung eines Laserimpulses zweimal erfolgen, um die erste Metallschicht mit der zweiten Metallschicht zu verbinden.
  • Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Laserstrahl-Arbeitsverfahrens zum positiven bzw. festen Zusammenverbinden von Metalleitern von einer abwechselnden Schichtstruktur mit einem zwischen den Metalleitern befindlichen elektrischen Isolator durch Verwendung eines Laserstrahls.
  • Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die vorliegende Erfindung ein Laserarbeitsverfahren nach Anspruch 1 vor.
  • Bei dem gegenwärtigen Laserstrahltyp-Arbeitsverfahren werden jeweilige Metalleiter über einer Oberflächenseite eines lichtleitenden Substrats, das als abwechselnde Schichtstruktur mit einem elektrischen Isolator zwischen den Metalleitern gebildete Metalleiter hat, miteinander verbunden. Das Miteinanderverbinden der Metalleiter wird erreicht durch Richten eines Laserstrahls auf einen darunterliegenden Metalleiter von der Hinterflächenseite des lichtleitenden Substrats, damit es schmilzt und in geschmolzenem Zustand aufwärts fließt, so daß es mit einem darüberliegenden Metalleiter verbunden wird.
  • Ein Laserstrahl-Arbeitsgerät zur Durchführung dieses Verfahrens umfaßt:
  • einen Laseroszillator zum Aussenden eines Laserstrahls;
  • eine Lichtquelle zum Aussenden eines Ausrichtungslichtes relativ zum Laserstrahl, der vom Laseroszillator ausgegeben wird;
  • ein optisches Wegbildungs-Optiksystem zum Bereitstellen eines optischen Beleuchtungsweges durch den vom Laserstrahloszillator ausgegebenen Laserstrahl und das Ausrichtungslicht, das von der Lichtquelle ausgestrahlt wird;
  • einen XY-Tisch, auf dem ein lichtleitendes Substrat angeordnet ist, zum gesteuerten Bewegen des Substrats entlang der XY-Ebene;
  • ein Bildbildungs-Optiksystem, das es erlaubt, den Laserstrahl und das Ausrichtungslicht, die vom optischen Wegbildungs-Optiksystem kommen, an einer vorbestiminten Stelle auf einem darunterliegenden Metalleiter einer später erwähnten abwechselnden Schichtstruktur durch die Hinterflächenseite des Substrats abzubilden;
  • einen Beleuchter bzw. eine Leuchte zum Beleuchten der Hinterflächenseite des lichtleitenden Substrats durch das Bildbildungs-Optiksystem;
  • eine Bildaufnahmevorrichtung zum Aufnehmen eines Bildsignals auf der Hinterflächenseite des Substrats durch das Bildbildungs-Optiksystem; und
  • einen Überwachungsbildschirm zum Umwandeln des vom Aufnahmegerät kommenden Bildsignals, das darauf sichtbar zu machen ist, und zum Positionieren eines Bildbildungsfleckens des Laserstrahls und des Ausrichtungslichts auf dem lichtleitenden Substrat.
  • Bei diesem Gerät wird das von der Ausrichtungslichtquelle stammende Ausrichtungslicht hinter dem optischen Wegbildungs-Optiksystem und dann hinter dem Bildbildungs- Optiksystem auf die Hinterflächenseite des lichtleitenden Substrats gerichtet In diesem Zustand wird ein Hinterflächenbild des Substrats, das von der Bildaufnahmevorrichtung aufgenommen wird, auf dem Überwachungsbildschirm sichtbar gemacht. Das Ausrichtungslicht wird in einem Bereich positioniert, in dem dazugehörige Metalleiter einer abwechselnden Schichtstruktur zusammenzuverbinden sind. Der vom Laseroszillator ausgegebene Laserstrahl geht von der Hinterflächenseite des Substrats, das zwischen den Metalleitern einen elektrischen Isolator hat, hinter das Lichtwegbildungs-Optiksystem und dann hinter das Bildbildungs-Optiksystem und beleuchtet einen darunterliegenden Metalleiter der abwechselnden Schichtstruktur. Als Folge wird der darunterliegende Metalleiter in dem vorher erwähnten Bereich geschmolzen und fließt aufwärts in einem geschmolzenen Zustand durch den elektrischen Leiter heraus und in den dazugehörigen, darüberliegenden Metalleiter, so daß der darunterliegende Metalleiter mit dem darüberliegenden Metalleiter verbunden wird, wobei sich der Isolator dazwischen befindet.
