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Die
Erfindung betrifft eine optische Wellenleiterschaltung und insbesondere
eine optische Wellenleiterschaltung mit einer Verlustkomponente,
die einen Beugungsverlust bei Licht verursacht, das sich durch einen
optischen Wellenleiter ausbreitet.
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In
jüngster
Zeit wurden an ebenen Lichtwellenschaltungen (PLC), die aus auf
Siliziumsubstraten ausgebildeten Siliziumdioxid- bzw. Quarz-basierten Glaswellenleitern
zusammengesetzt sind, eine intensive Forschung und Entwicklung ausgeführt.
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Es
gibt verschiedenartige Bauarten der ebenen Lichtwellenschaltungen.
Beispielsweise offenbart der wissenschaftliche Artikel von H. Takahashi
et al.: „Arrayed-Waveguide
Grating for Wavelength Division Multi/Demultiplexer With Nanometer
Resolution" (Electronic
Letters, Band 26 (2), Seiten 87-88, 1990, einen optischen Wellenleiter-Multi-/Demultiplexer
wie ein angeordnetes Wellenleitergitter (arrayed-waveguide grating – AWG);
und der wissenschaftliche Artikel von M. Okuno et al.: „8 × 8 Optical
Matrix Switch Using Silica-Based
Planer Lightwave Circuits",
IEICE Trans. Electron., Band 76-C, Nr. 7, Seiten 1215-1223, 1993,
offenbart einen Optikpfadschaltvorgang wie bei einem thermooptischen
(TO) Schalter.
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Für die Integration
einer optischen Halbleitervorrichtung in einer hybriden ebenen Lichtwellenschaltung
offenbart der Artikel von T. Tanaka et al.: „Integrated Extra Cavity Laser
Composed of Spot-Size Converted LD and UV Written Grating in Silica Waveguide
on Si", Electronic
Letters, Band 32 (13), Seiten 1202-1203, 1996, ferner beispielsweise
einen Frequenz-stabilisierten Laser mit externem Resonator.
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1 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration von einem bekannten angeordneten
Wellenleitergitter; und
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2 zeigt
eine Schnittansicht entlang der Linie II-II aus 1.
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Gemäß den 1 und 2 ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 202 auf
einem Siliziumsubstrat 201 ausgebildet, und angeordnete
Wellenleiter 203 mit aus Quarz basiertem Glas zusammengesetzten
Kernen sind in der Mantelschicht 202 ausgebildet.
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An
beiden Enden der angeordneten Wellenleiter 203 sind Scheibenwellenleiter 205a und 205b verbunden.
Zudem sind die Eingangswellenleiter 204a mit der Eingangsseite
des Scheibenwellenleiters 205a und die Ausgangswellenleiter 204b mit
der Ausgangsseite des Scheibenwellenleiters 205b verbunden.
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3 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration eines bekannten thermooptischen
Schalters; und 4 zeigt eine Schnittansicht
entlang der Linie IV-IV aus 3.
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Gemäß den 3 und 4 ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 212 auf
einem Siliziumsubstrat 211 ausgebildet, und Armwellenleiter 213a und 213b mit
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzten Kernen sind in der Mantelschicht 212 ausgebildet.
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An
beiden Enden der Armwellenleiter 213a und 213b sind
Richtungskoppler 215 und 216 verbunden. Zudem
sind Eingangswellenleiter 214a und 214b mit der
Eingangsseite des Richtungskopplers 215 verbunden, und
Ausgangswellenleiter 217a und 217b sind mit der
Ausgangsseite des Richtungskopplers 216 verbunden.
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Ein
Dünnschichtheizelement 218 ist
ferner auf der Mantelschicht 212 an einer dem Armwellenleiter 213a entsprechenden
Position ausgebildet, und das Dünnschichtheizelement 218 ist
mit den Leitern 210a und 210b verbunden.
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5 zeigt
eine Perspektivansicht einer Konfiguration von einem bekannten Frequenz-stabilisierten
Laser mit externem Resonator.
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Gemäß 5 ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 222 auf
einem Siliziumsubstrat 221 ausgebildet. Ferner ist ein optischer
Wellenleiter 223 mit einem aus Quarz-basiertem Glas in
der Mantelschicht ausgebildet, und ein UV-geschriebenes Gitter 224 ist
in dem optischen Wellenleiter 223 ausgebildet.
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Zudem
ist eine Siliziumterrasse 225 auf dem Siliziumsubstrat 221 durch
Entfernung eines Teils der Mantelschicht 222 ausgebildet
und ein Halbleiterlaser 226 ist auf der Siliziumterrasse 225 installiert.
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Die
optischen Wellenleiterschaltungen wie etwa die vorstehend beschriebenen
ebenen Lichtwellenschaltungen können
ihre Eigenschaften verbessern, oder eine neue Funktion durch Ausbilden
eines Grabens durch Entfernen eines Teils des optischen Wellenleiters
oder durch Füllen
des Grabens mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften ausführen.
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Zudem
können
die optischen Wellenleiterschaltungen wie etwa die vorstehend beschriebenen ebenen
Lichtwellenschaltungen die Flexibilität bei ihrem Entwurf erhöhen, indem
die optischen Wellenleiter sich überschneiden,
wodurch eine Vielzahl von auf demselben Substrat zu integrierenden
Schaltungskomponenten ermöglicht
wird, und eine neue Funktion implementiert wird.
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Dabei
ist es unvermeidlich, dass Beugungsverluste in denen in einem Teil
der optischen Wellenleiter ausgebildeten Gräben oder an den Überschneidungen
der optischen Wellenleiter erzeugt werden. Als Verfahren zum Reduzieren
derartiger Beugungsverluste wird eine Technik vorgeschlagen, bei
der die Breite oder die Dicke des Wellenleiters erhöht oder verringert
wird, in dem der Graben oder die Überschneidung beinhaltet sind,
indem sich verjüngende Wellenleiter
bereitgestellt werden. Im Falle der Erhöhung der Breite oder Dicke
des Wellenleiters vergrößert sich
die Modenpunktgröße der Lichtwelle
gemäß der Wellenleiterbreite
und Dicke. Im Falle der Verringerung der Breite oder Dicke des Wellenleiters
vergrößert sich
die Modenpunktgröße der Lichtwelle ebenfalls,
weil die Lichtbegrenzung auf den Wellenleiter geschwächt wird.
Diese Vergrößerung der
Modenpunktgröße verringert
den Abstrahlungswinkel (Beugungswinkel) an dem Graben oder der Überschneidung.
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Die
Druckschrift WO98/36299 offenbart ein Beispiel für die Entfernung eines Teils
der optischen Wellenleiter zur Ausbildung eines Grabens und für das Ausfüllen des
Grabens mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften. Dabei wird
ein Teil der Mäntel
und der Kerne eines angeordneten Wellenleitergitters zur Ausbildung
des Grabens entfernt, und der Graben mit einem Temperaturkompensationsmaterial
mit einem Temperaturkoeffizienten für den Brechungsindex mit einem
anderen Vorzeichen als dem Temperaturkoeffizienten des effektiven
Brechungsindex der optischen Wellenleiter gefüllt, wodurch die Temperaturabhängigkeit
der Übertragungswellenlänge des
angeordneten Wellenleitergitters eliminiert wird. Dies wird ein
athermisches angeordnetes Wellenleitergitter genannt.
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Die
Druckschrift JP-A-2000-29079 offenbart ein weiteres Beispiel für das Entfernen
eines Teils der optischen Wellenleiter zur Ausbildung eines Grabens,
und für
das Ausfüllen
des Grabens mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften. Dabei
wird ein Teil der Mäntel
und der Kerne eines thermooptischen Schalters zum Ausbilden des
Grabens entfernt, und der Graben mit einem Temperaturkompensationsmaterial
mit einem Temperaturkoeffizienten für den Brechungsindex mit anderem
Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex
der Armwellenleiter ausgefüllt,
wodurch der elektrische Energieverbrauch des thermooptischen Schalters
reduziert wird. Dies wird ein Polymer-unterstützter thermooptischer Schalter
genannt.
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Die
Druckschrift JP-A-11-97784 (1999) offenbart noch ein weiteres Beispiel
für das
Entfernen eines Teils des optischen Wellenleiters zum Ausbilden
eines Grabens, und für
das Ausfüllen
des Grabens mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften. Dabei
wird ein Teil des Mantels und des Kerns des Wellenleiters zwischen
dem UV-geschriebenen Gitter
des Frequenz-stabilisierten Lasers und des Halbleiterlasers entfernt,
und der Graben mit einem Temperaturkompensationsmaterial mit einem
Temperaturkoeffizienten für
den Brechungsindex mit anderem Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient
des Brechungsindex des Halbleiterlasers gefüllt, wodurch das Modenspringen
des Frequenz-stabilisierten Lasers aufgrund von Temperaturveränderungen
reduziert wird.
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6 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration von einem bekannten athermischen
angeordneten Wellenleitergitter; 7 zeigt
eine Draufsicht von einem einzigen optischen Wellenleiter aus 6; 8 zeigt
eine vergrößerte Draufsicht
von optischen Wellenleitern aus 6; 9A zeigt eine Schnittansicht entlang der Linie
IXA-IXA aus 8; und 9B zeigt
eine Schnittansicht der Linie IXB-IXB aus 8.
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Bei
den 6, 7, 8, 9A und 9B ist
die aus Quarzbasiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 232 auf
einem Siliziumsubstrat ausgebildet. In der Mantelschicht 232 sind
angeordnete Wellenleiter 236 mit aus Quarzbasiertem Glas
zusammengesetzten Kernen gemäß 6 ausgebildet.
Ferner sind lineare Wellenleiter 233 den angeordneten Wellenleitern 236 hinzugefügt. Die
angeordneten Wellenleiter 236 sind derart konfiguriert, dass
ihre Längen
durch ein festes Ausmaß ΔL Schritt für Schritt
nach außen
erhöht
sind.
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Weiterhin
ist ein Graben 237 über
die linearen Wellenleiter 233 durch Entfernen eines Teils
der Mantelschicht 232 und der Kerne der linearen Wellenleiter 233 ausgebildet.
Unter besonderer Bezugnahme auf den in 7 gezeigten
einzelnen optischen Wellenleiter 241 der linearen Wellenleiter 233 ist
der optische Wellenleiter 241 somit derart konfiguriert,
dass er durch den Graben 242 mit dem Abstand W unterteilt
ist, und die Lücke
mit einem Temperaturkompensationsmaterial 243 gefüllt ist.
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Nachstehend
sei eine Konfiguration betrachtet, die vor und nach dem Graben 237 eingefügte verjüngte optische
Wellenleiter aufweist, damit der Beugungsverlust durch den Graben 237 reduziert
und der Abstand zwischen den durch den Graben 237 unterteilten
optischen Wellenleitern 233 erhöht wird. 10 zeigt eine Draufsicht eines einzelnen optischen
Wellenleiters aus 6; und 11 zeigt
eine vergrößerte Draufsicht
der optischen Wellenleiter aus 6.
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Gemäß 10 weist der optische Wellenleiter 241 einen
breiten Abschnitt 241c und schmale Abschnitte 241a und 241e auf.
Der breite Abschnitt 241c ist nahtlos mit den schmalen
Abschnitten 241a und 241e über verjüngte Abschnitte 241b bzw. 241d verbunden.
Der Graben 242 ist derart ausgebildet, dass er den breiten
Abschnitt 241c unterteilt. Gemäß 11 weisen
die optischen Wellenleiter 233 breite Abschnitte 233c und
schmale Abschnitte 233a und 233e auf. Die breiten
Abschnitte 233c sind nahtlos mit den schmalen Abschnitten 233a und 233e über verjüngte Abschnitte 233b und 233d verbunden.
Der Graben 237 ist derart ausgebildet, dass er die breiten Abschnitte 233c unterteilt.
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Zudem
ist der Graben 237 in jedem linearen Wellenleiter 233 mit
einem Temperaturkompensationsmaterial 238 gemäß 9B gefüllt.
Insbesondere ist es für
das Temperaturkompensationsmaterial 238 vorzuziehen, dass
sein Temperaturkoeffizient für den
Brechungsindex dn'/dT
ein anderes Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient des effektiven
Brechungsindex dn'/dT
der angeordneten Wellenleiter 236 aufweist, und dass der
Absolutwert |dn'/dT|
seines Temperaturkoeffizienten für
den Brechungsindex ausreichend größer als der Absolutwert |dn/dT|
des Temperaturkoeffizienten des effektiven Brechungsindex der angeordneten
Wellenleiter 236 ist. Als Beispiel für ein derartiges Temperaturkompensationsmaterial 238 sei
Silikon mit einem Temperaturkoeffizienten dn'/dT für den Brechungsindex von etwa –40 × (dn/dT)
genannt.
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Der
Graben 237 in dem linearen Wellenleiter 233 ist
derart ausgebildet, dass seine Breite durch ein Ausmaß ΔL proportional
zu dem fixierten Ausmaß ΔL als der
zunehmenden Länge
der angeordneten Wellenleiter 236 graduell erhöht wird,
wie es in 11 gezeigt ist.
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Zudem
wird das Ausmaß ΔL' so entworfen, dass
es die Beziehung (ΔL – ΔL')/ΔL' = –(dn'/dT)/(dn/dT) zum
Eliminieren der Temperaturabhängigkeit
der Übertragungswellenlänge des
angeordneten Wellenleitergitters erfüllt.
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Ferner
sind Scheibenwellenleiter 235a und 235b mit beiden
Enden der angeordneten Wellenleiter 236 verbunden. Die
Eingangswellenleiter 234a sind mit der Eingangsseite der
Scheibenwellenleiter 235a verbunden, und die Ausgangswellenleiter 234b sind
mit der Ausgangsseite der Scheibenwellenleiter 235b verbunden.
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12 zeigt eine Draufsicht einer weiteren Konfiguration
der optischen Wellenleiter nach 6, und
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13 zeigt eine Draufsicht von einem einzelnen optischen
Wellenleiter aus 12.
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Gemäß den 12 und 13 sind
eine Vielzahl von Gräben 252a bis 252n über die
angeordneten Wellenleiter 251 bereitgestellt, wobei n eine ganze
Zahl ≥ 2
ist. Diese Gräben 252a bis 252n sind mit
Temperaturkompensationsmaterialien 253a bis 253n gefüllt. Unter
besonderer Betrachtung eines einzelnen optischen Wellenleiters 261 der
angeordneten Wellenleiter 251 weist dieser n Gräben 262a bis 262n mit
breiten W1, W2,...
und Wn auf, die mit Temperaturkompensationsmaterialien 263a bis 263n gemäß 13 gefüllt
sind, wobei sie dadurch durch Abstände D1, D2,
... und Dn-1 unterteilt sind.
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Bezüglich einer
Konfiguration, die vor und nach den Gräben 252a bis 252n eingefügte verjüngte optische
Wellenleiter zum Reduzieren des Beugungsverlustes in den Gräben 252a bis 252n und zum
Erhöhen
der Abstände
zwischen den durch die Gräben 252a-252n unterteilen
optischen Wellenleitern 251 aufweist, zeigt 14 eine vergrößerte Draufsicht
der optischen Wellenleiter aus 6.
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Gemäß 14 weisen die optischen Wellenleiter 251 einen
breiten Abschnitt 251c und schmale Abschnitte 251a und 251e auf,
und der breite Abschnitt 251c ist nahtlos mit den schmalen
Abschnitten 251a und 251e über die verjüngten Abschnitte 251b und 251d verbunden.
Die Gräben 252a bis 252n sind
derart bereitgestellt, dass sie den breiten Abschnitt 251c unterteilen.
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Zudem
sind gemäß 12 die Gräben 252a bis 252n der
angeordneten Wellenleiter 251 durch ein Ausmaß ΔL'/n proportional zu
dem festen Ausmaß ΔL gemäß den Längen der angeordneten
Wellenleiter 251 verlängert,
die durch das feste Ausmaß ΔL Schritt
für Schritt
vergrößert sind.
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15 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
bekannten Polymer-unterstützten
thermooptischen Schalters; und 16 zeigt
eine Schnittansicht entlang der Linie XVI-XVI aus 15.
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Gemäß den 15 und 16 ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 272 auf
einem Siliziumsubstrat 271 ausgebildet, und Armwellenleiter 273a und 273b mit
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzten Kernen sind in der Mantelschicht 272 ausgebildet.
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Zudem
ist ein Dünnschichtheizelement 274 auf
der Mantelschicht 272 derart ausgebildet, dass das Dünnschichtheizelement 274 zwischen
den Armwellenleitern 273a und 273b angeordnet
ist, und mit den Leitern 275a und 275b verbunden
ist.
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Ein
Graben 276 ist über
dem Armwellenleiter 273a durch Entfernen eines Teils der
Mantelschicht 272 und des Kerns ausgebildet. Der Graben 276 ist mit
einem Temperaturkompensationsmaterial 277 mit einem Temperaturkoeffizienten
für den
Brechungsindex mit einem anderen Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient
des effektiven Brechungsindex des Armwellenleiters 273a gefüllt. Für das Temperaturkompensationsmaterial 277 kann
beispielsweise Silikon verwendet werden. Im Übrigen kann gemäß 13 eine Vielzahl von Gräben anstelle des einzelnen
Grabens 276 verwendet werden.
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17 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration von
einem bekannten Frequenz-stabilisierten Laser mit externem Resonator,
dessen Modenspringen unterdrückt
wird; 18A zeigt eine Schnittansicht entlang
einer Linie XVIIIA-XVIIIA aus 17;
und 18B zeigt eine Schnittansicht
entlang der Linie XVIIIB-XVIIIB aus 17.
In den 17, 18A und 18B ist eine aus Quarzbasiertem Glas zusammengesetzte
Mantelschicht 282 auf dem Siliziumsubstrat 281 ausgebildet.
Ein optischer Wellenleiter 283 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ist in der Mantelschicht 282 ausgebildet,
und ein UV-geschriebenes Gitter 284 ist in dem optischen
Wellenleiter 283 ausgebildet.
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Zudem
ist eine Siliziumterrasse 285 auf dem Siliziumsubstrat 281 durch
Entfernen der Mantelschicht 282 ausgebildet, und ein Halbleiterlaser 286 ist
auf der Siliziumterrasse 285 angebracht.
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Ferner
ist ein Graben 287 in dem optischen Wellenleiter 283 durch
Entfernen eines Teils der Mantelschicht 282 und des Kerns
ausgebildet. Der Graben 287 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial 288 mit
einem Temperaturkoeffizienten für den
Brechungsindex mit einem anderen Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient
des effektiven Brechungsindex des optischen Wellenleiters 283 gefüllt. Für das Temperaturkompensationsmaterial 288 kann beispielsweise
Silikon verwendet werden. Im Übrigen kann
gemäß 13 eine Vielzahl von Gräben anstelle des einzelnen
Grabens 287 verwendet werden.
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19 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
bekannten gekreuzten optischen Wellenleiters. Gemäß 19 sind optische Wellenleiter 291 und 292,
deren Mäntel
und Kerne jeweils aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzt sind,
auf einem Siliziumsubstrat derart angeordnet, dass sie einander
schneiden. Der Überschneidungswinkel
a der optischen Wellenleiter 291 und 292 kann
gemäß dem Entwurf
der gesamten ebenen Lichtwellenschaltung bestimmt sein.
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20 zeigt eine Draufsicht einer weiteren Konfiguration
eines bekannten temperaturkompensierten angeordneten Wellenleitergitters;
und 21 zeigt eine vergrößerte Draufsicht
der Umgebung eines Scheibenwellenleiters 303a aus 20.
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In
den 20 und 21 sind
die angeordneten Wellenleiter 302, die Scheibenwellenleiter 303a und 303b,
und die Eingangs- und Ausgangswellenleiter 304a und 304b,
von denen alle Kerne und Mäntel
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzt sind, auf einem Siliziumsubstrat 301 ausgebildet.
Die angeordneten Wellenleiter 302 sind derart konfiguriert,
dass ihre Längen
jeweils um ein festes Ausmaß ΔL nach außen zunehmen.
Zudem ist ein Graben 305 in dem Scheibenwellenleiter 303a derart ausgebildet,
dass die Breite des Grabens 305 um ein Ausmaß ΔL' proportional zu
dem festen Ausmaß ΔL Schritt
für Schritt
ansteigt, wenn der Graben durch die den Eingangswellenleiter und
die angeordneten Wellenleiter 302 verbindenden Linien gemäß 21 gekreuzt wird. Zudem ist der Graben 305 mit
einem Temperaturkompensationsmaterial 306 mit einem Temperaturkoeffizienten
für den
Brechungsindex mit anderem Vorzeichen als dem Temperaturkoeffizienten
des effektiven Brechungsindex der angeordneten Wellenleiter 302 gefüllt. Für das Temperaturkompensationsmaterial 306 kann
beispielsweise Silikon verwendet werden. Zudem kann eine Vielzahl
von Gräben
anstelle des einzelnen Grabens 305 verwendet werden.
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Andererseits
offenbart für
die ebene Lichtwellenschaltung der Artikel von S. Suzuki et al.: „High-Density
Integrated Planar Lightwave Circuits Using SiO2-GeO2 Waveguides with a High Refractive Index
Difference", J.
Lightwave Technologies, Band 12 (5), Seiten 790-796, 1994, eine
Technik, bei der die Schaltung durch Reduzieren des Krümmungsradius
der optischen Wellenleiter durch Erhöhen des Brechungsindexkontrastes
der optischen Wellenleiter miniaturisiert wird.
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Eine
passive ebene Lichtwellenschaltung wie etwa das vorstehend beschriebene
angeordnete Wellenleitergitter oder der vorstehend beschriebene thermooptische
Schalter können
beispielsweise ihre Größe unter
Verwendung von optischen Wellenleitern mit hohem Brechungsindexkontrast
reduzieren.
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Zudem
kann eine einen Halbleiterlaser integrierende hybride ebene Lichtwellenschaltung
den Kopplungsverlust zwischen dem Halbleiterlaser und dem Quarz-basierten
Glaswellenleiter unter Verwendung eines optischen Wellenleiters
mit hohem Brechungsindexkontrast reduzieren.
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Heutzutage
ist eine Gesamtreduktion bei Größe und Kosten
des angeordneten Wellenleitergitters erforderlich. Daher ist es
wichtig, nicht nur die Größe unter
Verwendung der optischen Wellenleiter mit hohem Brechungsindexkontrast
zu reduzieren, sondern auch die Temperatursteuerung unter Verwendung
der Technik zum Athermisieren der Übertragungswellenlänge zu eliminieren.
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Zudem
ist eine Reduktion bei der Größe und dem
elektrischen Energieverbrauch des thermooptischen Schalters ebenfalls
erforderlich. Somit ist es wichtig, die optischen Wellenleiter mit
hohem Brechungsindexkontrast auf den vorstehend beschriebenen Polymer-gestützten thermooptischen
Schalter anzuwenden.
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Nach
vorstehender Beschreibung ist es für die ebenen Lichtwellenschaltungen
nötig,
den Graben oder die Gräben
durch Entfernen eines Teils der optischen Wellenleiter auszubilden,
und den Graben oder die Gräben
mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften zu füllen, um
die Temperaturabhängigkeit
der Übertragungswellenlänge des
angeordneten Wellenleitergitters zu eliminieren, oder um den elektrischen
Energieverbrauch des thermooptischen Schalters zu reduzieren, oder
um das Modenspringen des Frequenz-stabilisierten Lasers aufgrund
von Temperaturänderungen
zu unterdrücken.
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Somit
weisen die bekannten ebenen Lichtwellenschaltungen das Problem der
Erhöhung
des Beugungsverlustes in dem Graben oder den Gräben auf, die in den optischen
Wellenleitern ausgebildet sind. Folglich weisen das angeordnete
Wellenleitergitter und der thermooptische Schalter das Problem einer
Verschlechterung der Verlusteigenschaften auf, und der Frequenz-stabilisierte
Laser weist das Problem der Erhöhung
des Schwellenwertes während der
Oszillation auf.
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Weiterhin
weisen ebene Lichtwellenschaltungen miteinander überschnittene optische Wellenleiter
auf, um die Flexibilität
beim Schaltungsentwurf zu erhöhen,
und neue Funktionen durch Integrieren einer Vielzahl von Schaltungskomponenten
auf demselben Substrat bereitzustellen.
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Bei
der Bereitstellung einer Überschneidung von
optischen Wellenleitern in den ebenen Lichtwellenschaltungen gibt es
jedoch ein Problem der Verschlechterung der Verlusteigenschaften
der ebenen Lichtwellenschaltungen aufgrund des Beugungsverlustes
an der Überschneidung.
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Bezüglich der
Technik unter Verwendung von optischen Wellenleitern mit hohem Brechungsindexkontrast
zum Miniaturisieren des angeordneten Wellenleitergitters und des
thermooptischen Schalters und zum Reduzieren des Kopplungsverlustes zwischen
der Halbleitervorrichtung und dem optischen Wellenleiter bei dem
Frequenzstabilisierten Laser ist darüber hinaus der Beugungsverlust
in dem Graben oder den Gräben
größer, wenn
optische Wellenleiter mit hohem Brechungsindexkontrast verwendet
werden, als wenn optische Wellenleiter mit gewöhnlichem Brechungsindexkontrast
verwendet werden. Somit bietet dies das Problem der Verschlechterung
der Verlusteigenschaften des angeordneten Wellenleitergitters oder
thermooptischen Schalters, und ferner der Erhöhung des Schwellenwertstromes während der
Oszillation des Frequenz-stabilisierten Lasers.
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22 zeigt eine graphische Darstellung der Zusammenhänge zwischen
der Länge
des durch den Graben entfernten optischen Wellenleiters und dem Beugungsverlust. 22 stellt einen Vergleich zwischen dem Beugungsverlust
bei einem optischen Wellenleiter mit einem Brechungsindexkontrast
von 0,75 und einer Kernbreite x Kerndicke = 6,0 μm × 6,0 μm (durchgezogene Linie), und
dem Beugungsverlust bei dem optischen Wellenleiter mit einem Brechungsindex
von 1,5% und einer Kernbreite × Kerndicke
= 4,5 μm × 4,5 μm (gestrichelte
Linie) dar. Aus 22 ist ersichtlich, dass der
optische Wellenleiter mit einem Brechungsindexkontrast von 1,5%
und einer Kernbreite × Kerndicke
von 4,5 μm × 4,5 μm in dB ausgedrückt einen Überschussverlust
von dem doppelten oder mehr aufweist.
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Bezüglich der
Technik, welche die optischen Wellenleiter mit hohem Brechungsindexkontrast
auf eine optische Wellenleiterschaltung mit einer Überschneidung
der optischen Wellenleiter anwendet, ist deren überschießender Verlust an der Überschneidung
größer als
der einer Schaltung unter Verwendung von optischen Wellenleitern
mit gewöhnlichem Brechungsindexkontrast,
wodurch das Problem der weiteren Verschlechterung der Verlusteigenschaften der
ebenen Lichtwellenschaltung verursacht wird.
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Es
sei beispielsweise der überschießende Verlust
betrachtet, wenn die optischen Wellenleiter mit derselben Struktur
einander lediglich einmal mit einem Überschneidungswinkel von 45° überschneiden.
Obwohl dabei der überschießende Verlust
in den optischen Wellenleitern mit einem Brechungsindexkontrast
von 0,75 und einer Kernbreite × Kerndicke
= 6,0 μm × 6,0 μm 0,020 dB
beträgt,
liegt der der optischen Wellenleiter mit einem Brechungsindexkontrast
von 1,5% und einer Kernbreite × Kerndicke =
4,5 μm × 4,5 μm bei 0,035
dB.
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Als
bekanntes Verfahren zum Reduzieren des Beugungsverlustes in dem
Graben oder den Gräben,
die in einem Teil der optischen Wellenleiter ausgebildet sind, oder
des Beugungsverlustes an der Überschneidung
der optischen Wellenleiter gibt es ein Verfahren zum Aufweiten oder
Verschmälern
der optischen Wellenleiter durch Bereitstellen von verjüngenden
Wellenleitern vor und nach dem Graben oder der Überschneidung, wie es vorstehend
beschrieben ist. Dieses Verfahren weist jedoch das Problem einer Erhöhung der
Größe aufgrund
der Hinzufügung
der verjüngenden
Wellenleiter auf. Im Übrigen
verursacht bezüglich
der ebenen Lichtwellenschaltungen der zum Ausbilden der vertikal
verjüngten
Wellenleiter erforderliche zusätzliche
Herstellungsvorgang das Problem einer Erhöhung bei der Herstellungszeit
und den Kosten.
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Wenn
nur horizontal verjüngte
Wellenleiter zur Umgehung des vorstehend angeführten Problems installiert
werden, wird die Reduktion des Beugungsverlustes im Vergleich zu
dem Fall halbiert, bei dem die verjüngten Wellenleiter sowohl in
vertikaler als auch horizontaler Richtung installiert sind.
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Die
Druckschrift
US 5,577,141
A offenbart eine zweidimensionale Segmentationsmodenverjüngung für integrierte
optische Wellenleiter. Im Einzelnen ist eine Wellenleiterverjüngung mit
fixierter Lücke gezeigt,
die für
die Kopplung mit einer Faser ein erstes Ende und ein zweites Ende
aufweist. Die Wellenleiterverjüngung
beinhaltet eine Vielzahl an Segmenten, die sich vom ersten Ende
zum zweiten Ende erstrecken. Die Segmente beinhalten einen Lückenabschnitt
und einen Kernabschnitt. Der Lückenabschnitt
bleibt über
die gesamte Wellenleiterverjüngung
bei einer konstanten Länge
S fixiert. Im Gegensatz dazu variiert der Kernabschnitt des Segmentes vom
Wellenleiterende der Verjüngung
zu dem Faserende der Verjüngung.
Insbesondere verringert sich der Kernabschnitt in jedem der Segmente
progressiv in seiner Länge
von dem Wellenleiterende zum Faserende der Verjüngung. Demzufolge verringert
sich die Länge
des Segmentes A progressiv vom Wellenleiterende zum Faserende der
Verjüngung.
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Weiterhin
offenbart die Druckschrift US 2002/0122623 A1 eine temperaturunabhängige angeordnete Wellenleitergittervorrichtung.
Im Einzelnen wird bei einem in einem angeordneten Wellenleiterabschnitt
oder einem Quarz-basierten Wellenleiterabschnitt ausgebildeten keilförmigen Graben
eine Peripherie des Grabens durch eine der nachstehend beschriebenen
Abläufe
oder durch eine besondere Kombination daraus abgewandelt, um das
Aufspreizen von Licht in dem Graben zu unterdrücken, damit dadurch der überschießende Verlust
aufgrund des Hinzufügens
des Grabens reduziert wird. Das in den Graben eingefüllte Material
ist ein lichtempfindliches Material mit einem negativen Temperaturkoeffizienten
des Brechungsindex. Unter Verwendung der Lichtempfindlichkeit wird
eine Beugungsindexdifferenz in dem Graben bereitgestellt, um optische
Wellenleiter in horizontaler Richtung oder in vertikaler und horizontaler
Richtung auszubilden. Das in den Graben eingefüllte Material weist einen negativen Temperaturkoeffizienten
des Brechungsindex zum Minimieren des Aufspreizungswinkels des in
den Graben einfallenden Lichtes auf. Die Breite jedes Quarz-basierten
Wellenleiters wird vor und nach dem Graben zum Verringern des Aufspreizwinkels
des in den Graben einfallenden Lichtes vergrößert. Dieses Verfahren reduziert
den überschießenden Verlust des
angeordneten Wellenleitergitters, bei dem die Wellenlängencharakteristik
bezüglich
einer Änderung
bei der Umgebungstemperatur unverändert gehalten wird.
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Darüber hinaus
offenbart die Druckschrift
CA 2
315 458 A1 einen optischen Wellenlängen-Multiplexer/Demultiplexer.
Im Einzelnen beinhaltet dieser optische Wellenlängen-Multiplexer/Demultiplexer ein Substrat,
einen auf dem Substrat bereitgestellten Eingangskanalwellenleiter,
einen Eingangsscheibenwellenleiter, von dem ein Ende mit dem Eingangskanalwellenleiter
verbunden ist, eine Kanalwellenleiteranordnung, deren eine Seite
mit der anderen Seite des Eingangsscheibenwellenleiters verbunden
ist, und die eine Vielzahl an Kanalwellenleitern aufweist, wobei
von der Vielzahl von Kanalwellenleitern jeder sich von seinem benachbarten
Wellenleiter durch ein vorbestimmtes Ausmaß in der Länge unterscheidet, einen Ausgangsscheibenwellenleiter,
von dem eine Seite mit der anderen Seite der Kanalwellenleiteranordnung
verbunden ist, sowie eine Vielzahl von Ausgangskanalwellenleitern,
die mit der anderen Seite des Ausgangsscheibenwellenleiters verbunden
sind, wobei der Eingangsscheibenwellenleiter oder der Ausgangsscheibenwellenleiter
ein Temperaturkompensationsmaterial in seinem Lichtpfad aufweist,
das gegenüber
der Vielzahl an Kanalwellenleitern ein entgegengesetztes Vorzeichen
der Beugungstemperaturänderung
aufweist, das Material zum Beseitigen der Änderung bei der phasengleichen
Lichtebene befähigt
ist, die jede Wellenlänge
aufweist, die in der Nähe
der Kanalwellenleiteranordnung und des Scheibenwellenleiters auftritt,
wobei das Material in gekrümmter
Form bereitgestellt ist, so dass es die Lichtausbreitungsrichtung
kreuzt, oder ein Wellenleiterelement zur Bandbreiteneinstellung,
auf dem ein Wellenleiter zum Einstellen der Bandbreite von Wellenlängenmultiplexlicht
bereitgestellt ist.
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Demzufolge
liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine optische
Wellenleiterschaltung bereitzustellen, die zum Reduzieren des Beugungsverlustes
eines optischen Wellenleiters mit einer Verlustkomponente befähigt ist,
wobei die Schaltungsgröße nur leicht
erhöht
wird, und kein Herstellungsvorgang hinzugefügt wird.
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Zur
Lösung
dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß bereitgestellt, was im beigefügten unabhängigen Patentanspruch
definiert ist, während
vorteilhafte Abwandlungen in den beigefügten abhängigen Patentansprüchen dargelegt
sind.
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Somit
kann die Verwendung der zweiten Verlustkomponente die Strahlpunktgröße der in
die erste Verlustkomponente eingeführten Lichtwelle dem Anschein
nach vergrößern, und
den Abstrahlungswinkel (Beugungswinkel) der Lichtwelle an der ersten
Verlustkomponerte reduzieren.
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Folglich
kann der Beugungsverlust der Lichtwelle in der ersten Verlustkomponente
reduziert werden. Zudem kann der bei der Ausbreitung des Lichtes durch
den optischen Wellenleiter eingeführte überschießende Verlust reduziert werden,
wodurch ein Unterdrücken
von Verschlechterungen bei den Eigenschaften der optischen Wellenleiterschaltung
ermöglicht
wird.
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Die
Strahlpunktgröße der in
die zweite Verlustkomponente eingeführten Lichtwelle kann zudem vergrößert werden,
was in Verbindung mit der sichtbaren Vergrößerung der Strahlpunktgröße der Lichtwelle
unter Verwendung der zweiten Verlustkomponente den Beugungsverlust
der Lichtwelle in der ersten Verlustkomponente reduzieren kann,
wodurch eine Reduktion des bei der Ausbreitung des Lichtes durch
den optischen Wellenleiter einbezogenen überschießenden Verlustes ermöglicht.
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Eine
Variation der Breite oder Dicke des optischen Wellenleiters kann
die Strahlpunktgröße der sich
durch den optischen Wellenleiter ausbreitenden Lichtwelle variieren.
Folglich ist eine Reduktion des bei der Ausbreitung des Lichtes
durch den optischen Wellenleiter einbezogenen überschießenden Verlustes leicht, selbst wenn
der optische Wellenleiter mit der Verlustkomponente versehen ist.
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Zudem
kann die Strahlpunktgröße der Lichtwelle
vor und nach der zweiten Verlustkomponente variiert werden, wodurch
ein Einbau der optischen Wellenleiterschaltung mit einer Verlustkomponente
in eine Vielzahl von ebenen Lichtwellenschaltungen unter Reduktion
des bei der Ausbreitung des Lichtes durch die Verlustkomponente
einbezogenen überschießenden Verlustes
ermöglicht
wird.
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Ein Ändern der
Breite oder Dicke des optischen Wellenleiters kann die Strahlpunktgröße der Lichtwelle
vor und nach der zweiten Verlustkomponente variieren, wodurch ein
Einbau der optischen Wellenleiterschaltung mit einer Verlustkomponente
in eine Vielzahl von ebenen Lichtwellenschaltungen unter Reduktion
des bei der Ausbreitung des Lichtes durch die Verlustkomponente
einbezogenen überschießenden Verlustes
ermöglicht
wird.
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Der
optische Wellenleiter kann leicht auf dem Siliziumsubstrat ausgebildet
sein, wodurch eine Vielzahl an ebenen Lichtwellenschaltungen konfiguriert werden
kann.
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Dem
optischen Wellenleiter kann eine neue Funktion hinzugefügt werden,
ohne die Geometrie und Größe des optischen
Wellenleiters zu ändern.
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Außerdem kann
eine Vielzahl an neuen Funktionen dem optischen Wellenleiter hinzugefügt werden.
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Die
Eigenschaften der ebenen Lichtwellenschaltung kann durch Ausfüllen des
Grabens mit einem Material mit geeigneten Eigenschaften verbessert
werden.