  • Die vorliegende Erfindung kann anhand der folgenden ausführlichen Beschreibung in Verbindung mit den bei liegenden Zeichnungen besser verstanden werden; es zeigen:
  • Fig. 1 eine Ansicht, die ein Laserstrahltyp-Arbeitsgerät zeigt;
  • Fig. 2 eine graphische Ansicht, die ein Matrixsubstrat zur Verwendung in einer Flüssigkristallanzeige zeigt;
  • Fig. 3 eine Ansicht, die eine Richtung zeigt, in die ein Laserstrahl des Gerätes zur Beleuchtung gerichtet ist;
  • Fig. 4 eine graphische Darstellung, die eine Beziehung eines Laserstrahlausgangspegels mit der Zeit im vorliegenden Gerät zeigt;
  • Fig. 5 eine Ansicht, die einen Zustand eines Schmelzbades, das durch Verwendung des vorliegenden Gerätes gebildet wird, zeigt; und
  • Fig. 6 eine Ansicht, die ein Ergebnis einer Verbindung zwischen Metalleitern zeigt, das durch Anwendung des Verfahrens der vorliegenden Erfindung erreicht wird.
  • Ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird unten unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen erklärt.
  • Die Fig. 1 zeigt ein Laserstrahl-Bearbeitungsgerät. Die Bezugsnummer 20 zeigt einen XY-Tisch, der ein Durchgangsloch 22 hat, über dem sich ein Matrixsubstrat 21 befindet, wie in Fig. 1 gezeigt ist, um eine Flüssigkristallanzeige bereitzustellen.
  • Wie in Fig. 2 gezeigt ist, ist das Matrixsubstrat 21 von einem solchen Typ, daß ein Filmmuster auf einer Flächenseite eines folienähnlichen Glassubstrats (transparenten Substrats) 11 gebildet wird, und es hat gemusterte Dünnfilmtransistoren, Bildpunktelektroden, Treibdrähte usw. Eine Verdrahtung 13 ist um das Filmmuster 12 herum gebildet, um diese Elemente auf dem Filmmuster zu treiben. Die Verdrahtung 13 beinhaltet die Metalleiter 14, 15, 16 und 17 als ein Schaltungsmuster. Diese Metalleiter dienen dazu, eine Mehrzahl von internen Transistoren auf dasselbe Potential zu setzen, um zu verhindern, daß sie nach dem Prüfen aufgrund einer ungünstigen Wirkung, die durch die beteiligte statische Elektrizität ausgeübt wird, zerstört werden.
  • Das Matrixsubstrat 21 befindet sich über dem Durchgangsloch 22 des XY-Tisches 20 mit der Hinterflächenseite des Glassubstrats 11, die eine ungemusterte Seite ist, oben.
  • Ein Laseroszillator 20 besteht aus einem YAG-Laseroszillator zum Ausgeben eines Laserstrahls R zum Arbeiten und wird mit elektrischer Leistung von einer Laserstromquelle 31 versorgt. Ein optisches Linsensystem 32 ist auf einem optischen Weg bzw. Strahlenweg, über dem sich der Laserstrahl R, der vom Laseroszillator 30 stammt, bewegt, angeordnet. Das optische Linsensystem 32 hat die Funktion des Umwandelns eines einfallenden Laserstrahls R in einen parallelen Laserstrahl Ra eines größeren Durchmessers als der Laserstrahl R. Ein Spiegel 33 ist auf dem Strahlenweg des optischen Linsensystems 32 positioniert. Der Laserstrahl Ra, der vom optischen Linsensystem 32 kommt, wird vom Spiegel 33 reflektiert und zu einem Strahlenteiler 34 geleitet.
  • Eine Lichtquelle 35 ist von einem Ausrichtungstyp, der Weißfarbenlicht bzw. weißes Licht H ausstrahlt. Das weiße Licht H, das von der Lichtquelle 35 stammt, wird von einer optischen Linse 36 in paralleles Licht eines größeren Durchmessers umgewandelt, und es führt zum Strahlenteiler 34. Der Strahlenteiler 34 ist so angeordnet, daß der Laserstrahl Ra und das weiße Licht H zum selben Strahlenweg gerichtet werden.