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Der
Graben kann mit einem Material mit einem Temperaturkoeffizienten
des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient
des effektiven Brechungsindex des optischen Wellenleiters gefüllt sein,
wodurch die Temperaturabhängigkeit
der Übertragungswellenlänge des
angeordneten Wellenleitergitters eliminiert werden kann, damit die
elektrische Energieaufnahme des thermooptischen Schalters reduziert
oder das Modenspringen eines Frequenzstabilisierten Lasers aufgrund
einer Temperaturänderung
eingedämmt
wird.
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Die
Verlustkomponente in dem optischen Wellenleiter kann durch Entfernen
eines Teils des Kerns ausgebildet sein. Folglich kann der bei der Ausbreitung
des Lichtes durch den optischen Wellenleiter mit der Verlustkomponente
einbezogene überschießende Verlust
reduziert werden, wobei der Herstellungsablauf vor einer Verkomplizierung
bewahrt wird.
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Die
Strahlpunktgröße der in
die erste Verlustkomponente eingeführten Lichtwelle kann graduell vergrößert werden,
wodurch der bei der Ausbreitung des Lichtes durch die erste Verlustkomponente
einbezogene überschießende Verlust
unter Eindämmung
des überschießenden Verlustes
in den Wellenleiterlücken
reduziert werden kann.
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Die
Temperaturabhängigkeit
der Übertragungswellenlänge kann
durch Eindämmen
einer Verschlechterung bei den Verlusteigenschaften des angeordneten
Wellenleitergitters eliminiert werden. Zudem kann die Anwendung
eines optischen Wellenleiters mit hohem Brechungsindexkontrast ermöglicht werden,
wodurch eine Miniaturisierung des angeordneten Wellenleitergitters
ermöglicht
wird.
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Die
elektrische Energieaufnahme kann mit dem Eindämmung der Verschlechterung
bei den Verlusteigenschaften des thermooptischen Schalters reduziert
werden. Ferner kann die Anwendung eines optischen Wellenleiters
mit hohem Brechungsindexkontrast ermöglicht werden, wodurch eine
Miniaturisierung des thermooptischen Schalters ermöglicht wird.
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Das
Modenspringen aufgrund einer Temperaturänderung kann reduziert werden,
während
ein Anstieg beim Schwellenwertstrom aufgrund der Oszillation eines
Frequenz-stabilisierten Lasers eingedämmt wird. Ferner kann die Anwendung
eines optischen Wellenleiters mit hohem Brechungsindexkontrast ermöglicht werden,
wodurch eine Reduktion des Kopplungsverlustes zwischen einem Halbleiterlaser und
einem Quarz-basierten Glaswellenleiter reduziert werden kann.
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Die
Flexibilität
im Schaltungsentwurf kann erhöht
werden. Zudem kann die Integration einer Vielzahl von Schaltungskomponenten
auf demselben Substrat ermöglicht
werden, wodurch eine neue Funktion bereitgestellt werden kann.
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Die
vorstehende und andere Aufgaben, Wirkungen, Merkmale und Vorteile
der Erfindung werden aus der nachstehenden Beschreibung ihrer Ausführungsbeispiele
in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung näher ersichtlich.
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1 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration eines bekannten angeordneten
Wellenleitergitters;
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2 zeigt
eine Schnittansicht entlang der Linie II-II aus 1;
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3 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration eines bekannten thermooptischen
Schalters;
-
4 zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie IV-IV aus 3;
-
5 zeigt
eine Perspektivansicht einer Konfiguration eines bekannten Frequenz-stabilisierten
Lasers mit externem Resonator;
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6 zeigt
eine Draufsicht einer Konfiguration eines bekannten athermischen
angeordneten Wellenleitergitters;
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7 zeigt
eine Draufsicht eines einzelnen optischen Wellenleiters aus 6;
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8 zeigt
eine vergrößerte Draufsicht
von optischen Wellenleitern aus 6;
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9A zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
IXA-IXA auf 8, und 9B zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie IXB-IXB aus 8;
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10 zeigt eine Draufsicht eines einzelnen optischen
Wellenleiters aus 6;
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11 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der optischen
Wellenleiter aus 6;
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12 zeigt eine Draufsicht einer weiteren Konfiguration
der optischen Wellenleiter aus 6;
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13 zeigt eine Draufsicht eines einzelnen optischen
Wellenleiters aus 12;
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14 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der optischen
Wellenleiter aus 6;
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15 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
bekannten Polymer-gestützten
thermooptischen Schalters;
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16 zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XVI-XVI aus 15;
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17 zeigt eine Perspektivansicht einer Konfiguration
eines bekannten Frequenz-stabilisierten Lasers mit externem Resonator,
dessen Modenspringen eingedämmt
ist;
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18A zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XVIIIA-XVIIIA aus 17, und 18B zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XVIIIB-XVIIIB aus 17;
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19 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
bekannten gekreuzten optischen Wellenleiters;
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20 zeigt eine Draufsicht einer weiteren Konfiguration
eines bekannten athermischen angeordneten Wellenleitergitters;
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21 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der Nachbarschaft
eines Scheibenwellenleiters 303a aus 20;
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22 zeigt eine graphische Darstellung der Zusammenhänge zwischen
der Länge
des durch den Graben entfernten optischen Wellenleiters und dem Beugungsverlust;
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23A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem ersten Ausführungsbeispiel, und 23B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIIIB-XXIIIB
aus 23A;
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24A zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXIVA-XXIVA aus 23A, 24B zeigt eine
Schnittansicht entlang einer Linie XXIVB-XXIVB aus 23A und 24C zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIVC-XXIVC aus 23A;
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25A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem zweiten Ausführungsbeispiel, und 25B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie XXVB-XXVB
aus 25A;
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26A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem dritten Ausführungsbeispiel,
und 26B zeigt eine Schnittansicht
entlang einer Linie XXVIB-XXVIB aus 26A;
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27A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem vierten Ausführungsbeispiel, und 27B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie XXVIIB-XXVIIB
aus 27A;
-
28A zeigt eine Schnittansicht einer Linie XXVIIIA-XXVIIIA aus 27A, und 28B zeigt eine
Schnittansicht entlang einer Linie XXVIIIB-XXVIIIB aus 27A;
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29A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem fünften Ausführungsbeispiel, und 29B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXIXB-XXIXB aus 29A;
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30A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem sechsten Ausführungsbeispiel,
und 30B zeigt eine Schnittansicht
entlang einer Linie XXXB-XXXB aus 30A;
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31 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem siebten Ausführungsbeispiel;
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32 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration von
optischen Wellenleitern nach einem achten Ausführungsbeispiel;
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33 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration von
optischen Wellenleitern nach einem neunten Ausführungsbeispiel;
-
34 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem zehnten Ausführungsbeispiel;
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35 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
optischen Wellenleiters nach einem elften Ausführungsbeispiel;
-
36 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem zwölften Ausführungsbeispiel;
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37 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
optischen Wellenleiters nach einem dreizehnten Ausführungsbeispiel;
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38 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem vierzehnten Ausführungsbeispiel;
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39 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem fünfzehnten Ausführungsbeispiel;
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40 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der Nachbarschaft
eines Scheibenwellenleiters 413a aus 39;
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41A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem sechzehnten Ausführungsbeispiel, und 41B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXXXIB-XXXXIB aus 41A;
-
42 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration von
erfindungsgemäßen optischen
Wellenleitern nach einem siebzehnten Ausführungsbeispiel;
-
43 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der Nachbarschaft
der angeordneten Wellenleiter aus 42;
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44 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem achtzehnten Ausführungsbeispiel;
-
45A zeigt eine vergrößerte Draufsicht einer Konfiguration
eines Bereiches 603 oder 604 aus 44, und 45B zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXXXVB-XXXXVB aus 45A;
-
46A zeigt eine vergrößerte Draufsicht einer Konfiguration
des Bereiches 603 oder 604 aus 44 nach einem neunzehnten Ausführungsbeispiel, und 46B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXXXVIB-XXXXVIB aus 46A;
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47A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem zwanzigsten Ausführungsbeispiel, und 47B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXXXVIIB-XXXXVIIB aus 47A;
und
-
48 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
optischen Wellenleiters nach einem einundzwanzigsten Ausführungsbeispiel.
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Die
optischen Wellenleiterschaltungen der erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiele
sind nachstehend unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung
beschrieben.
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ERSTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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23A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem ersten Ausführungsbeispiel; 23B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIIIB-XXIIIB
aus 23A; 24A zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIVA-XXIVA aus 23A; 24B zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIVB-XXIVB aus 23A; und 24C zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXIVC-XXIVC aus 23A. Das erste Ausführungsbeispiel ist gekennzeichnet
durch die Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials 5,
das einen Graben 4 als erste Verlustkomponente ausfüllt, und durch
die Bereitstellung einer Wellenleiterlücke 6 vor dem Graben 4 als
zweite Verlustkomponente.
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Bei
den 23A und 23B und
den 24A bis 24C ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 2 auf
einem Siliziumsubstrat 1 ausgebildet. In der Mantelschicht 2 ist
ein optischer Wellenleiter 3 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet, wie es in 24A gezeigt ist.
-
Zudem
ist ein Graben 4 mit einer Breite Wgroovel über dem
optischen Wellenleiter 3 durch Entfernen eines Teils der
Mantelschicht 2 und des Kerns von dem optischen Wellenleiter 3 gemäß 24C ausgebildet.
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Der
Graben 4 ist gemäß 24C mit einem Temperaturkompensationsmaterial 5 gefüllt. Insbesondere
ist für
das Temperaturkompensationsmaterial 5 vorzuziehen, dass
dessen Temperaturkoeffizient des Brechungsindex dn'/dT sich im Vorzeichen
von dem Temperaturkoeffizienten des effektiven Brechungsindex des
optischen Wellenleiters 3 dn/dT unterscheidet, und dass
der Absolutwert |dn'/dT|
seines Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex ausreichend größer als
der Absolutwert |dn/dT| des Temperaturkoeffizienten des effektiven
Brechungsindex des optischen Wellenleiters 3 ist. Als Beispiel
für ein
derartiges Temperaturkompensationsmaterial 5 gibt es Silikon
mit einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex dn'/dT von etwa –40 × (dn/dT).
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Der
optische Wellenleiter 3 beinhaltet eine Wellenleiterlücke 6 mit
einer Breite Wgap1, die vor dem Graben 4 mit
einem Abstand dgap1 angeordnet ist. Die Wellenleiterlücke 6 ist
durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 3 durch
die Mantelschicht 2 ohne Hinzufügen eines Herstellungsvorgangs
ausgebildet. Die Breite Wgap1 der Wellenleiterlücke 6 kann
derart bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in der Wellenleiterlücke 6 kleiner
als der Beugungsverlust in dem mit dem Temperaturkompensationsmaterial 5 gefüllten Graben 4 wird. Zudem
kann der Abstand dgap1 zwischen dem Graben 4 und
der Wellenleiterlücke 6 mit
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 6 passierende
Lichtwelle den Graben 4 erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle an der Wellenleiterlücke 6 vollständig in
eine Abstrahlung umschlägt.
-
Beispielsweise
ist es möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 3 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Breite
Wgroove1 des Grabens 4 auf 130 μm, die Breite
Wgap1 der Wellenleiterlücke 6 auf 20 μm und den
Abstand dgap1 zwischen dem Graben 4 und
der Wellenleiterlücke 6 auf
20 μm einzustellen.
Somit passiert das sich durch den optischen Wellenleiter 3 ausbreitende
Licht durch die Wellenleiterlücke 6 mit dem
Beugungsverlust, schreitet fort durch den mit dem Temperaturkompensationsmaterial 5 gefüllten Graben 4,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleier 3 aus.
-
Der
Graben 4 erzeugt den Beugungsverlust, wenn das sich durch
den optischen Wellenleiter 3 ausbreitende Licht durch den
Graben 4 passiert. Zur Reduktion des Beugungsverlustes
am Graben 4 muss der Abstrahlungswinkel der Lichtwelle
am Graben 4 reduziert werden, und zum Reduzieren des Abstrahlungswinkels
der Lichtwelle ist ein Erhöhen
der Strahlpunktgröße der Lichtwelle
wirkungsvoll.
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Andererseits
strahlt das Lecken der Ausbreitungslichtwelle an der Verlustkomponente
wie etwa der Wellenleiterlücke 6 mittelbar
nach dem Passieren durch die Wellenleiterlücke 6 nicht vollständig ab, sondern
strahlt graduell ab, während
es durch die Nachbarschaft des optischen Wellenleiters 3 für einige
Zeit fortschreitet. Folglich wird unmittelbar nach dem Passieren
durch die Wellenleiterlücke 6 die durch
den optischen Wellenleiter 3 sich ausbreitende Lichtwelle
mit der durch die Nachbarschaft des optischen Wellenleiters 3 fortschreitenden
Lecklichtwelle gemischt, bevor es in vollständige Abstrahlung umschlägt, wodurch
ein Zustand hervorgebracht wird, bei dem die Strahlpunktgröße der sich
durch den optischen Wellenleiter 3 ausbreitenden Lichtwelle
sichtbar vergrößert wird.
Zudem leckt der Beugungsverlust an der Wellenleiterlücke 6 sowohl
in die horizontale als auch in die vertikale Richtung.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
den Graben 4 eingeführten
Lichtwelle durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 6 vor dem Graben 4 sowohl
in horizontaler als auch vertikaler Richtung bedeutend vergrößert werden,
was den bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 3 mit
der Verlustkomponente einbezogenen überschießenden Verlust reduzieren kann.
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Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 241 mit dem Graben 242 aus 7 8,9
dB beträgt,
liegt beispielsweise der gesamte überschießende Verlust des optischen
Wellenleiters 1 mit dem Graben 4 und der Wellenleiterlücke 6 gemäß den 23A und 23B bei
7,7 dB, was bedeutet, dass der überschießende Verlust
im Vergleich zu der Konfiguration nach 7 um 1,2
dB reduziert werden kann.
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ZWEITES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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25A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
des erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem zweiten Ausführungsbeispiel; und 25B zeigt eine Schnittansicht entlang der Linie XXVB-XXVB
aus 25A.
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Das
zweite Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials 15,
das einen Graben 14 als erste Verlustkomponente füllt, und
durch Bereitstellen von Wellenleiterlücken 16a und 16b vor
und nach dem Graben 14 als zweite Verlustkomponente.
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In
den 25A und 25B ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 12 auf
einem Siliziumsubstrat 11 ausgebildet. In der Mantelschicht 12 ist
ein optischer Wellenleiter 13 mit einem aus Quarzbasiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet.
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Ferner
ist ein Graben 14 mit einer Breite Wgroove2 über dem
optischen Wellenleiter 13 durch Entfernen eines Teils der
Mantelschicht 12 und des Kerns des optischen Wellenleiters 13 ausgebildet.
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Der
Graben 14 ist ferner mit einem Temperaturkompensationsmaterial 15 mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des
optischen Wellenleiters 13 gefüllt.
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Der
optische Wellenleiter 13 beinhaltet eine Wellenleiterlücke 16a mit
einer Breite Wgap11 die vor dem Graben 14 mit
einem Abstand dgap11 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 16b mit
einer Breite Wgap12, die nach dem Graben 14 mit
einem Abstand dgap12 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 16a und 16b sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 13 durch
die Mantelschicht 12 ohne Hinzufügen eines Herstellungsvorgangs
ausgebildet.
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Die
Breiten Wgap11 und Wgap12 der
Wellenleiterlücken 16a und 16b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 16a und 16b kleiner
als der Beugungsverlust in dem mit dem Temperaturkompensationsmaterial 15 gefüllten Graben 14 wird.
Andererseits kann der Abstand dgap11 zwischen
dem Graben 14 und der Wellenleiterlücke 16a in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 16a passierende
Lichtwelle den Graben 14 erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle an der Wellenleiterlücke 16a vollständig in
Abstrahlung umschlägt. Zudem
kann der Abstand dgap12 zwischen dem Graben 14 und
der Wellenleiterlücke 16b in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 14 passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 16a erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 13 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Breite
Wgroove2 des Grabens 14 auf 130 μm, die Breite
Wgap11 der Wellenleiterlücke 16a auf 20 μm, den Abstand
dgap11 zwischen dem Graben 14 und
der Wellenleiterlücke 16a auf
20 μm, die
Breite Wgap12 der Wellenleiterlücke 16b auf
20 μm, und
den Abstand dgap12 zwischen dem Graben 14 und
der Wellenleiterlücke 16b auf
20 μm einzustellen.
Für das
Temperaturkompensationsmaterial 15 kann Silikon verwendet werden.
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Somit
passiert das sich durch den optischen Wellenleiter 13 ausbreitende
Licht durch die Wellenleiterlücke 16a mit
dem Beugungsverlust, schreitet fort durch den mit dem Temperaturkompensationsmaterial 15 gefüllten Graben 14,
passiert durch die Wellenleiterlücke 16b,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleiter 13 aus.
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Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
den Graben 14 eingeführten
Lichtwelle sowohl in die horizontale als auch in die vertikale Richtung
durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 16a vor dem Graben 14 sichtbar
vergrößert werden,
und die Strahlpunktgröße der von
dem Graben 14 ausgegebenen Lichtwelle kann sowohl in horizontaler
als auch in vertikaler Richtung durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 16b nach
dem Graben 14 gemäß der Zeitumkehrinvarianz
der Lichtwelle sichtbar verkleinert werden. Dies ermöglicht eine
Reduktion des bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen
Wellenleiter 13 mit den Verlustkomponenten einbezogenen überschießenden Verlusts.
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Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 241 mit- dem Graben 242 aus 7 8,9
dB beträgt,
liegt beispielsweise der gesamte überschießende Verlust des optischen
Wellenleiters 13 mit dem Graben 14 und den Wellenleiterlücken 16a und 16b gemäß den 25A und 25B bei
6,5 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 7 um 2,4
dB bedeutet.
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DRITTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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26A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem dritten Ausführungsbeispiel;
und 26B zeigt eine Schnittansicht
entlang einer Linie XXVIB-XXVIB aus 26A.
Das dritte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials 25,
das einen Graben 24 als erste Verlustkomponente füllt, und
durch die Bereitstellung einer Vielzahl von Wellenleiterlücken 26A bis 26C und 26D bis 26F vor
und nach dem Graben 24 als zweite Verlustkomponente.
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Gemäß den 26A und 26B ist
eine aus Quarzbasiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 22 auf
einem Siliziumsubstrat 21 ausgebildet. In der Mantelschicht 22 ist
ein optischer Wellenleiter 23 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet.
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Zudem
ist der Graben 24 mit einer Breite Wgroove3 Über den
optischen Wellenleiter 23 durch Entfernen eines Teils der
Mantelschicht 22 und des Kerns von dem optischen Wellenleiter 23 ausgebildet.
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Der
Graben 24 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial 25 mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen als
der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des optischen
Wellenleiters 23 gefüllt.
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Der
optische Wellenleiter 23 beinhaltet eine Wellenleiterlücke 26a mit
einer Breite Wgap21, die vor dem Graben 24 mit
einem Abstand dgap21 angeordnet ist. Daneben
ist eine Wellenleiterlücke 26b mit
einer Breite Wgap22 vor der Wellenleiterlücke 26a mit
einem Abstand dgap22 bereitgestellt, und
eine Wellenleiterlücke 26c mit
einer Breite Wgap23 ist vor der Wellenleiterlücke 26b mit
einem Abstand dgap23 bereitgestellt. In ähnlicher
Weise ist eine Wellenleiterlücke 26d mit einer
Breite Wgap24 nach dem Graben 24 mit
einem Abstand dgap24 bereitgestellt, gefolgt
von einer Wellenleiterlücke 26e mit
einer Breite Wgap25, die nach der Wellenleiterlücke 26d mit
einem Abstand dgap25 bereitgestellt ist,
und einer Wellenleiterlücke 26f mit
einer Breite Wgap26, die nach der Wellenleiterlücke 26e mit
einem Abstand dgap26 bereitgestellt ist.
Die Wellenleiterlücken 26a bis 26f sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 23 durch
die Mantelschicht 22 ohne Hinzufügen eines Herstellungsvorgangs
ausgebildet.
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Die
Breiten Wgap21 – Wgap26 der
Wellenleiterlücken 26a bis 26f können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 26a bis 26f kleiner
als der Beugungsverlust in dem mit dem Temperaturkompensationsmaterial 25 gefüllten Graben 24 wird.
Zudem verschmälern
sich vorzugsweise die Breiten Wgap21 – Wgap26 mit steigendem Abstand von dem Graben 24.
-
Andererseits
kann der Abstand dgap21 zwischen dem Graben 24 und
der Wellenleiterlücke 26a in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 26a passierende
Lichtwelle den Graben 24 erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
Ferner kann der Abstand dgap22 zwischen
den Wellenleiterlücken 26a und 26b in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 26b passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 26a erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt. In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap23 zwischen den
Wellenleiterlücken 26b und 26c in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 26c passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 26b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Weiterhin
kann der Abstand dgap24 zwischen dem Graben 24 und
der Wellenleiterlücke 26d in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 24 passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 26d erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt. Zudem
kann der Abstand dgap25 zwischen den Wellenleiterlücken 26d und 26e in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 26d passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 26e erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt. In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap26 zwischen den
Wellenleiterlücken 26e und 26f in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 26e passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 26f erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 23 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Breite
Wgroove3 des Grabens 24 auf 130 μm, die Breite
Wgap21 der Wellenleiterlücke 26a auf 20 μm, den Abstand
dgap21 zwischen dem Graben 24 und
der Wellenleiterlücke 26a auf
20 μm, die
Breite Wgap22 der Wellenleiterlücke 26b auf
10 μm, den
Abstand dgap22 zwischen den Wellenleiterlücken 26a und 26b auf
20 μm, die
Breite Wgap23 der Wellenleiterlücke 26c auf
5 μm, den
Abstand dgap23 zwischen den Wellenleiterlücken 26b und 26d auf
20 μm, die
Breite Wgap24 der Wellenleiterlücke 26d auf
20 μm, den
Abstand dgap24 zwischen dem Graben 24 und
der Wellenleiterlücke 26d auf
20 μm, die
Breite Wgap25 der Wellenleiterlücke 26e auf
10 μm, den
Abstand dgap25 zwischen den Wellenleiterlücken 26d und 26e auf
20 μm, die
Breite Wgap26 der Wellenleiterlücke 26f auf
5 μm und
den Abstand dgap26 zwischen den Wellenleiterlücken 26e und 26f auf
20 μm einzustellen.
Für das
Temperaturkompensationsmaterial 25 kann Silikon verwendet
werden.
-
Das
sich durch den optischen Wellenleiter 23 ausbreitende Licht
passiert die Wellenleiterlücken 26a bis 26c mit
dem Beugungsverlust, schreitet durch den mit dem Temperaturkompensationsmaterial 25 gefüllten Graben 24 fort,
passiert die Wellenleiterlücken 26d bis 26f,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleiter 23 aus.
-
Somit
kann das Vergrößerungsausmaß der Strahlpunktgröße der in
den Graben 24 eingeführten Lichtwelle
durch Bereitstellen der Vielzahl an Wellenleiterlücken 26a bis 26c vor
dem Graben 24 sichtbar erhöht werden, und die vergrößerte Strahlpunktgröße der Lichtwellenausgabe
des Grabens 24 kann durch Bereitstellen der Vielzahl an
Wellenleiterlücken 26d bis 26f nach
dem Graben 24 effektiv reduziert werden. Dies ermöglicht eine
weitere Reduktion des bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den
optischen Wellenleiter 23 mit den Verlustkomponenten einbezogenen überschießenden Verlustes.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 241 mit dem Graben 242 nach 7 8,9
dB beträgt,
liegt beispielsweise der gesamte überschießende Verlust des optischen
Wellenleiters 23 mit dem Graben 24 und der Vielzahl
an Wellenleiterlücken 26a bis 26f gemäß den 26A und 26B bei
5,6 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 7 um 3,6
dB bedeutet.
-
VIERTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
27A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem vierten Ausführungsbeispiel; 27B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie XXVIIB-XXVIIB
aus 27A; 28A zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXVIIIA-XXVIIIA aus 27A; und 28B zeigt
eine Schnittansicht entlang einer Linie XXVIIIB-XXVIIIB aus 27A. Das vierte Ausführungsbeispiel ist gekennzeichnet durch
die Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials 35,
das einen Graben 34 als erste Verlustkomponente füllt, durch
die Bereitstellung von Wellenleiterlücken 36a und 36b vor
und nach dem Graben 34 als zweite Verlustkomponente, und
durch Erhöhen
der Breite des optischen Wellenleiters 33, der durch den
Graben 34 und die Wellenleiterlücken 36a und 36b geteilt
ist.
-
Gemäß den 27A und 27B und
den 28A und 28B ist
eine aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 32 auf
einem Siliziumsubstrat 31 ausgebildet. In der Mantelschicht 32 ist
ein optischer Wellenleiter 33 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet. Der optische Wellenleiter 33 beinhaltet einen
breiten Abschnitt 33c und schmale Abschnitte 33a und 33e.
Der breite Abschnitt 33c ist mit den schmalen Abschnitten 33a und 33e über verjüngte Abschnitte 33b und 33d nahtlos
verbunden.
-
Zudem
ist der Graben 34 mit einer Breite Wgroove4 über den
breiten Abschnitt 33c des optischen Wellenleiters 33 durch
Entfernen eines Teils der Mantelschicht 32 und des Kerns
von dem optischen Wellenleiter 33 ausgebildet.
-
Der
Graben 34 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial 35 mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen als
der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des optischen
Wellenleiters 33 gefüllt.
-
Der
breite Abschnitt 33c des optischen Wellenleiters 33 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 36a mit einer
Breite Wgap31, die vor dem Graben 34 mit
einem Abstand dgap31 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 36b mit
einer Breite Wgap32, die nach dem Graben 34 mit
einem Abstand dgap32 angeordnet ist. Die Wellenleiterlücken 36a und 36b sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 33 durch
die Mantelschicht 32 ausgebildet, ohne einen Herstellungsvorgang
hinzuzufügen.
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Die
Breiten Wgap31 Und Wgap32 der
Wellenleiterlücken 36a und 36b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 36a und 36b kleiner
als der Beugungsverlust in dem mit dem Temperaturkompensationsmaterial 35 gefüllten Graben 34 wird.
Andererseits kann der Abstand dgap32 zwischen
dem Graben 34 und der Wellenleiterlücke 36a in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 36a passierende
Lichtwelle den Graben 34 passieren kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
Weiterhin kann der Abstand dgap32 zwischen
dem Graben 34 und der Wellenleiterlücke 36b in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 34 passierende Lichtwelle
die Wellenleiterlücke 36b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
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Der
Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 33 kann
beispielsweise auf 1,5%, die Kernbreite × Kerndicke der schmalen Abschnitte 33a und 33e auf
4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
des breiten Abschnitts 33c auf 9,0 μm × 4,5 μm, die Breite Wgroove4 des
Grabens 34 auf 130 μm,
die Breite Wgap31 der Wellenleiterlücke 36a auf
20 μm, der Abstand
dgap31 zwischen dem Graben 34 und
der Wellenleiterlücke 36a auf
20 μm, die
Breite Wgap32 der Wellenleiterlücke 36b auf
20 μm, und
der Abstand dgap32 zwischen dem Graben 34 und
der Wellenleiterlücke 36b auf
20 μm eingestellt
werden. Für
das Temperaturkompensationsmaterial 35 kann Silikon verwendet
werden.
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Das
sich durch den optischen Wellenleiter 33 ausbreitende Licht
passiert die Wellenleiterlücke 36a mit
dem Beugungsverlust, nachdem seine Strahlpunktgröße aufgeweitet ist, wenn es
von dem schmalen Abschnitt 33a in den breiten Abschnitt 33c eingegeben
wird. Dann schreitet das Licht durch den mit dem Temperaturkompensationsmaterial 35 gefüllten Graben 34 fort,
und breitet sich durch den optischen Wellenleiter 33 mit
verschmälerter
Strahlpunktgröße aus,
wenn es von dem breiten Abschnitt 33c in den schmalen Abschnitt 33a eingegeben
wird.
-
Somit
kann die aufgeweitete Strahlpunktgröße der in den Graben 234 eingegebenen
Lichtwelle sowohl in die horizontale als auch in die vertikale Richtung
durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 36a vor dem Graben 34 weiter
sichtbar vergrößert werden,
und die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
dem Graben 34 ausgegebenen Lichtwelle kann sowohl in die
horizontale als auch in die vertikale Richtung durch Bereitstellen
der Wellenleiterlücke 36b nach
dem Graben 34 sichtbar reduziert werden, was den bei der
Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 13 mit
den Verlustkomponenten einbezogenen überschießenden Verlust weiter reduzieren
kann.
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Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 241 mit dem Graben 242 gemäß 7 8,9
dB beträgt,
liegt der gesamte überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 33 mit dem breiten Abschnitt 33c zusätzlich zu
dem Graben 34 und den Wellenleiterlücken 36a und 36b nach den 27A und 27B beispielsweise
bei 5,0 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes im Vergleich
zu der Konfiguration nach 7 um 3,9 dB
bedeutet.
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FÜNFTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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29A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen Wellenleiters von einem fünften Ausführungsbeispiel; und 29B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XXIXB-XXIXB aus 29A. Das fünfte Ausführungsbeispiel ist gekennzeichnet
durch die Verwendung von Temperaturkompensationsmaterialien 45a bis 45d,
die eine Vielzahl von Gräben 44a bis 44d als
erste Verlustkomponente füllen,
und durch die Bereitstellung von Wellenleiterlücken 46a und 46b vor
und nach den Gräben 44a bis 44d als
zweite Verlustkomponente.
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Gemäß den 29A und 29B ist
eine aus Quarzbasiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 42 auf
einem Siliziumsubstrat 41 ausgebildet. In der Mantelschicht 42 ist
ein optischer Wellenleiter 43 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet.
-
Zudem
ist die Vielzahl an Gräben 44a bis 44d mit
den Breiten Wgroove41 bis Wgroove44 über den
optischen Wellenleiter 43 mit dazwischen angeordneten Abständen dgroove41 bis dgroove43 zwischen
den Gräben durch
Entfernen eines Teils der Mantelschicht 42 und des Kerns
von dem optischen Wellenleiter 43 ausgebildet.
-
Ferner
sind die Gräben 44a bis 44d mit
Temperaturkompensationsmaterialien 45a bis 45d mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des
optischen Wellenleiters 43 gefüllt.
-
Der
optische Wellenleier 43 beinhaltet eine Wellenleiterlücke 46a mit
einer Breite Wgap41, die vor dem Graben 44a mit
einem Abstand dgap41 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 46b mit
einer Breite Wgap42, die nach dem Graben 44d mit
einem Abstand dgap42 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 46a und 46b sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 43 durch
die Mantelschicht 42 ausgebildet, ohne einen Herstellungsvorgang
hinzuzufügen.
-
Die
Breiten Wgap41 Und Wgap42 der
Wellenleiterlücken 46a und 46b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 46a und 46b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust von den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 45a bis 45d gefüllten Gräben 44a bis 44d wird.
Zudem kann der Abstand dgap41 zwischen dem
Graben 44a und der Wellenleiterlücke 46a in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 46a passierende
Lichtwelle den Graben 44a erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
Weiterhin kann der Abstand dgap42 zwischen dem
Graben 44d und der Wellenleiterlücke 46b in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 44d passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 46b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 43 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Breiten
Wgroove41-Wgroove44 der
Gräben 44a bis 44d jeweils
auf 40 μm,
die Abstände
dgroove41 – dgroove43 zwischen
den Gräben 44a bis 44d auf
jeweils 20 μm, die
Breite Wgap41 der Wellenleiterlücke 46a auf
20 μm, den
Abstand dgap41 zwischen dem Graben 44a und der
Wellenleiterlücke 46a auf
20 μm, die
Breite Wgap42 der Wellenleiterlücke 46b auf
20 μm, und
den Abstand dgap42 zwischen dem Graben 44a und
der Wellenleiterlücke 46b auf
20 μm einzustellen.
Für die Temperaturkompensationsmaterialien 45a bis 45d kann
Silikon verwendet werden.
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Das
sich durch den optischen Wellenleiter 43 ausbreitende Licht
passiert die Wellenleiterlücke 46a mit
dem Beugungsverlust, schreitet fort durch die mit den Temperaturkompensationsmaterialien 45a bis 45d gefüllten Gräben 44a bis 44d,
passiert die Wellenleiterlücke 46b,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleiter 43 aus.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
die Gräben 44a bis 44d eingeführten Lichtwelle
sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung sichtbar vergrößert werden,
und die Strahlpunktgröße der von den
Gräben 44a bis 44d ausgegebenen
Lichtwelle kann sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung
sichtbar reduziert werden. Dies ermöglicht eine weitere Reduktion
des bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 43 mit den
Verlustkomponenten einbezogenen überschießenden Verlustes.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 261 mit den Gräben 262a bis 262n nach 13 4,6 dB beträgt,
liegt beispielsweise der gesamte überschießende Verlust des optischen
Wellenleiters 43 mit den Gräben 44a bis 44d und
den Wellenleiterlücken 46a und 46b nach
den 29A und 29B bei
3,4 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 13 um
1,2 dB bedeutet.
-
SECHSTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
30A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines optischen. Wellenleiters nach einem sechsten Ausführungsbeispiel;
und 30B zeigt eine Schnittansicht
entlang einer Linie XXXB-XXXB nach 30A.
Das sechste Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung von Temperaturkompensationsmaterialien 55a bis 55d,
die eine Vielzahl von Gräben 54a bis 54d als
erster Verlustkomponente füllen,
durch Bereitstellen von Wellenleiterlücken 56a und 56b vor
und nach den Gräben 54a bis 54d als
zweite Verlustkomponente, und durch Erhöhen der Breite des optischen
Wellenleiters 53, der durch die Gräben 54a bis 54d und
die Wellenleiterlücken 56a und 56b unterteilt
ist.
-
Gemäß den 30A und 30B ist
eine aus Quarzbasiertem Glas zusammengesetzte Mantelschicht 52 auf
einem Siliziumsubstrat 51 ausgebildet. In der Mantelschicht 52 ist
ein optischer Wellenleiter 53 mit einem aus Quarz-basiertem
Glas zusammengesetzten Kern ausgebildet. Der optische Wellenleiter 53 beinhaltet
einen breiten Abschnitt 53c und schmale Abschnitte 53a und 53e.
Der breite Abschnitt 53c ist mit den schmalen Abschnitten 53a und 53e über verjüngte Abschnitte 53b und 53d nahtlos verbunden.
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Zudem
ist die Vielzahl von Gräben 54a bis 54d mit
den Breiten Wgroove51 bis Wgroove54 Über den breiten
Abschnitt 53c des optischen Wellenleiters 53 mit
dazwischen angeordneten Abständen
dgroove51 bis dgroove53 zwischen
den Gräben
durch Entfernen eines Teils der Mantelschicht 52 und des
Kerns von dem optischen Wellenleiter 53 ausgebildet.
-
Weiterhin
sind die Gräben 54a bis 54d mit Temperaturkompensationsmaterialien 55a bis 55d mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als dem Temperaturkoeffizienten des effektiven Brechungsindex des
optischen Wellenleiters 53 gefüllt.
-
Der
breite Abschnitt 53c des optischen Wellenleiters 53 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 56a mit einer
Breite Wgap51, die vor dem Graben 54a mit
einem Abstand dgap51 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 56b mit
einer Breite Wgap52, die nach dem Graben 54d mit
einem Abstand dgap52 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 56a und 56b sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 53 durch
die Mantelschicht 52 ausgebildet, ohne einen Herstellungsvorgang
hinzuzufügen.
-
Die
Breiten Wgap51 und Wgap52 der
Wellenleiterlücken 56a und 56b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 56a und 56b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust in den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 55a bis 55d gefüllten Gräben 54a bis 54d wird.
Zudem kann der Abstand dgap51 zwischen dem
Graben 54a und der Wellenleiterlücke 56a in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 56a passierende
Lichtwelle den Graben 54a erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
Weiterhin kann der Abstand dgap52 zwischen dem
Graben 54d und der Wellenleiterlücke 56b in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 54d passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 56b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 53 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
der schmalen Abschnitte 53a und 53e auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
des breiten Abschnitts 53c auf 9,0 μm × 4,5 μm, die Breiten Wgroove51 bis
Wgroove54 der Gräben 54a bis 54d jeweils
auf 25 μm,
die Abstände
dgroove51 bis dgroove53 zwischen
den Gräben 54a bis 54d jeweils
auf 20 μm,
die Breite Wgap51 der Wellenleiterlücke 56a auf
15 μm, den
Abstand dgap51 zwischen dem Graben 54a und
der Wellenleiterlücke 56a auf
15 μm, die
Breite Wgap52 der Wellenleiterlücke 56b auf
15 μm, und
den Abstand dgap52 zwischen dem Graben 54d und
der Wellenleiterlücke 56b auf
15 μm einzustellen.
Für die
Temperaturkompensationsmaterialien 55a bis 55d kann
Silikon verwendet werden.
-
Das
sich durch den optischen Wellenleiter 53 ausbreitende Licht
passiert die Wellenleiterlücke 56a mit
dem Beugungsverlust, nachdem seine Strahlpunktgröße aufgeweitet wurde, wenn
sie von dem schmalen Abschnitt 53a in den breiten Abschnitt 53c eingegeben
wird. Dann schreitet das Licht durch die mit den Temperaturkompensationsmaterialien 55a bis 55d gefüllten Gräben 54a bis 54d fort,
passiert die Wellenleiterlücke 56b,
und breitet sich durch den optischen Wellenleiter 53 mit
verschmälerter
Strahlpunktgröße aus,
wenn es von dem breiten Abschnitt 53c in den schmalen Abschnitt 53a eingegeben
wird.