  • Der Laserstrahl Ra und das weiße Licht H, die den Strahlenteiler 34 verlassen, werden durch einen Schlitz 37, dessen Lichtdurchgang veränderbar gemacht ist, zu einein Bildbildungs-Optiksystem 41 gesandt. Das Bildbildungs- Optiksystem 41 kondensiert den Laserstrahl Ra und das weiße Licht H und bildet ein Schlitzbild auf dem Filmmuster des Matrixsubstrats 21. Ausführlicher angegeben, wird ein Mikroskop als Abbildungs-Optiksystem 41 verwendet, wie unten dargelegt werden wird. Das Mikroskop beinhaltet einen dichroitischen bzw. zweifarbigen Spiegel 42 und eine Objektivlinse 43. Der Laserstrahl Ra und das weiße Licht H werden vom zwei farbigen Spiegel 42 reflektiert, und ein Bild wird von der Objektivlinse 43, die auf diesem Reflexionsstrahlenweg positioniert ist, gebildet.
  • Eine Serien- bzw. Reihenanordnung von einem Strahlenteiler 44 und der Abbildungslinse 45 ist auf dem Strahlenweg, der den zwei farbigen Spiegel 42 mit der Objektivlinse 43 im Abbildungs-Optiksystem verbindet, angeordnet. Eine Leuchte 46 ist auf eine Abzweigungsrichtung des Strahlenteilers 44 gerichtet.
  • Das Licht L, das von der Leuchte 46 ausstrahlt, wird vom Strahlenteiler 44 reflektiert und beleuchtet das Matrixsubstrat 21 hinter dem zweifarbigen Spiegel 42 und hinter der Objektivlinse 43. Licht, das vom Matrixsubstrat 21 reflektiert wird, wird durch die Objektivlinse 43, den zweifarbigen Spiegel 42 und den Strahlenteiler 44 an eine Abbildungslinse 45 gesandt.
  • Eine CCD-Kamera 47 bzw. Kamera mit ladungsgekoppeltem Bauelement befindet sich auf einer Abbildungsposition, d.h. einer Position, an der durch die Abbildungslinse 45 ein Bild gebildet wird. Ein Bildsignal, das von der CCD-Kamera 47 ausgegeben wird, wird an einen Überwachungsbildschirm 48 gespeist.
  • Eine treibende Einheit 49 zur Strahlenpositionierung bewegt den XY-Tisch 20 und das Bildbildungs-Optiksystem 41 relativ zueinander, um das Positionieren eines Fleckes bzw. Punktes des Laserlichtes Ra und den des weißen Lichtes H an einem Verbindungsbereich der zwei Metalleiter auf dem Glassubstrat 11, wie etwa der Metalleiter 14 und 15, Metalleiter 15 und 16, Metalleiter 16 und 17 oder Metalleiter 17 und 14, zu ermöglichen. Die Positionierung des Strahles und des Lichtes erfolgt während der Betrachtung des Überwachungsbildschirms.
  • Der Betrieb des so angeordneten Geräts wird unten ausführlich erklärt.
  • Die Metalleiter 14, 15, 16 und 17 des Matrixsubstrats 21 werden an ihren Ecken zum Prüfen weggeschnitten. Nachdem die Metalleiter 14, 15, 16 und 17 elektrisch voneinander isoliert wurden, werden das Filmmuster 12 und die Verdrahtung 13 auf ihren Zustand untersucht.
  • Nach Abschluß der Untersuchung wird das Schaltungsmuster an jeder Ecke des Matrixsubstrats mit dem Licht L, das von der Leuchte 46 ausgestrahlt wird, beleuchtet, so daß die Metalleiter 14, 15, 16 und 17 wieder zusammengefügt werden. Das Licht L wird hinter dem Strahlenteiler 44, zweifarbigen Spiegel 42 und der Objektivlinse 43 auf das Matrixsubstrat 21 gerichtet. Zu dieser Zeit nimmt die CCD-Kamera 47 ein Bild auf dem Matrixsubstrat 21 durch die Objektivlinse 43, den zweifarbigen Spiegel 42, dem Strahlenteiler 44 und die Abbildungslinse 45 auf und erzeugt ein entsprechendes Bildsignal. Das Bildsignal wird an den Überwachungsbildschirm 48 gesandt, wo es sichtbar gemacht wird.