-
Somit
kann die aufgeweitete Strahlpunktgröße der in die Gräben 54a bis 54d eingegebenen Lichtwelle
sowohl in horizontaler als auch vertikaler Richtung durch Bereitstellen
der Wellenleiterlücke 56a vor
den Gräben 54a bis 54d weiter
sichtbar vergrößert werden,
und die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
den Gräben 54a bis 54d ausgegebenen Lichtwelle
kann sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung durch
Bereitstellen der Wellenleiterlücke 56b nach
den Gräben 54a bis 54d sichtbar reduziert
werden. Somit wird es möglich,
den bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 53 mit
den Verlustkomponenten einbezogenen überschießenden Verlust weiter zu reduzieren.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 261 mit den Gräben 262a bis 262n gemäß 13 4,6 dB beträgt,
liegt der gesamte überschießende Verlust
des optischen Wellenleiters 43 mit dem breiten Abschnitt 53c zusätzlich zu den
Gräben 54a bis 54d und
den Wellenleiterlücken 56a und 56b gemäß den 30A und 30B beispielsweise
bei 2,1 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes im Vergleich
zu der Konfiguration nach 13 um
2,5 dB bedeutet.
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SIEBTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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31 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem siebten Ausführungsbeispiel. Das siebte
Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch ein Temperaturkompensationsmaterial, das
einen Graben 70 als der ersten Verlustkomponente füllt, und
einen charakteristischen Kompensationsbereich 69, der vor
und nach dem Graben 70 bereitgestellte Wellenleiterlücken 71a und 71b als
zweite Verlustkomponente beinhaltet, die in ein angeordnetes Wellenleitergitter
eingebaut sind.
-
Nach 31 sind angeordnete Wellenleiter 64 mit
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzten Mäntel und Kernen auf einem Siliziumsubstrat 61 ausgebildet.
Bei den angeordneten Wellenleitern 64 ist jeder Wellenleiter
nach außen
um ein festes Ausmaß ΔL verlängert.
-
Die
angeordneten Wellenleiter 64 beinhalten den charakteristischen
Kompensationsbereich 69 zum Athermisieren der Übertragungswellenlänge. Der
charakteristische Kompensationsbereich 69 beinhaltet den
Graben 70, der über
den angeordneten Wellenleiter 64 durch Entfernen eines
Teils der Mäntel
und Kerne der angeordneten Wellenleiter 64 ausgebildet
ist. Der in den angeordneten Wellenleitern 64 bereitgestellte
Graben 70 kann derart ausgebildet sein, dass seine Breite
durch ein Ausmaß ΔL' proportional zu
dem festen Ausmaß ΔL graduell
erhöht
wird, welches die zunehmende Länge
der angeordneten Wellenleiter 64 ist.
-
Der
Graben 70 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial
mit einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem
Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex
der angeordneten Wellenleiter 64 gefüllt.
-
Der
charakteristische Kompensationsbereich 69 beinhaltet ferner
eine Wellenleiterlücke 71a mit
einer vorbestimmten Breite, die vor dem Graben 70 mit einem
spezifizierten Abstand bereitgestellt ist, und eine Wellenleiterlücke 71b mit
einer vorbestimmten Breite, die nach dem Graben 70 mit
einem spezifizierten Abstand bereitgestellt ist. Die Wellenleiterlücken 71a und 71b können durch
Ersetzen eines Teils der Kerne der angeordneten Wellenleiter 64 durch den
Mantel ausgebildet sein, ohne einen Herstellungsvorgang hinzuzufügen.
-
Ferner
sind Scheibenwellenleiter 63a und 63b mit beiden
Enden der angeordneten Wellenleiter 64 verbunden. Die Eingangsseite
der Scheibenwellenleiter 63a ist mit einem Eingangswellenleiter 62a verbunden,
und die Ausgangsseite der Scheibenwellenleiter 63b ist
mit Ausgangswellenleitern 62b verbunden.
-
Der
Eingangswellenleiter 62a ist mit einer optischen Faser 65a über einen
optischen Faserverbinder 66a verbunden, und die optische
Faser 65a ist mit einem optischen Faserverbindungsanschluss 67a verbunden.
Andererseits sind die Ausgangswellenleiter 62b mit optischen
Fasern 65b über
einen optischen Faserverbinder 66b verbunden, und die optischen
Fasern 65b sind mit optischen Faserverbindungsanschlüssen 67b verbunden.
Die Hauptbestandteile sind in einem Schaltungsgehäuse 68 aufgenommen.
-
Somit
passiert das sich durch die angeordneten Wellenleiter 64 ausbreitende
Licht durch die Wellenleiterlücke 71a unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, schreitet durch den mit dem
Temperaturkompensationsmaterial gefüllten Graben 70 fort, passiert
die Wellenleiterlücke 71b,
und breitet sich erneut durch die angeordneten Wellenleiter 64 aus.
-
Folglich
kann die Strahlpunktgröße der in den
Graben 70 eingeführten
Lichtwelle sichtbar vergrößert werden,
und die Strahlpunktgröße der von dem
Graben 70 ausgegebenen Lichtwelle kann sichtbar reduziert
werden. Somit kann der bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch
die angeordneten Wellenleiter 64 einbezogene überschießende Verlust
unter Athermisieren der Übertragungswellenlänge des
angeordneten Wellenleitergitters reduziert werden.
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ACHTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
Die
Draufsicht einer Konfiguration eines optischen Wellenleiters nach
einem achten Ausführungsbeispiel
ist dieselbe, wie die nach dem siebten Ausführungsbeispiel gemäß 31.
-
32 zeigt eine vergrößerte Draufsicht des charakteristischen
Kompensationsbereichs nach 31 gemäß dem achten
Ausführungsbeispiel. Das
achte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch Temperaturkompensationsmaterialien 83a bis 83n,
die eine Vielzahl von Gräben 82a bis 82n als erster
Verlustkomponente ausfüllen,
und einen charakteristischen Kompensationsbereich, der vor und nach
den Gräben 82a bis 82n bereitgestellte
Wellenleiterlücken 84a und 84b als
der zweiten Verlustkomponente beinhaltet, welche in einem angeordneten Wellenleitergitter
eingebaut sind.
-
Gemäß 32 ist die Vielzahl von Gräben 82a bis 82n über angeordneten
Wellenleitern 81 in regelmäßigen Abständen dgroove6 bereitgestellt.
Die Gräben 82a bis 82n sind
durch Entfernen eines Teils der Mäntel und der Kerne der angeordneten
Wellenleiter 81 ausgebildet.
-
Die
Gräben 82a bis 82n über den
angeordneten Wellenleitern 81 sind jeweils derart ausgebildet,
dass ihre Breite von Wmin1 auf W1 + Wmin1 monoton ansteigt. Zudem erhöht sich
in Übereinstimmung mit
der Länge
der angeordneten Wellenleiter 81, von denen jede um das
feste Ausmaß ΔL zunimmt,
die Breite der Gräben 82a bis 82n um
ein Ausmaß ΔL'/n proportional zu
dem festen Ausmaß ΔL.
-
Die
Gräben 82a bis 82n sind
mit Temperaturkompensationsmaterialien 83a bis 83n mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als dem Temperaturkoeffizienten des effektiven Brechungsindex der
angeordneten Wellenleiter 81 gefüllt.
-
Die
angeordneten Wellenleiter 81 beinhalten eine Wellenleiterlücke 84a mit
einer Breite Wgap61 die vor dem Graben 82 mit
einem Abstand dgap61 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 84b mit
einer Breite Wgap62, die nach dem Graben 82n mit
einem Abstand dgap62 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 84a und 84b sind
jeweils durch Ersetzen eines Teils der Kerne der angeordneten Wellenleiter 81 durch den
Mantel ausgebildet, ohne einen Herstellungsvorgang hinzuzufügen.
-
Die
Breiten Wgap61 und Wgap62 der
Wellenleiterlücken 84a und 84b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 84a und 84b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust in den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 83a bis 83n gefüllten Gräben 82a bis 82n wird.
Zudem kann der Abstand dgap61 zwischen dem
Graben 82a und der Wellenleiterlücke 84a auf einen
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 84a passierende
Lichtwelle den Graben 82a erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap62 zwischen dem
Graben 82n und der Wellenleiterlücke 84b auf einen
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 82n passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 84b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
die Anzahl Nawg der angeordneten Wellenleiter 81 auf 130,
die Längendifferenz ΔL zwischen
benachbarten angeordneten Wellenleitern 81 auf 60 μm, den Brechungsindexkontrast
der angeordneten Wellenleiter 81 auf 1,5%, und die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm einzustellen.
Der Entwurf kann ein angeordnetes Wellenleitergitter mit einem Wellenlängenkanalabstand
von 0,8 nm und einer Anzahl an Kanälen von 16 implementieren.
Dabei beträgt
die Längendifferenz ΔL' zwischen den benachbarten
angeordneten Wellenleitern 81, die durch alle Gräben 82a bis 82n entfernt
ist, 1,25 μm.
-
Weiterhin
ist es möglich,
die Anzahl der Gräben
auf 8, und den Abstand dgroove6 zwischen
den benachbarten Gräben 82a bis 82n auf
20 μm einzustellen.
Dabei liegt die Längendifferenz ΔL'/n zwischen den benachbarten
angeordneten Wellenleitern 81 durch einen der Gräben 82a bis 82n bei
1,25/8 = 0,16 μm,
und die Differenz W1 zwischen der maximalen Grabenbreite und der
minimalen Grabenbreite von jedem der Gräben 82a bis 82n liegt
bei W1 = ΔL'/n × (Nawg – 1)
= 20,2 μm.
Die Gräben 82a bis 82n können durch
Fotolithographie und reaktives Ionenätzen ausgebildet sein. In Anbetracht
der Wiederholbarkeit des Ätzvorgangs
kann die minimale Grabenbreite auf Wmin1 =
5 μm bestimmt
sein.
-
Es
ist möglich,
die Breite Wgap61 der Wellenleiterlücke 84a auf
20 μm, den
Abstand dgap61 zwischen dem Graben 82a und
der Wellenleiterlücke 84a auf
20 μm, die
Breite Wgap62 der Wellenleiterlücke 86b auf
20 μm, und
den Abstand dgap62 zwischen dem Graben 82n und
der Wellenleiterlücke 86b auf
20 μm einzustellen.
Für die
Temperaturkompensationsmaterialien 83a bis 83n kann
Silikon verwendet werden.
-
Obwohl
dabei der überschießende Verlust der
angeordneten Wellenleiter 251 mit den in 12 gezeigten Gräben 252a bis 252n 2,6
dB beträgt,
liegt der gesamte überschießende Verlust
der angeordneten Wellenleiter 81 mit den Gräben 82a bis 82n und den
Wellenleiterlücken 84a und 84b gemäß 32 bei 1,8 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 12 um
0,8 dB bedeutet.
-
NEUNTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
Die
Draufsicht der Konfiguration eines optischen Wellenleiters nach
einem neunten Ausführungsbeispiel
ist dieselbe, wie die gemäß dem siebten
Ausführungsbeispiel
nach 31.
-
33 zeigt eine vergrößerte Draufsicht des charakteristischen
Kompensationsbereichs nach 31 gemäß dem achten
Ausführungsbeispiel.
-
Das
neunte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch Temperaturkompensationsmaterialien 93a bis 93n,
die eine Vielzahl von Gräben 92a bis 92n als
erste Verlustkomponente füllen,
durch Bereitstellen von Wellenleiterlücken 94a und 94b vor
und nach den Gräben 92a bis 92n als
zweite Verlustkomponente, und durch Einbau eines charakteristischen Kompensationsbereiches
in das angeordnete Wellenleitergitter, bei dem die Breite der durch
die Gräben 92a bis 92n und
die Wellenleiterlücken 94a und 94b unterteilten
optischen Wellenleiter 91 erhöht ist.
-
Gemäß 33 beinhalten die angeordneten Wellenleiter 91 einen
breiten Abschnitt 91c und schmale Abschnitte 91a und 91e.
Der breite Abschnitt 91c ist mit den schmalen Abschnitten 91a und 91e über verjüngte Abschnitte 91b und 91d nahtlos verbunden.
Zudem ist eine Vielzahl von Gräben 92a bis 92n über den
breiten Abschnitt 91c der angeordneten Wellenleiter 91 mit
dazwischen angeordneten Abständen
dgroove7 durch Entfernen eines Teils der Mäntel und
Kerne von den angeordneten Wellenleitern 91 ausgebildet.
-
Die
Gräben 92a bis 92n über den
angeordneten Wellenleitern 91 sind jeweils derart ausgebildet,
dass ihre Breite von Wmin2 bis W2 + Wmin2 monoton ansteigt.
-
Zudem
erhöht
sich in Übereinstimmung
mit der Länge
der angeordneten Wellenleiter 91, von denen jede Schritt
für Schritt
um das feste Ausmaß ΔL ansteigt,
die Breite der Gräben 92a bis 92n um
das Ausmaß ΔL'/n proportional zu
dem festen Ausmaß ΔL.
-
Die
Gräben 92a bis 92n sind
mit den Temperaturkompensationsmaterialien 93a bis 93n mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex der
angeordneten Wellenleiter 92 gefüllt.
-
Der
breite Abschnitt 91c der angeordneten Wellenleiter 91 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 94a mit
einer Breite Wgap71, die vor dem Graben 92a mit einem
Abstand dgap71 angeordnet ist, und eine
Wellenleiterlücke 94b mit
einer Breite Wgap72, die nach dem Graben 72n mit
einem Abstand dgap72 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücke 94a und 94b können durch
Ersetzen eines Teils der Kerne der angeordneten Wellenleiter 91 durch
den Mantel ohne Hinzufügen
eines Herstellungsvorgangs ausgebildet werden. Die Breite Wgap71 Und Wgap72 der
Wellenleiterlücken 94a und 94b können ferner
derart bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust bei den Wellenleiterlücken 94a und 94b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust bei den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 93a bis 93n gefüllten Gräben 92a bis 92n wird.
-
Andererseits
kann der Abstand dgap71 zwischen dem Graben 92a und
der Wellenleiterlücke 94a in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 94a passierende Lichtwelle
den Graben 92a erreichen kann, bevor das Lecken der Lichtwelle
vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap72 zwischen dem
Graben 92n und der Wellenleiterlücke 94b in einem derartigen
Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 92n passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 94b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
die Anzahl Nawg der angeordneten Wellenleiter 91 auf 130,
die Längendifferenz ΔL zwischen
benachbarten angeordneten Wellenleitern 91 auf 60 μm, den Brechungsindexkontrast
der angeordneten Wellenleiter 91 auf 1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
der schmalen Abschnitte 91a und 91e auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
des breiten Abschnitts 91c auf 9,0 μm × 4,5 μm, die Anzahl der Gräben auf 8,
den Abstand dgroove7 zwischen den benachbarten
Gräben 92a bis 92n auf
20 μm, die
minimale Grabenbreite der Gräben 92a bis 92n auf
Wmin2 = 5 μm, die Breite Wgap71 der
Wellenleiterlücke 94a auf
20 μm, den
Abstand dgap71 zwischen dem Graben 92a und
der Wellenleiterlücke 94a auf
15 μm, die
Breite Wgap72 der Wellenleiterlücke 94b auf
20 μm, und
den Abstand dgap72 zwischen dem Graben 92n und
der Wellenleiterlücke 94b auf
15 μm einzustellen.
Für die
Temperaturkompensationsmaterialien 93a bis 93n kann
Silikon verwendet werden.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
der angeordneten Wellenleiter 251 mit den in 12 gezeigten Gräben 252a bis 252n 2,6
dB beträgt,
liegt der gesamte überschießende Verlust
der angeordneten Wellenleiter 91 mit dem breiten Abschnitt 91c zusätzlich zu
den Gräben 92a bis 92n und
den Wellenleiterlücken 94a und 94b gemäß 33 hierbei bei 1,0 dB, was eine Reduktion bei
dem überschießenden Verlust
im Vergleich zu der Konfiguration nach 12 um
1,6 dB bedeutet.
-
ZEHNTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
34 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem zehnten Ausführungsbeispiel. Das zehnte
Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch ein Temperaturkompensationsmaterial, das
einen Graben 110 als erste Verlustkomponente füllt, sowie
einen charakteristischen Kompensationsbereich 109, der
vor und nach dem Graben 110 bereitgestellte Wellenleiterlücken 111a und 111b als
zweite Verlustkomponente aufweist, die in einen thermooptischen
Schalter eingebaut sind.
-
Nach 34 sind Armwellenleiter 104a und 104b mit
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzten Mäntel und Kernen auf einem Siliziumsubstrat 101 ausgebildet.
-
Der
Armwellenleiter 104a weist einen charakteristischen Kompensationsbereich 109 zum
Reduzieren der elektrischen Energieaufnahme des thermooptischen
Schalters auf. Der charakteristische Kompensationsbereich 109 beinhaltet
einen Graben 110 über
dem Armwellenleiter 104a. Der Graben 110 kann
durch Entfernen eines Teils des Mantels und des Kerns von dem Armwellenleiter 104a ausgebildet sein.
-
Der
Graben 110 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial
mit einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem
Vorzeichen als dem Temperaturkoeffizienten des effektiven Brechungsindex
des Armwellenleiters 104a gefüllt.
-
Der
charakteristische Kompensationsbereich 109 beinhaltet eine
Wellenleiterlücke 111a mit einer
vorbestimmten Breite, die vor dem Graben 110 mit einem
spezifischen Abstand bereitgestellt ist, sowie eine Wellenleiterlücke 111b mit
einer vorbestimmten Breite, die nach dem Graben 110 mit
einem spezifischen Abstand bereitgestellt ist. Die Wellenleiterlücken 111a und 111b können durch
Ersetzen eines Teils des Kern: des Armwellenleiters 104a durch den
Mantel ohne Hinzufügen
eines Herstellungsvorgangs ausgebildet sein.
-
Ferner
sind Richtungskoppler 103 und 105 mit beiden Enden
der Armwellenleiter 104a und 104b verbunden. Die
Eingangsseite des Richtungskopplers 103 ist mit Eingangswellenleitern 102a und 102b verbunden,
und die Ausgangsseite der Richtungskoppler 105 ist mit
Ausgangswellenleitern 106a und 106b verbunden.
-
Ferner
ist ein Dünnschichtheizelement 107 parallel
zu dem Armwellenleiter 104a ausgebildet und mit Leitern 108a und 108b verbunden.
-
Das
durch den Armwellenleiter 104a wandernde Licht passiert
die Wellenleiterlücke 111a unter Einbeziehung
des Beugungsverlustes, breitet. sich durch den mit dem Temperaturkompensationsmaterial
gefüllten
Graben 110 aus, passiert die Wellenleiterlücke 111b,
und breitet sich erneut durch den Armwellenleiter 104a aus.