  • Auf diese Weise wird das Matrixsubstrat 21 auf dem Überwachungsbildschirm 48 sichtbar gemacht.
  • In diesem Zustand wird die Lichtquelle 35 eingeschaltet, und weißes Licht H zur Ausrichtung wird ausgestrahlt. Das Licht H wird von der Optiklinse 36 in paralleles Licht eines größeren Durchmessers umgewandelt und zum Bildbildungs- Optiksystem 41 hinter dem Strahlenteiler 34 und veränderlichen Schlitz 37 geleitet. Im Abbildungs-Optiksystem 41 wird das weiße Licht H vom zweifarbigen Spiegel 42 reflektiert und dann von der Objektivlinse 43 kondensiert, um ihm zu erlauben, die Hinterflächenseite des Glassubstrats 11 zu beleuchten. In diesem Zustand wird der XY-Tisch 20 von der treibenden Einheit 49 getrieben, um das Matrixsubstrat 21 auf der XY-Ebene zu bewegen. Die Bewegung des Matrixsubstrats 21 wird vom Überwachungsbildschirm überwacht, um das Licht H am Verbindungsbereich der Metalleiter genau zu positionieren.
  • Dann wird ein Laserstrahl R vom Laseroszillator 30 ausgegeben, vom optischen Linsensystem 32 in paralleles Licht eines größeren Durchmesser umgewandelt, von den Spiegeln 33 und 34 reflektiert und hinter dem veränderlichen Schlitz 37 zum Bildbildungs-Optiksystem 41 gesandt. Im Abbildungs-Optiksystem 41 wird der Laserstrahl Ra vom zweifarbigen Spiegel 42 reflektiert, von der Objektlinse 43 kondensiert und durch die Hinterflächenseite des Glassubstrats 11 auf den Verbindungsbereich der Metalleiter gerichtet.
  • Es sei angenommen, daß die Metalleiter 15 und 16 an einem Bereich verbunden werden, der in Fig. 2 durch A angegeben ist. Wie in Fig. 3 gezeigt ist, die eine Umkehrungsansicht des in Fig. 1 gezeigten Matrixsubstrats 21 zeigt, durchdringt der Laserstrahl das Glassubstrat 11 des Matrixsubstrats 21, um den Metalleiter 16 zu beleuchten. In dem Bereich A liegt der Metalleiter 16 auf dem Glassubstrat 11, und der Metalleiter 15 liegt über dem Metalleiter 16, wobei sich ein elektrischer Isolator 18 dazwischen befindet.
  • Zu dieser Zeit steigt der Ausgangspegel des Laserstrahls P abrupt an und sinkt allmählich, wie in Fig. 4 gezeigt ist. Nach Beleuchtung mit dem Laserstrahl P wird der Metalleiter 16 durch diese Beleuchtungsenergie geschmolzen, um ein Schmelzbad 19, wie in Fig. 5 gezeigt ist, zu liefern. Nach der weiteren Anwendung des Laserstrahls P wird die Badenergie auf den elektrischen Isolator 18, den Metalleiter 15 und das Glassubstrat 11 übertragen, wobei sie mehr auf den elektrischen Isolator 18 und den Metalleiter 15 angewandt wird, weil der Isolator und der Metalleiter 15 eine niedrigere Festigkeit besitzen. Die gespeicherte Energie des Bades 19 bricht den Isolator 18 und den Metalleiter 15 auf, wie in Fig. 6 gezeigt ist. Da in diesem Fall das Bad 19 durch das Glassubstrat 11 und den Isolator 18 eingeschlossen wird, werden der Isolator und der Metalleiter 15 momentan aufgebrochen, wobei zu dieser Zeit ein geschmolzener Leiter 23 des Metalleiters 16 aufwärts herausfließt. Auf diese Weise wird zu dieser Zeit ein aufwärts konvergierendes bzw. zusammenlaufendes Loch von der Seite des Glassubstrats 11 her gebildet, und der herausgeflossene Leiter 23 wird auf der Seitenfläche des Loches abgelagert, um einen verbundenen Bereich zwischen den Metalleitern 15 und 16 zu bilden.