Folglich kann die Strahlpunktgröße der in
den Graben 110 eingeführten
Lichtwelle sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung sichtbar
vergrößert werden,
und die Strahlpunktgröße der von
dem Graben 110 ausgegebenen Lichtwelle kann sowohl in horizontaler
als auch in vertikaler Richtung reduziert werden. Somit kann der
bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den Armwellenleiter 104a einbezogene überschießende Verlust
unter Verringerung der elektrischen Energieaufnahme des thermooptischen
Schalters reduziert werden.
-
ELFTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
Die
Draufsicht der Konfiguration eines optischen Wellenleiters nach
einem elften Ausführungsbeispiel
ist dieselbe wie die von dem zehnten Ausführungsbeispiel nach 34.
-
35 zeigt eine vergrößerte Draufsicht von dem charakteristischen
Kompensationsbereich aus 31 gemäß dem elften
Ausführungsbeispiel.
-
Das
elfte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung von Temperaturkompensationsmaterialien 123a bis 123n,
die eine Vielzahl von Gräben 122a bis 122n als
erste Verlustkomponente füllen,
durch Bereitstellen von Wellenleiterlücken 124a und 124b vor
und nach den Gräben 122a bis 122n als
zweite Verlustkomponente, und durch Einbauen eines charakteristischen
Kompensationsbereiches in den thermooptischen Schalter, wo die Breite
eines durch die Gräben 122a bis 122n und
die Wellenleiterlücken 124a und 124b unterteilten
Armwellenleiters 121 erhöht ist.
-
Gemäß 35 beinhaltet der Armwellenleiter 121 einen
breiten Abschnitt 121c und schmale Abschnitte 121a und 121e.
Der breite Abschnitt 121c ist mit den schmalen Abschnitten 121a und 121e über verjüngte Abschnitte 121b und 121d nahtlos verbunden.
Zudem ist eine Vielzahl von Gräben 121a bis 121n mit
einer Breite W3 über
dem breiten Abschnitt 121c des Armwellenleiters 121 in
regelmäßigen Abständen dgroove8 durch Entfernen eines Teils des Mantels
und des Kerns von dem Armwellenleiter 121 ausgebildet.
-
Die
Gräben 122a bis 122n sind
mit Temperaturkompensationsmaterialien 123a bis 123n mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des
Armwellenleiters 121 gefüllt.
-
Der
breite Abschnitt 121c des Armwellenleiters 121 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 124a mit
einer Breite Wgap81, die vor dem Graben 122a in
einem Abstand dgap81 angeordnet ist, und
einer Wellenleiterlücke 124b mit
einer Breite Wgap82, die nach dem Graben 122n in
einem Abstand dgap82 angeordnet ist. Die Wellenleiterlücken 124a und 124b können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des Armwellenleiters 121 durch
den Mantel ausgebildet sein, ohne einen Herstellungsvorgang hinzuzufügen.
-
Die
Breiten Wgap81 und Wgap82 der
Wellenleiterlücken 124a und 124b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 124a und 124b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust in den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 123a bis 123n gefüllten Gräben 122a bis 122n wird.
Andererseits kann der Abstand dgap81 zwischen
dem Graben 122a und der Wellenleiterlücke 124a in einem
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 124a passierende
Lichtwelle den Graben 122a erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap82 zwischen dem
Graben 122n und der Wellenleiterlücke 124b in einem
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 122n passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 124b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
die Anzahl von Gräben
auf 12, die Breite W3 der Gräben 122a bis 122n auf
25 μm, den
Abstand dgroove8 zwischen den benachbarten
Gräben 122a bis 122n auf
20 μm, und die
durch die Gräben 122a bis 122n entfernte
Gesamtlänge
des Armwellenleiters 121 auf 300 μm einzustellen. Die Gräben 122a bis 122n können durch Fotolithographie
und reaktives Ionenätzen
ausgebildet sein.
-
Zudem
ist es möglich,
den Brechungsindexkontrast des Armwellenleiters 121 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
der schmalen Abschnitte 121a und 121e auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
des breiten Abschnitts 121c auf 9,0 μm × 4,5 μm, die Breite Wgap81 der Wellenleiterlücke 124a auf
20 μm, den
Abstand dgap81 zwischen dem Graben 122a und
der Wellenleiterlücke 124a auf
15 μm, die
Breite Wgap82 der Wellenleiterlücke 124b auf
20 μm, und
den Abstand dgap82 zwischen dem Graben 122n und der Wellenleiterlücke 124b auf
15 μm einzustellen.
Für die
Temperaturkompensationsmaterialien 123a bis 123n kann
Silikon verwendet werden.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des in 13 gezeigten optischen Wellenleiters 261 mit den
Gräben 262a bis 262n 3,1
dB beträgt,
liegt hierbei der gesamte überschießende Verlust
des in 35 gezeigten Armwellenleiters
mit dem breiten Abschnitt 121c zusätzlich zu den Gräben 122a bis 122n und
den Wellenleiterlücken 124a und 124b bei 2,1
dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 13 um
1,0 dB bedeutet.
-
ZWÖLFTES AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
36 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
einer erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem zwölften Ausführungsbeispiel. Das zwölfte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch ein Temperaturkompensationsmaterial, das
einen Graben 137 als erste Verlustkomponente füllt, sowie
einen charakteristischen Kompensationsbereich 136, der
vor und nach dem Graben 137 bereitgestellte Wellenleiterlücken 138a und 138b als
zweite Verlustkomponente aufweist, welche in einen Frequenzstabilisierten
Laser mit externem Resonator eingebaut sind.
-
Nach 36 ist ein optischer Wellenleiter 133 mit
einem aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetzten Mantel und Kern
auf einem Siliziumsubstrat 131 ausgebildet. Der optische
Wellenleiter 133 beinhaltet ein UV-geschriebenes Gitter 134.
-
Der
optische Wellenleiter 133 ist mit dem charakteristischen
Kompensationsbereich 136 zum Hemmen des Modenspringens
aufgrund von Temperaturveränderungen
ausgerüstet.
Der charakteristische Kompensationsbereich 136 beinhaltet
den Graben 137 über
dem optischen Wellenleiter 133. Der Graben 137 kann
durch Entfernen eines Teils des Mantels und des Kerns von dem optischen
Wellenleiter 133 ausgebildet sein.
-
Der
Graben 137 ist mit einem Temperaturkompensationsmaterial
mit einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem
Vorzeichen als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex
des optischen Wellenleiters 133 gefüllt.
-
Der
charakteristische Kompensationsbereich 136 beinhaltet eine
Wellenleiterlücke 138a mit einer
vorbestimmten Breite, die vor dem Graben 137 in einem spezifischen
Abstand bereitgestellt ist, sowie eine Wellenleiterlücke 138b mit
einer vorbestimmten Breite, die nach dem Graben 137 in
einem spezifischen Abstand bereitgestellt ist. Die Wellenleiterlücken 138a und 138b können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 133 durch
den Mantel ohne Hinzufügen
eines Herstellungsvorgangs ausgebildet sein.
-
Zudem
ist eine Siliziumterrasse 135 auf dem Siliziumsubstrat 131 durch
Entfernen der Mantelschicht ausgebildet. Die Siliziumterrasse 135 ist
mit einem Halbleiterlaser 132 ausgerüstet.
-
Das
sich durch den optischen Wellenleiter 133 ausbreitende
Licht passiert die Wellenleiterlücke 138a unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, breitet sich durch den mit dem
Temperaturkompensationsmaterial gefüllten Graben 137 aus,
passiert die Wellenleiterlücke 138b,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleiter 133 aus.
-
Folglich
kann die Strahlpunktgröße der in den
Graben 137 eingeführten
Lichtwelle sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung
sichtbar vergrößert werden,
und die vergrößerte Strahlpunktgröße der aus
dem Graben 137 ausgegebenen Lichtwelle kann sowohl in horizontaler
als auch in vertikaler Richtung sichtbar reduziert werden. Somit
kann der bei der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen
Wellenleiter 133 einbezogene überschießende Verlust unter Hemmung
des Modenspringens des Frequenz stabilisierten Lasers mit externem
Resonator aufgrund einer Temperaturänderung reduziert werden.
-
DREIZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
Die
Draufsicht der Konfiguration eines optischen Wellenleiters nach
einem dreizehnten Ausführungsbeispiel
ist dieselbe wie die gemäß dem zehnten
Ausführungsbeispiel
nach 36.
-
37 zeigt eine vergrößerte Draufsicht des charakteristischen
Kompensationsbereichs aus 36 gemäß dem dreizehnten
Ausführungsbeispiel.
-
Das
dreizehnte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung von Temperaturkompensationsmaterialien 143a bis 143n,
die eine Vielzahl von Gräben 142a bis 142n als
erste Verlustkomponente füllen,
durch die Bereitstellung von Wellenleiterlücken 144a und 144b vor
und nach den Gräben 142a bis 142n als
zweite Verlustkomponente, und durch Einbauen eines charakteristischen
Kompensationsbereichs in den Frequenz-stabilisierten Laser mit externem
Resonator, wobei die Breite eines durch die Gräben 142a bis 142n und
die Wellenleiterlücken 144a und 144b unterteilten
optischen Wellenleiters 141 erhöht ist.
-
Gemäß 37 beinhaltet der optische Wellenleiter 141 einen
breiten Abschnitt 141c und schmale Abschnitte 141a und 141e.
Der breite Abschnitt 141c ist mit den schmalen Abschnitten 141a und 141e über verjüngte Abschnitte 141b und 141d nahtlos
verbunden. Zudem ist die Vielzahl von Gräben 142a bis 142n mit
einer Breite W4 über
dem breiten Abschnitt 141c des optischen Wellenleiters 141 in regelmäßigen Abständen dgroove9 durch Entfernen eines Teils des Mantels
und des Kerns von dem optischen Wellenleiter 141 ausgebildet.
-
Die
Gräben 142a bis 142n sind
mit Temperaturkompensationsmaterialien 143a bis 143n mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex des
optischen Wellenleiters 141 gefüllt.
-
Der
breite Abschnitt 141c des optischen Wellenleiters 141 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 144a mit
einer Breite Wgap91, die vor dem Graben 142a in einem
Abstand dgap91 angeordnet ist, und eine
Wellenleiterlücke 144b mit
einer Breite Wgap92, die nach dem Graben 142n in
einem Abstand dgap92 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 144a und 144b können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 141 durch
den Mantel ohne Hinzufügen eines
Herstellungsvorgangs ausgebildet sein.
-
Die
Breiten Wgap91 Und Wgap92 der
Wellenleiterlücken 144a und 144b können derart
bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust in den Wellenleiterlücken 144a und 144b kleiner
als der gesamte Beugungsverlust in den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 143a bis 143n gefüllten Gräben 142a bis 142n wird.
Andererseits kann der Abstand dgap91 zwischen
dem Graben 142a und der Wellenleiterlücke 144a in einem
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 144a passierende
Lichtwelle den Graben 142a erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
In ähnlicher
Weise kann der Abstand dgap92 zwischen dem
Graben 142n und der Wellenleiterlücke 144b in einem
derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch den Graben 142n passierende Lichtwelle
die Wellenleiterlücke 144b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
die Anzahl der Gräben
auf 12, die Breite W4 der Gräben 142a bis 142n auf
25 μm, den
Abstand dgroove9 zwischen den benachbarten
Gräben 142a bis 142n auf
20 μm, und die
durch die Gräben 142a bis 142n entfernte
Gesamtlänge
des optischen Wellenleiters 141 auf 300 μm einzustellen.
Die Gräben 142a bis 142n können durch
Fotolithographie und reaktives Ionenätzen ausgebildet sein.
-
Ferner
ist es möglich,
den Brechungsindexkontrast des optischen Wellenleiters 141 auf
1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
der schmalen Abschnitte 141a und 141e auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
des breiten Abschnitts 141c auf 9,0 μm × 4,5 μm, die Breite Wgap91 der
Wellenleiterlücke 144a auf
20 μm, den
Abstand dgap91 zwischen dem Graben 142a und
der Wellenleiterlücke 144a auf
15 μm, die Breite
Wgap92 der Wellenleiterlücke 144b auf 20 μm und den
Abstand dgap92 zwischen dem Graben 142n und
der Wellenleiterlücke 144b auf
15 μm einzustellen.
Für die
Temperaturkompensationsmaterialien 143a bis 143n kann
Silikon verwendet werden.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des in 13 gezeigten optischen Wellenleiters 261 mit den
Gräben 262a bis 262n 3,5
dB beträgt,
liegt der gesamte überschießende Verlust
des in 37 gezeigten optischen Wellenleiters 141 mit
dem breiten Abschnitt 141c zusätzlich zu den Gräben 142a bis 142n und
den Wellenleiterlücken 144a und 144b bei 2,1
dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 13 um
1,0 dB bedeutet.
-
VIERZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
38 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration einer
erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiterschaltung nach einem vierzehnten Ausführungsbeispiel.
Das vierzehnte Ausführungsbeispiel
ist dadurch gekennzeichnet, dass Scheinwellenleiter einen optischen
Wellenleiter vor und nach der Kreuzung von optischen Wellenleitern überschneiden.
-
Gemäß 38 sind optische Wellenleiter 151 und 152 mit
aus Quarz-basiertem Glas zusammengesetztem Mantel und Kern derart
angeordnet, dass sie einander überschneiden.
Der Überschneidungswinkel
a zwischen den optischen Wellenleitern 151 und 152 kann
in Abhängigkeit
von dem Entwurf der gesamten ebenen Lichtwellenschaltung bestimmt
sein. Zudem sind die Scheinwellenleiter 153 und 154 vor
und nach der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 derart
angeordnet, dass sie den optischen Wellenleiter 151 kreuzen.
-
Die
Breite der Scheinwellenleiter 153 und 154 kann
derart bestimmt sein, dass der Gesamtbeugungsverlust an den Überschneidungen
der Scheinwellenleiter 153 und 154 mit dem optischen
Wellenleiter 151 kleiner als der Beugungsverlust an der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 wird. Zudem
kann der Abstand d1 zwischen der Kreuzung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 und der
Kreuzung des optischen Wellenleiters 151 und dem Scheinwellenleiter 153 in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Überschneidung
des optischen Wellenleiters 151 mit dem Scheinwellenleiter 153 passierende
Lichtwelle die Kreuzung der optischen Wellenleiter 151 und 152 erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt. In ähnlicher
Weise kann der Abstand d2 zwischen der Kreuzung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 und der
Kreuzung der optischen Wellenleiter 151 mit dem Scheinwellenleiter 154 in
einem derartigen Abstand bestimmt sein, dass die durch die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 passierende
Lichtwelle die Überschneidung
des optischen Wellenleiters 151 mit dem Scheinwellenleiter 154 erreichen kann,
bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
den Überschneidungswinkel
a zwischen den optischen Wellenleitern 151 und 152 auf
15°, den
Brechungsindexkontrast der optischen Wellenleiter 151 und 152 und der
Scheinwellenleiter 153 und 154 auf 1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
der optischen Wellenleiter 151 und 152 auf 4,5 μm × 4,5 μm, die Kernbreite × Kerndicke
der Scheinwellenleiter 153 und 154 auf 1,5 μm × 4,5 μm, den Abstand
d1 zwischen der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 und der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und des Scheinwellenleiters 153 auf
25 μm, und den
Abstand d2 zwischen der Überschneidung der optischen
Wellenleiter 151 und 152 und der Überschneidung
des optischen Wellenleiters 151 und des Scheinwellenleiters 154 auf
25 μm einzustellen.
-
Das
durch den optischen Wellenleiter 151 wandernde Licht passiert
die Kreuzung des optischen Wellenleiters 151 mit dem Scheinwellenleiter 153 unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, passiert die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152, passiert
die Überschneidung
des optischen Wellenleiters 151 mit dem Scheinwellenleiter 154,
und breitet sich erneut durch den optischen Wellenleiter 151 aus.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 eingeführten Lichtwelle
durch Bereitstellen des Scheinwellenleiters 153 vor der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 sichtbar
vergrößert werden,
und die vergrößerte Strahlpunktgröße der aus
der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 ausgegebenen
Lichtwelle kann durch Bereitstellen des Scheinwellenleiters 153 nach der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 151 und 152 sichtbar
reduziert werden. Folglich kann der bei der Ausbreitung der Lichtwelle
durch den optischen Wellenleiter 151 mit den Überschneidungen einbezogene überschießende Verlust
weiter reduziert werden.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
an der Kreuzung der optischen Wellenleiter 201 und 202 nach 19 0,034 dB beträgt, liegt beispielsweise der
gesamte überschießende Verlust
an den Überschneidungen
des optischen Wellenleiters 151 inklusive der Überschneidungen
mit den Scheinwellenleitern 153 und 154 gemäß 38 bei 0,032 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zu der Konfiguration nach 19 um
0,011 dB bedeutet.
-
FÜNFZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
39 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
eines optischen Wellenleiters nach einem fünfzehnten Ausführungsbeispiel,
und 40 zeigt eine vergrößerte Draufsicht
der Nachbarschaft eines Scheibenwellenleiters 413a aus 39. Das fünfzehnte
Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch Temperaturkompensationsmaterialien 419a bis 419n,
die eine Vielzahl von Gräben 418a bis 418n als
erster Verlustkomponente füllen, und
einen charakteristischen Kompensationsbereich, der Wellenleiterlücken 420a und 420b vor
und nach den Gräben 418a bis 418n als
zweite Verlustkomponente beinhaltet, die in ein angeordnetes Wellenleitergitter
eingebaut sind.
-
Gemäß 39 sind angeordnete Wellenleiter 413,
Scheibenwellenleiter 413a und 413b und Eingangs-
und Ausgangswellenleiter 414a und 414b, jeweils
mit Mäntel
und Kernen aus Quarzglas, auf einem Siliziumsubstrat 411 ausgebildet.
Bei den angeordneten Wellenleitern 412 ist jeder Wellenleiter
nach Außen
um ein festes Ausmaß ΔL verlängert.
-
Der
Eingangswellenleiter 414a ist mit einer optischen Faser 416a über einen
optischen Faserverbinder 415a verbunden, und die optische
Faser 416a ist mit einem optischen Faserverbindungsanschluss 417a verbunden.
Andererseits sind die Ausgangswellenleiter 414b mit optischen
Fasern 416b über
einen optischen Faserverbinder 415b verbunden, und die
optischen Fasern 416b sind mit optischen Faserverbindungsanschlüssen 417b verbunden.
Die Hauptbestandteile sind in einem Schaltungsgehäuse 422 aufgenommen.
-
Der
Scheibenwellenleiter 413a beinhaltet einen charakteristischen
Kompensationsbereich 421 zum Athermisieren der Übertragungswellenlänge. Der
charakteristische Kompensationsbereich 421 beinhaltet eine
Vielzahl von Gräben 418a bis 418n über dem
Scheibenwellenleiter 413a, die mit dazwischen angeordneten
spezifischen Abständen
ausgebildet sind. Die Gräben 418a bis 418n können durch
Entfernen eines Teils des Mantels und des Kerns von dem Scheibenwellenleiter 413a ausgebildet
sein.
-
Die
Breiten der Gräben 418a bis 418n über den
Scheibenwellenleiter 413a sind wie folgt spezifiziert.
Für eine
den Eingangswellenleiter 414a mit einem (i + 1)-ten Wellenleiter
der angeordneten Wellenleiter 412 sei angenommen, dass
er jeden der Gräben 418a bis 418n mit
einer Breite L'/n überquert, wie
es in 40 dargestellt ist. Dabei sind
die Breiten der Gräben
bezüglich
der den Eingangswellenleiter 414a mit dem i-ten Wellenleiter
der angeordneten Wellenleiter 412 verbindenden Linie derart
bestimmt, dass die Länge
des jeden der Gräben 418a bis 418n durchquerenden
Liniensegmentes (L'/n
+ ΔL'/n) wird, wobei ΔL' ein Wert proportional
zu dem festen Ausmaß ΔL ist.
-
Die
Gräben 418a bis 418n sind
mit Temperaturkompensationsmaterialien 419a bis 419n mit
einem Temperaturkoeffizienten des Brechungsindex mit anderem Vorzeichen
als der Temperaturkoeffizient des effektiven Brechungsindex der
angeordneten Wellenleiter 412 gefüllt.
-
Zudem
sind in dem optischen Scheibenwellenleiter 413a Wellenleiterlücken 420a und 420b mit einer
Breite Wgap vor dem Graben 418a beziehungsweise
nach dem Graben 418n unter Einbeziehung eines Abstands
dgap ausgebildet, wobei die Breite Wgap und der Abstand dgap auf
der Linie definiert sind, die den Eingangswellenleiter 414a mit
dem i-ten Wellenleiter ab dem äußersten
der angeordneten Wellenleiter 412 verbindet, wenn die Linie
diese Gräben
und Wellenleiterlücken
gemäß der Darstellung
nach 40 durchquert. Die Wellenleiterlücken 420a und 420b können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Scheibenwellenleiters 413a mit
dem Mantel ausgebildet sein, ohne einen zusätzlichen Herstellungsvorgang
hinzuzufügen.
-
Die
Breite Wgap der Wellenleiterlücken 420a und 420b kann
derart bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in der Wellenleiterlücke 420a oder 420b kleiner
als der Gesamtbeugungsverlust in den mit den Temperaturkompensationsmaterialien 419a bis 419n gefüllten Gräben 418a bis 418n wird.
Zudem kann der Abstand dgap zwischen der
Wellenleiterlücke 420a und
dem Graben 418a und zwischen der Wellenleiterlücke 420b und
dem Graben 418n in einem derartigen Abstand bestimmt sein,
dass die durch die Wellenleiterlücke 420a passierende
Lichtwelle den Graben 418a erreicht, bevor das Lecken der
Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt,
und dass die durch den Graben 418n passierende Lichtwelle die
Wellenleiterlücke 420b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Die
Strahlpunktgröße der in
die Gräben 418a bis 418n eingeführten Lichtwelle
kann im vertikalen Bereich durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 420a vor
den Gräben 418a bis 418n sichtbar
vergrößert werden.
In ähnlicher
Weise kann die Strahlpunktgröße der von
den Gräben 418a bis 418n ausgegebenen
Lichtwelle in vertikaler Richtung durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 420b nach
den Gräben 418a bis 418n sichtbar
reduziert werden. Somit kann der bei der Ausbreitung der Lichtwelle
durch den optischen Scheibenwellenleiter 413a mit den Verlustkomponenten
einbezogene überschießende Verlust
reduziert werden.
-
Es
ist beispielsweise möglich,
die Anzahl Nawg der angeordneten Wellenleiter 412 auf 130,
die Längendifferenz ΔL zwischen
den benachbarten angeordneten Wellenleitern 412 auf 60 μm, den Brechungsindexkontrast
der angeordneten Wellenleiter 412 auf 1,5%, die Kernbreite × Kerndicke
auf 4,5 μm × 4,5 μm, den Brechungsindexkontrast
des optischen Scheibenwellenleiters 403a auf 1,5%, und
seine Kerndicke auf 4,5 μm
einzustellen. Der Entwurf kann das angeordnete Wellenleitergitter
implementieren, dessen Wellenlängenkanalabstand
0,8 nm ist, und dessen Anzahl an Kanälen bei 16 liegt.
Bei dem optischen Scheibenwellenleiter 403a ist hierbei
die Längendifferenz ΔL' 1,25 μm, die durch
die Gräben 418a bis 418n auf
den den Eingangswellenleiter 414a mit den benachbarten
angeordneten Wellenleitern 412 verbindenden Linien entfernt
ist.
-
Die
Anzahl der Gräben
liegt bei acht. Hierbei ist die durch jeden der Gräben 418a bis 418n auf
den Linien, die den Eingangswellenleiter 414a mit den benachbarten
angeordneten Wellenleitern 412 verbinden, entfernte Längendifferenz ΔL'/n bei dem optischen
Scheibenwellenleiter 403a 1,25/8 = 0,16 μm.
-
Zudem
ist die Breite Wgap der Wellenleiterlücken 420a und 420b auf
der den Eingangswellenleiter 414a mit dem i-ten Wellenleiter
ab dem äußersten der
angeordneten Wellenleiter 412 auf 0,15 × ΔL' × (Nawq + 1 – i) μm spezifiziert.
Andererseits ist der Abstand dgap zwischen
dem Graben 418a und der Lücke 420a oder zwischen
dem Graben 418n und der Lücke 420b auf der Linie
auf 20 μm
spezifiziert. Für
die Temperaturkompensationsmaterialien 419a bis 419n kann
Silikon verwendet werden.
-
Obwohl
der überschießende Verlust
des optischen Scheibenwellenleiters 303a mit dem Graben 305 nach
den
-
20 und 21 1,6
dB beträgt,
wenn der Graben 305 durch acht geteilt ist, liegt der gesamte überschießende Verlust
des in den 39 und 40 gezeigten
optischen Scheibenwellenleiters 413a mit den Gräben 418a bis 418n und
den Wellenleiterlücken 420a und 420b bei
1,1 dB, was eine Reduktion des überschießenden Verlustes
im Vergleich zur bekannten Konfiguration um 0,5 dB bedeutet.
-
SECHZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
41A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem sechzehnten Ausführungsbeispiel; und 41B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XLIB-XLIB aus 41A. Das sechzehnte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines in einen Graben 504 eingefügten Wellenlängenpassfilters 507,
und ein den Graben 504 füllendes Haftmittel 505 zum
Fixieren des Wellenlängenpassfilters 507 als
der ersten Verlustkomponente, durch die Bereitstellung von Wellenleiterlücken 506a und 506b vor
und nach dem Graben 504 als zweite Verlustkomponente, und
durch Erhöhen der
Breite des durch den Graben 504 und die Wellenleiterlücken 506a und 506b geteilten
optischen Wellenleiters 503, wodurch der optische Wellenleiter
mit einer Filterfunktion zum Übertragen
einer spezifischen Wellenlänge
versehen ist.
-
Gemäß den 41A und 41B ist
eine aus Quarzglas zusammengesetzte Mantelschicht 502 auf
einem Siliziumsubstrat 501 ausgebildet. In der Mantelschicht 502 ist
ein optischer Wellenleiter 503 mit einem aus Quarzglas
zusammengesetzten Kern ausgebildet. Der optische Wellenleiter 503 beinhaltet
einen breiten Abschnitt 503c und schmale Abschnitte 503a und 503e.
Der breite Abschnitt 503c ist mit den schmalen Abschnitten 503a und 503b über verjüngte Abschnitte 503b und 503d nahtlos
verbunden.
-
Ferner
ist der Graben 504 mit einer Breite Wgroove über dem
breiten Abschnitt 503c des optischen Wellenleiters 503 durch
Entfernen eines Teils der Mantelschicht 502 und des Kerns
des optischen Wellenleiters 503 durch eine Ätz- oder Rohchipschneideverarbeitung
ausgebildet.
-
Der
Graben 504 umfasst den in ihn eingefügten Wellenlängenpassfilter 507 und
ist mit dem Haftmittel 505 zum Fixieren des Wellenlängenpassfilters 507 gefüllt. Das
Wellenlängenpassfilter 507 ist
ein Filter zum ausschließlichen Übertragen
von Licht mit einer spezifischen Wellenlänge und besteht aus einem dielektrischen
Vielschichtfilter.
-
Der
breite Abschnitt 503c des optischen Wellenleiters 503 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 506a mit
einer Breite Wgap101, die vor dem Graben 504 in
einem Abstand dgap101 angeordnet ist, und
eine Wellenleiterlücke 506b mit
einer Breite Wgap102 die nach dem Graben 504 mit
dem Abstand dgap102 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 506a und 506b können durch Ersetzen
eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 503 mit
der Mantelschicht 502 ausgebildet werden, ohne einen zusätzlichen
Herstellungsvorgang hinzuzufügen.
-
Die
Breiten Wgap101 und Wgap102 der
Wellenleiterlücken 506a und 506b können derart
bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in der Wellenleiterlücke 506a oder 506b kleiner
als der Beugungsverlust in dem Graben 504 wird, der das
Wellenlängenpassfilter 507 beinhaltet,
und mit dem Haftmittel 505 gefüllt ist. Andererseits können die Abstände dgap101 und dgap102 zwischen
der Wellenleiterlücke 506a und
dem Graben 504 und zwischen der Wellenleiterlücke 506b und
dem Graben 504 in derartigen Abständen bestimmt sein, dass die
durch die Wellenleiterlücke 506a passierende
Lichtwelle den Graben 504 erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt,
und die durch den Graben 504 passierende Lichtwelle die
Wellenleiterlücke 506b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Dabei
passiert das sich durch den optischen Wellenleiter 503 ausbreitende
Licht die Wellenleiterlücke 506a unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, nachdem seine Strahlpunktgröße in horizontaler Richtung
vergrößert ist,
wenn es von dem schmalen Abschnitt 503a in den breiten
Abschnitt 503c eingegeben wird. Dann schreitet das Licht
durch den Graben 504 und die Wellenleiterlücke 506b unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes fort, wandert durch den optischen
Wellenleiter 503 unter Reduktion seiner Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung, wenn es von dem breiten Abschnitt 503c in den
schmalen Abschnitt 503e eingegeben wird.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
den Graben 504 eingeführten
Lichtwelle durch Bereitstellen der Wellenleiterlücke 506a vor dem Graben 504 (insbesondere
in vertikaler Richtung) sichtbar vergrößert werden. In ähnlicher
Weise kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
dem Graben 504 ausgegebenen Lichtwelle durch Bereitstellen
der Wellenleiterlücke 506b nach
dem Graben 504 (insbesondere in vertikaler Richtung) sichtbar
reduziert werden. Somit wird der überschießende Verlust weiter reduziert,
der während
der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 503 mit
der Verlustkomponente stattfindet, das heißt im Graben 504,
in den das Wellenlängenpassfilter 507 eingefügt ist.
-
SIEBZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
42 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem siebzehnten Ausführungsbeispiel; und 43 zeigt eine vergrößerte Draufsicht der Nachbarschaft
der angeordneten Wellenleiter aus 42.
Das siebzehnte Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines in Gräben 560 eingebetteten
Halbwellenlängenplättchens 563 und
ein den Graben zum Fixieren des Halbwellenlängenplättchens 563 füllenden
Haftmittels 561 als der ersten Verlustkomponente, sowie durch
die Bereitstellung eines charakteristischen Kompensationsbereichs
mit Wellenleiterlücken 562a und 562b vor
und nach den Gräben 560 als
der zweiten Verlustkomponente, die in das angeordnete Wellenleitergitter
eingefügt
sind. Das Halbwellenlängenplättchen 563 dreht
die Polarisation der durch die Wellenleiter passierenden Lichtwelle,
und der eingebaute charakteristische Kompensationsbereich kann die
Polarisationsabhängigkeit
der Übertragungseigenschaften
des angeordneten Wellenleitergitters kompensieren.
-
Gemäß 42 sind angeordnete Wellenleiter 552,
Scheibenwellenleiter 553a und 553b und Eingangs-
und Ausgangswellenleiter 554a und 554b, die alle
Mäntel
und Kerne aus Quarzglas aufweisen, auf einem Siliziumsubstrat 551 ausgebildet.
Bei den angeordneten Wellenleitern 552 ist jeder Wellenleiter nach
außen
um ein festes Ausmaß ΔL verlängert.
-
Der
Eingangswellenleiter 554a ist mit einer optischen Faser 556a über einen
optischen Faserverbinder 555a verbunden, und die optische
Faser 556a ist mit einem optischen Faserverbindungsanschluss 557a verbunden.
Andererseits sind die Ausgangswellenleiter 554b mit optischen
Fasern 556b über
einen optischen Faserverbinder 555b verbunden, und die
optischen Fasern 556b sind mit optischen Faserverbindungsanschlüssen 557b verbunden.
Diese Bestandteile sind in einem Schaltungsgehäuse 559 aufgenommen.
-
Die
angeordneten Wellenleiter 552 beinhalten einen charakteristischen
Kompensationsbereich 558, um sie polarisationsunabhängig auszubilden. Bei
dem charakteristischen Kompensationsbereich 558 weisen
die angeordneten Wellenleiter 552 einen breiten Abschnitt 552c und
schmale Abschnitte 552a und 552e auf, und der
breite Abschnitt 552c ist mit den schmalen Abschnitten 552a und 552e über die verjüngten Abschnitte 552b und 552d nahtlos
verbunden. Zudem ist eine Vielzahl an Gräben 560 über die
angeordneten Wellenleiter 552 durch Entfernen eines Teils
der Mäntel
und Kerne von den angeordneten Wellenleitern 552 durch
eine Rohchipsägeverarbeitung
ausgebildet, wie es in 43 gezeigt
ist.
-
Diese
Gräben 560 beinhalten
ein in sie eingefügtes
Halbwellenlängenplättchen 563 und
sind mit einem Haftmittel 561 zum Fixieren des Halbwellenlängenplättchens 563 gefüllt. Das
Halbwellenlängenplättchen 563 ist
aus einem polymerischen Material zusammengesetzt.
-
Der
breite Abschnitt 552c der angeordneten Wellenleiter 552 beinhaltet
eine Wellenleiterlücke 562a mit
einer Breite Wgap111, die vor den Gräben 560 in
einem Abstand dgap111 angeordnet ist, sowie
eine Wellenleiterlücke 562b mit
einer Breite Wgap112 die nach den Gräben 560 mit
dem Abstand dgap112 angeordnet ist. Die
Wellenleiterlücken 562a und 562b können durch
Ersetzen eines Teils der Kerne der angeordneten Wellenleiter 552 mit
der Mantelschicht ohne Hinzufügen
eines zusätzlichen
Herstellungsvorgangs ausgebildet sein.
-
Die
Breiten Wgap111 und Wgap112 der
Wellenleiterlücken 562a und 562b können derart
bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in der Wellenleiterlücke 562a oder 562b kleiner
als der Beugungsverlust in den Gräben 560 wird, das
Halbwellenlängenplättchen 563 beinhalten
und mit dem Haftmittel 561 gefüllt sind. Andererseits können die
Abstände
dgap111 und dgap112 zwischen
der Wellenleiterlücke 562a und den
Gräben 560 in
derartigen Abständen
bestimmt sein, dass die durch die Wellenleiterlücke 562a passierende
Lichtwelle die Gräben 560 erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt, und
die durch die Gräben 560 passierende
Lichtwelle die Wellenleiterlücke 562b erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Dabei
passiert das sich durch die angeordneten Wellenleiter 552 ausbreitende
Licht die Wellenleiterlücke 562a unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, nachdem seine Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung vergrößert ist,
wenn es von dem schmalen Abschnitt 552a in den breiten
Abschnitt 552c eingeführt
wird. Dann schreitet das Licht durch die Gräben 560 und die Wellenleiterlücke 562b unter Einbeziehung
des Beugungsverlustes fort, und wandert durch die angeordneten Wellenleiter 552 unter Reduktion
seiner Strahlpunktgröße in horizontaler Richtung,
wenn es von dem breiten Abschnitt 552c in den schmalen
Abschnitt 552e eingeführt
wird.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
die Gräben 560 eingeführten Lichtwelle
weiter sichtbar vergrößert werden,
insbesondere in vertikaler Richtung, indem die Wellenleiterlücke 562a vor
den Gräben 560 bereitgestellt
wird. In ähnlicher
Weise kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der aus
den Gräben 560 ausgegebenen
Lichtwelle sichtbar reduziert werden, insbesondere in vertikaler
Richtung, indem die Wellenleiterlücke 562b nach den
Gräben 560 bereitgestellt
wird. Somit wird der überschießende Verlust
weiter reduziert, der während
der Ausbreitung der Lichtwelle durch die angeordneten Wellenleiter 552 mit
der Verlustkomponente stattfindet, das heißt die Gräben 560, in die das
Halbwellenlängenplättchen 563 eingefügt ist.
-
ACHTZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
-
44 zeigt eine Draufsicht einer schematischen Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem achtzehnten Ausführungsbeispiel; 45A zeigt eine vergrößerte Draufsicht eines Bereichs 603 oder 604 aus 44; und 45B zeigt
eine Schnittansicht entlang der Linie XLVB-XLVB aus 45A. Das achtzehnte Ausführungsbeispiel ist gekennzeichnet
durch die Verwendung der Überschneidung
eines optischen Wellenleiters 601 mit einem optischen Wellenleiter 602 als
der ersten Verlustkomponente, und durch Bereitstellen eines streifenartigen
Kernabschnitts 605 vor und nach der Überschneidung als der zweiten
Verlustkomponente.
-
Gemäß der 44 und den 45A und 45B ist eine aus Quarzglas zusammengesetzte Mantelschicht 607 auf
einem Siliziumsubstrat 606 ausgebildet. In der Mantelschicht 607 sind
optische Wellenleiter mit Quarzglaskernen ausgebildet. Die optischen
Wellenleiter 601 und 602 sind derart angeordnet,
dass sie einander überschneiden,
und der Überschneidungswinkel
a zwischen ihnen ist in Abhängigkeit
von dem gesamten Entwurf der ebenen Lichtwellenschaltung spezifiziert.