  • In dem vorher erwähnten Ausführungsbeispiel tritt der Laserstrahl P in das Glassubstrat 11 ein und beleuchtet einen darunterliegenden Metalleiter 16, der neben dem Glassubstrat 11 eingeschlossen ist, um das Schmelzen des Metalleiters 16 zu bewirken, so daß der geschmolzene Leiter 23 aufwärts herausfließt, um einen verbundenen Bereich zwischen den Metalleitern 15 und 16 zu erhalten. Auf diese Weise ist es möglich, eine Verbindung (einen verbundenen Bereich) leicht und fest zwischen den Metalleitern 15 und 16 durch den dazwischenliegenden elektrischen Isolator 18 zu erreichen. Die Wahrscheinlichkeit einer Verbindung offenbart nach der Untersuchung etwa 100%. Ferner ist der elektrische Widerstand am verbundenen Bereich zu allen Zeiten von der Ordnung unter +X. Daher ist es möglich, eine stabile Verbindung von geringerer Abweichung zu erhalten.
  • Dieselbe stabile Verbindung wird zwischen den Metalleitern 14 und 15, den Metalleitern 16 und 17 und den Metalleitern 17 und 14 erhalten.
  • Es ist zu bemerken, daß der Laserstrahi P zu ungefähr 10% absorbiert wird, während er durch das Glassubstrat 11 geleitet wird, so daß keine nachteilige Wirkung auf die erhaltene Verbindung ausgeübt wird.
  • Wird eine Verbindung zwischen den jeweiligen Metalleitern des Matrixsubstrats 21 nach dem vorliegenden Verfahren zustandegebracht, kann eine schnelle und feste Verbindung erreicht werden, und eine leichte Prüfung kann für den Zustand elektrischer Kontakte der Matrixsubstrate durchgeführt werden.
  • Obwohl in dem vorher erwähnten Ausführungsbeispiel die Metalleiter und elektrischen Isolatoren als eine als dreischichtige Struktur vorhanden erklärt wurden, kann die vorliegende Erfindung bei einer Verbindung angewandt werden, die auf einer fünf- oder mehrschichtigen Struktur, die Metalleiter und elektrische Leiter beinhaltet, zustandegebracht wird. Die vorliegende Erfindung kann ebenso bei einer Verbindung angewandt werden, die zwischen den Metalleitern des Matrixsubstrats hergestellt wird, und bei einer Verbindung zwischen jeweiligen assoziierten bzw. verbundenen Metalleitern, die durch den dazwischenliegenden elektrischen Isolator über dem transparenten Substrat aufeinanderliegen.
  • Obwohl das weiße Licht H zum Ausrichten als auf demselben Strahlenweg bewegt beschrieben wurde wie der, auf dem sich ein vom Strahlenteiler 34 abgelenkten Laserstrahl bewegt, kann er das Matrixsubstrat 21 hinter einem anderen Weg beleuchten.

Claims (1)

1. Laserarbeitsverfahren zum Verbinden von ersten und zweiten Metalleiterschichten (16, 15), die mit einer elektrischen Isolierschicht (18), die dazwischenliegt, durch einen Laser aufeinanderlaminiert bzw. -geschichtet werden, wobei die laminierte Struktur (21) auf einem lichtleitenden Substrat (11) befestigt wird, so daß die erste Metalleiterschicht (16) in direktem Kontakt mit dem Substrat (11) ist, das den Schritt umfaßt zum
Anwenden eines Laserstrahls durch das Substrat (11) auf die erste Metalleiterschicht (16), so daß der Abschnitt der ersten Metalleiterschicht (16), bei dem der Laserstrahl angewandt wird, schmilzt,
gekennzeichnet durch weitere Schritte zum
Bilden eines geschmolzenen Metallbades bzw. Metallschmelzbades (19);
Fortsetzen der Anwendung des Laserstrahls, bis die im Schmelzbad (19) gespeicherte Energie eine solche ist, daß sie die elektrische Isolierschicht (18) und die zweite Metalleiterschicht (15), die eine niedrigere Festigkeit haben als die des lichtleitenden Substrats (11), zerstört, so daß die Schmelze des Metalleiters durch die Isolierschicht (18) fließt, um die Oberfläche der zweiten Metalleiterschicht (15) zu erreichen, wobei die gewünschte Verbindung der ersten und zweiten Metalleiterschichten (16, 15) erreicht wird.
DE9090113088T 1989-07-14 1990-07-09 Verfahren zur verbindung von metallischen leitern einer schichtstruktur mit einer zwischen den schichten liegenden isolierschicht. Expired - Fee Related DE69001514T2 (de)

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Publication Number Publication Date
DE69001514D1 DE69001514D1 (de) 1993-06-09
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5562842A (en) * 1994-10-17 1996-10-08 Panasonic Technologies, Inc. Material treatment apparatus combining a laser diode and an illumination light with a video imaging system
US5961860A (en) * 1995-06-01 1999-10-05 National University Of Singapore Pulse laser induced removal of mold flash on integrated circuit packages
DE19726489C1 (de) * 1997-06-21 1999-02-11 Hartmann & Braun Gmbh & Co Kg Verfahren zur Herstellung einer mechanischen Verbindung zwischen einem dünnen metallischen Draht und einem Glaskörper
JP2002196352A (ja) * 2000-12-07 2002-07-12 Koninkl Philips Electronics Nv 予備配線を有する液晶表示装置
US8586398B2 (en) * 2008-01-18 2013-11-19 Miasole Sodium-incorporation in solar cell substrates and contacts
US8536054B2 (en) * 2008-01-18 2013-09-17 Miasole Laser polishing of a solar cell substrate
US8546172B2 (en) 2008-01-18 2013-10-01 Miasole Laser polishing of a back contact of a solar cell
US20110002084A1 (en) 2009-07-06 2011-01-06 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Chip-type electric double layer capacitor and method of manufacturing the same
CN102523759B (zh) 2010-09-10 2013-08-14 松下电器产业株式会社 电子部件及电子部件用导线
US9343310B1 (en) * 2012-06-27 2016-05-17 Nathaniel R Quick Methods of forming conductors and semiconductors on a substrate
KR102197497B1 (ko) * 2016-04-19 2020-12-31 주식회사 에이치케이 레이저빔의 얼라인먼트 검사장치와 검사방법
CN107329292A (zh) * 2017-08-18 2017-11-07 深圳市华星光电技术有限公司 镭射修复方法及镭射修复后基板

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50122666A (de) * 1974-03-18 1975-09-26
JPS52136361A (en) * 1976-05-11 1977-11-15 Fujitsu Ltd Method of producing ceramic circuit substrate
JPS5366568A (en) * 1976-11-27 1978-06-14 Nippon Electric Co Method of producing hyb ic
US4341942A (en) * 1978-10-31 1982-07-27 International Business Machines Corporation Method of bonding wires to passivated chip microcircuit conductors
CH645208A5 (de) * 1978-10-31 1984-09-14 Bbc Brown Boveri & Cie Verfahren zur herstellung von elektrischen kontakten an halbleiterbauelementen.
DE3247338A1 (de) * 1982-12-21 1984-06-28 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum laserloeten von flexiblen verdrahtungen
FR2541468B1 (fr) * 1983-02-17 1986-07-11 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'alignement d'un faisceau laser par l'intermediaire de moyens optiques de visee, procede de reperage de l'axe d'emission du faisceau laser et procede de mise en oeuvre du dispositif, pour controler l'alignement
JPS60241202A (ja) * 1984-05-16 1985-11-30 株式会社東芝 膜抵抗体の製造方法
US4769523A (en) * 1985-03-08 1988-09-06 Nippon Kogaku K.K. Laser processing apparatus
JPS6240986A (ja) * 1985-08-20 1987-02-21 Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd レ−ザ−加工方法
JPS62290196A (ja) * 1986-06-09 1987-12-17 松下電器産業株式会社 ヴイアホ−ルの形成方法
JPH084089B2 (ja) * 1986-12-22 1996-01-17 株式会社日立製作所 Ic素子並びにic素子における配線接続方法

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Publication number Publication date
KR930001517B1 (ko) 1993-03-02
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