-
Der
optische Wellenleiter 601 beinhaltet einen streifenartigen
Kernabschnitt 605, der in dem Bereich 603 vor
der Überschneidung
mit dem optischen Wellenleiter 602 unter Anordnung eines
Abstands d1 dazwischen platziert ist, sowie einen ähnlichen
streifenartigen Kernabschnitt 605, der in dem Bereich 604 nach
der Überschneidung
mit dem optischen Wellenleiter 602 unter Anordnung eines
Abstands d2 dazwischen platziert ist. Diese streifenartigen Kernabschnitte 605 können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 601 mit
der Mantelschicht 607 ohne Hinzufügen eines zusätzlichen Herstellungsvorgangs
ausgebildet sein.
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Wenn
das durch den optischen Wellenleiter 607 sich ausbreitende
Licht den streifenartigen Kernabschnitt 605 passiert, tritt
der Beugungsverlust auf. Der Grund hierfür ist, dass die Lichteingrenzung
auf den Wellenleiter in dem streifenartigen Kernabschnitt 605 geschwächt ist.
Zudem kann der Beugungsverlust in dem streifenartigen Kernabschnitt 605 kleiner als
der Beugungsverlust an der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 durch Einstellen der
Anzahl und der Breite der Kerne in dem streifenartigen Kernabschnitt 605 ausgebildet
sein. Zudem können
die Abstände
d1 und d2 zwischen den streifenartigen Kernabschnitten 605 und
der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 in derartigen
Abständen
bestimmt sein, dass die durch den streifenartigen Kernabschnitt 605 passierende
Lichtwelle die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt, und die
durch die Überschneidung
passierende Lichtwelle den streifenartigen Kernabschnitt 605 erreichen kann,
bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
-
Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 eingeführten Lichtwelle
sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung durch Bereitstellen des
streifenartigen Kernabschnitts 605 vor der Überschneidung
sichtbar vergrößert sein.
In ähnlicher Weise
kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 ausgegebenen
Lichtwelle sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung
durch Bereitstellen des streifenartigen Kernabschnitts 605 nach der Überschneidung
sichtbar reduziert sein. Folglich wird der bei der Ausbreitung der
Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 601 mit der
Verlustkomponente, nämlich
der Überschneidung
mit dem optischen Wellenleiter 602, einbezogene überschießende Verlust
reduziert.
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NEUNZEHNTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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Die
Draufsicht der schematischen Konfiguration eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem neunzehnten Ausführungsbeispiel ist dieselbe,
wie gemäß dem achtzehnten
Ausführungsbeispiel
nach 44.
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46A zeigt eine vergrößerte Draufsicht des Bereichs 603 oder 604 aus 44 nach dem neunzehnten Ausführungsbeispiel; und 46B zeigt eine Schnittansicht entlang der Linie
A16-A16 aus 46A. Das neunzehnte Ausführungsbeispiel ist
gekennzeichnet durch die Verwendung der Überschneidung des optischen
Wellenleiters 601 mit dem optischen Wellenleiter 602 als
der ersten Verlustkomponente, und durch Bereitstellung von verteilten Kernabschnitten 608 vor
und nach der Überschneidung
als der zweiten Verlustkomponente.
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Gemäß 44 und den 46A und 46B ist eine aus Quarzglas zusammengesetzte Mantelschicht 610 auf
einem Siliziumsubstrat 609 ausgebildet. In der Mantelschicht 610 sind
optische Wellenleiter mit Quarzglaskernen ausgebildet. Die optischen
Wellenleiter 601 und 602 sind derart platziert,
dass sie einander überschneiden,
und der Überschneidungswinkel
a zwischen ihnen ist in Abhängigkeit
von dem Gesamtentwurf der ebenen Lichtwellenschaltung spezifiziert.
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Der
optische Wellenleiter 601 beinhaltet einen verteilten Kernabschnitt 608,
der im Bereich 603 vor der Überschneidung mit dem optischen
Wellenleiter 602 unter Anordnung eines Abstands d1 dazwischen platziert ist, und einen ähnlichen
verteilten Kernabschnitt 608, der in dem Bereich 604 nach
der Überschneidung
mit dem optischen Wellenleiter 602 unter Anordnung eines
Abstands d2 dazwischen platziert ist. Diese
verteilten Kernabschnitte 608 können durch Ersetzen eines Teils
des Kerns des optischen Wellenleiters 601 mit der Mantelschicht 610 ohne Hinzufügen eines
zusätzlichen
Herstellungsvorgangs ausgebildet sein.
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Wenn
das sich durch den optischen Wellenleiter 601 ausbreitende
Licht den verteilten Kernabschnitt 608 passiert, tritt
der Beugungsverlust auf. Der Grund hierfür ist, weil die Lichteinschränkung auf den
Wellenleiter an dem verteilten Kernabschnitt 608 geschwächt ist.
Zudem kann der Beugungsverlust in dem verteilten Kernabschnitt 608 kleiner
als der Beugungsverlust an der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 durch Einstellen
der Größe, Dichte
oder Länge
der Verteilung der verteilten Kerne in dem verteilten Kernabschnitt 608 kleiner
ausgebildet werden. Ferner können
die Abstände
d1 und d2 zwischen
den verteilten Kernabschnitten 608 und der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 in derartigen
Abständen
bestimmt sein, dass die durch den verteilten Kernabschnitt 608 passierende Lichtwelle
die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt, und
die durch die Überschneidung
passierende Lichtwelle den verteilten Kernabschnitt 608 erreichen kann,
bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
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Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
die Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 eingeführten Lichtwelle
sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung durch Bereitstellen des
verteilten Kernabschnitts 608 vor der Überschneidung sichtbar vergrößert werden.
In ähnlicher Weise
kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
der Überschneidung
der optischen Wellenleiter 601 und 602 ausgegebenen
Lichtwelle sowohl in horizontaler als auch in vertikaler Richtung
durch Bereitstellen des verteilten Kernabschnitts 608 nach
der Überschneidung
sichtbar reduziert werden. Folglich wird der bei der Ausbreitung
der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 601 mit
der Verlustkomponente, nämlich
der Überschneidung
mit dem optischen Wellenleiter 602 einbezogene überschießende Verlust
reduziert.
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ZWANZIGSTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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47A zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration
eines erfindungsgemäßen optischen
Wellenleiters nach einem zwanzigsten Ausführungsbeispiel; und 47B zeigt eine Schnittansicht entlang einer Linie
XLVIIB-XLVIIB aus 47A. Das zwanzigste Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines Temperaturkompensationsmaterials 705,
der einen Graben 704 als der ersten Verlustkomponente füllt, durch
Bereitstellen von mit demselben Temperaturkompensationsmaterial
gefüllten
Gräben 706a und 706b vor
und nach dem Graben 704 als der zweiten Verlustkomponente,
und durch Erhöhen
der Breite des durch den Graben 704 und den Gräben 706a und 706b unterteilten
optischen Wellenleiters 703.
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Gemäß den 47A und 47B ist
eine aus Quarzglas zusammengesetzte Mantelschicht 702 auf
einem Siliziumsubstrat 701 ausgebildet. In der Mantelschicht 702 ist
ein optischer Wellenleiter 703 mit einem aus Quarzglas
zusammengesetzten Kern ausgebildet. Der optische Wellenleiter 703 beinhaltet
einen breiten Abschnitt 703c und schmale Abschnitte 703a und 703e.
Der breite Abschnitt 703c ist mit den schmalen Abschnitten 703a und 703e über verjüngte Abschnitte 703b und 703e nahtlos
verbunden.
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Zudem
ist der Graben 704 mit der Breite Wgroove über den
breiten Abschnitt 703c des optischen Wellenleiters 703 durch
Entfernen eines Teils der Mantelschicht 702 und des Kerns
des optischen Wellenleiters 703 durch Ätzen ausgebildet.
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Der
Graben 704 ist mit einem aus Silikon zusammengesetzten
Temperaturkompensationsmaterial 705 gefüllt.
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Der
breite Abschnitt 703c des optischen Wellenleiters 703 beinhaltet
den Graben 706a mit der Breite W1,
der mit einem Temperaturkompensationsmaterial gefüllt und
von dem Graben 704 in einem Abstand d1 platziert
ist, und den Graben 706b mit der Breite W2,
der mit dem Temperaturkompensationsmaterial gefüllt und nach dem Graben 704 mit
dem Abstand d2 platziert ist. Die Gräben 706a und 706b können durch
Ersetzen eines Teils des Kerns des optischen Wellenleiters 703 mit
der Mantelschicht 702 durch Ätzen oder einer Rohchipsägeverarbeitung ausgebildet
sein.
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Die
Breiten W1 und W2 der
Gräben 706a und 706b können derart
bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in dem Graben 706a oder 706b kleiner als
der Beugungsverlust in dem mit dem Temperaturkompensationsmaterial 705 gefüllten Graben 704 wird.
Andererseits können
die Abstände
d1 und d2 zwischen
dem Graben 706a und dem Graben 704 und zwischen
dem Graben 706b und dem Graben 704 in derartigen
Abständen
bestimmt sein, dass die durch den Graben 706a passierende
Lichtwelle den Graben 704 erreichen kann, bevor das Lecken
der Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt,
und die durch den Graben 704 passierende Lichtwelle den
Graben 706b erreichen kann, bevor das Lecken der Lichtwelle
vollständig
in Abstrahlung umschlägt.
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Dabei
passiert das sich durch den optischen Wellenleiter 703 ausbreitende
Licht den Graben 706a unter Einbeziehung des Beugungsverlustes,
nachdem seine Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung vergrößert wurde,
wenn es von dem schmalen Abschnitt 703a in den breiten
Abschnitt 703c eingeführt wird.
Dann schreitet das Licht durch den Graben 704 und den Graben 706b unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes fort, und wandert durch den optischen
Wellenleiter 703, wobei seine Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung schrumpft, wenn es von dem breiten Abschnitt 703c in
den schmalen Abschnitt 703e eingeführt wird.
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Somit
kann die Strahlpunktgröße der in
den Graben 704 eingeführten
Lichtwelle weiter sichtbar vergrößert werden,
insbesondere in vertikaler Richtung, indem der Graben 706a vor
dem Graben 704 bereitgestellt wird. In ähnlicher Weise kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
dem Graben 704 ausgegebenen Lichtwelle sichtbar reduziert
werden, insbesondere in vertikaler Richtung, indem der Graben 706b nach
dem Graben 704 bereitgestellt wird. Folglich wird der während der
Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 703 mit
der Verlustkomponente, das heißt
dem Graben 704, stattfindende überschießende Verlust reduziert.
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EINUNDZWANZIGSTES
AUSFÜHRUNGSBEISPIEL
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48 zeigt eine Draufsicht einer Konfiguration eines
optischen Wellenleiters nach einem einundzwanzigsten Ausführungsbeispiel.
Das einundzwanzigste Ausführungsbeispiel
ist gekennzeichnet durch die Verwendung eines in einen Graben 804 eingefügten Wellenlängenpassfilters 807,
und ein in den Graben 804 zum Fixieren des Wellenlängenpassfilters 807 eingefüllten Haftmittels 805 als
der ersten Verlustkomponente, durch Bereitstellen von Mantelbrechungsindex-induzierten
Bereichen 806a, 806b, 806c und 806d vor
und nach dem Graben 806 als der zweiten Verlustkomponente,
und durch Erhöhen
der Breite des durch den Graben 804 unterteilten optischen
Wellenleiters 803, wodurch der optische Wellenleiter mit
einer Filterfunktion zum Übertragen einer
spezifischen Wellenlänge
versehen ist.
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Gemäß 48 ist ein aus einem Quarzglaskern und -mantel
bestehender optischer Wellenleiter 803 auf einem Siliziumsubstrat 801 ausgebildet.
Der optische Wellenleiter 803 beinhaltet einen breiten
Abschnitt 803c und schmale Abschnitte 803a und 803e. Der
breite Abschnitt 803c ist mit den schmalen Abschnitten 803a und 803e über verjüngte Abschnitte 803b und 803d nahtlos
verbunden.
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Zudem
ist der Graben 804 mit einer Breite Wgroove über den
breiten Abschnitt 803c des optischen Wellenleiters 803 durch
Entfernen eines Teils des Mantels und des Kerns von dem optischen
Wellenleiter 803 durch Ätzen
oder eine Rohchipsägeverarbeitung
ausgebildet.
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Der
Graben 804 weist das in ihn eingefügte Wellenlängenpassfilter 807 auf,
und ist mit dem Haftmittel 805 zum Fixieren des Wellenlängenpassfilters 807 gefüllt. Das
Wellenlängenpassfilter 807 ist
ein Filter zum Übertragen
von Licht mit nur einer spezifischen Wellenlänge, und besteht aus einem
dielektrischen Vielschichtfilter.
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An
dem breiten Abschnitt 803c des optischen Wellenleiters 803 sind
die Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806a und 806b vor
dem Graben 804 in einem Abstand d1 angeordnet,
und die Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806c und 806d sind
nach dem Graben 804 in dem Abstand d2 angeordnet.
Die Mantelbrechungsindexinduzierten Bereiche 806a, 806b, 806c und 806d können durch
Bestrahlen eines Teils des Mantels des optischen Wellenleiters 803 mit
einem ultravioletten Laserstrahl ausgebildet sein.
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Wenn
das sich durch den optischen Wellenleiter 803 ausbreitende
Licht die Nachbarschaft der Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806a, 806b, 806c und 806d passiert,
tritt der Beugungsverlust auf, weil die Lichteinschränkung auf
den Wellenleiter aufgrund der Tatsache geschwächt ist, dass der Brechungsindex
des Mantels in den Bereichen größer als
in ihren Umgebungen ist. Zudem kann das Ausmaß der Brechungsindexinduktion
durch die Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806a, 806b, 806c und 806d derart
bestimmt sein, dass der Beugungsverlust in der unmittelbaren Nachbarschaft der
Bereiche kleiner als der Beugungsverlust in dem Graben 804 wird,
der das Wellenlängenpassfilter 807 beinhaltet,
und mit dem Haftmittel 805 gefüllt ist. Ferner können die
Abstände
d1 und d2 zwischen
dem Graben 804 und den Mantelbrechungsindex-induzierten
Bereichen 806a und 806b und zwischen dem Graben 804 und
den Mantelbrechungsindexinduzierten Bereichen 806c und 806d in
derartigen Abständen
bestimmt sein, dass die durch die unmittelbare Nachbarschaft der
Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806a und 806b passierende
Lichtwelle den Graben 804 erreichen kann, bevor das Lecken der
Lichtwelle vollständig
in Abstrahlung umschlägt, und
dass die durch den Graben 804 passierende Lichtwelle die
Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806c und 806d erreichen
kann, bevor das Lecken der Lichtwelle vollständig in Abstrahlung umschlägt.
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Dabei
passiert das sich durch den optischen Wellenleiter 803 ausbreitende
Licht die Nachbarschaft der Mantelbrechungsindex-induzierten Bereiche 806a und 806b unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes, nachdem seine Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung vergrößert ist,
wenn es von dem schmalen Abschnitt 803a in den breiten
Abschnitt 803c eingeführt
wird. Dann schreitet das Licht durch den Graben 804 und
die Nachbarschaft der Brechungsindex-induzierten Bereiche 806c und 806d unter
Einbeziehung des Beugungsverlustes fort, und breitet sich durch
den optischen Wellenleiter 803 aus, wobei seine Strahlpunktgröße in horizontaler
Richtung reduziert wird, wenn es von dem breiten Abschnitt 803c in
den schmalen Abschnitt 803e eingeführt wird.
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Somit
kann die aufgeweitete Strahlpunktgröße der in den Graben 804 eingeführten Lichtwelle weiter
sichtbar vergrößert werden,
insbesondere in vertikaler Richtung, indem die Mantelbrechungsindex-induzierten
Bereiche 806a und 806b vor dem Graben 804 bereitgestellt
sind. In ähnlicher
Weise kann die vergrößerte Strahlpunktgröße der von
dem Graben 804 ausgegebenen Lichtwelle sichtbar reduziert
werden, insbesondere in vertikaler Richtung, indem die Mantelbrechungsindex-induzierten
Bereiche 806c und 806d nach dem Graben 804 bereitgestellt sind.
Folglich wird der während
der Ausbreitung der Lichtwelle durch den optischen Wellenleiter 803 mit der
Verlustkomponente, das heißt
dem Wellenlängenpassfilter 807,
stattfindende überschießende Verlust
reduziert.
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Obwohl
die vorstehenden Ausführungsbeispiele
anhand des Beispiels eines einzelnen Wellenleiters, eines angeordneten
Wellenleitergitters, eines thermooptischen Schalters, eines Frequenz-stabilisierten
Lasers mit externem Resonator, eines gekreuzten Wellenleiters, und
eines Wellenlängenpassfilters
beschrieben sind, ist die vorliegende Erfindung im Übrigen nicht
auf derartige optische Wellenleiterschaltungen beschränkt, sondern
auf eine Vielzahl anderer optischer Wellenleiterschaltungen anwendbar.
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Die
Erfindung ist beispielsweise allgemein auf optische Wellenleiterschaltungen
anwendbar, die Verlustkomponenten zum Bereitstellen des Beugungsverlustes
für die
sich durch den optischen Wellenleiter ausbreitende Lichtwelle beinhalten.
Die Verlustkomponenten können
ein durch Entfernen eines Teils des optischen Wellenleiters und
einer Öffnung zur
Umgebung gebildeter Graben sein, ein durch Entfernen eines Teils
des optischen Wellenleiters und durch Füllen mit einem Material wie
etwa Silikon ausgebildeter Graben sein; ein durch Entfernen eines Teils
des optischen Wellenleiters und Eingeben eines optischen Materials
und einer Komponente mit einer gewünschten Eigenschaft wie etwa
ein Dünnschichtfilter
ausgebildeter Graben sein; ein durch Entfernen eines Teils des optischen
Wellenleiters, Eingeben eines optischen Materials und einer Komponente
mit einer gewünschten
Eigenschaft wie etwa einem Dünnschichtfilter,
und Füllen
mit einem Material wie etwa einem Haftmittel ausgebildeter Graben
sein, oder eine Überschneidung
mit anderen optischen Wellenleitern.
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Obwohl
die vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiele anhand eines
Beispiels beschrieben sind, bei dem der Brechungsindexkontrast des optischen
Wellenleiters, die Kernbreite und Kerndicke und dergleichen auf
spezifische Werte beschränkt
sind, ist die Erfindung nicht auf diese Werte beschränkt.
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Obwohl
ein Teil der vorstehenden Ausführungsbeispiele
anhand eines Beispiels beschrieben sind, bei dem einige Einzelheiten
auf spezifische Werte wie etwa die Anzahl der Gräben und ihre Breite, der Abstand
zwischen den benachbarten Gräben, die
Anzahl der Wellenleiterlücken
und ihre Breiten, die Abstände
zwischen den benachbarten Wellenleiterlücken, die Abstände zwischen
den benachbarten Gräben
und Wellenleiterlücken,
beschränkt
ist, ist die Erfindung nicht auf diese Werte beschränkt.
-
Obwohl
ein Teil der vorstehenden Ausführungsbeispiele
ein Verfahren zum Erhöhen
der Kernbreite im Wellenleiterverlustabschnitt beschreiben, ist
dies nicht wesentlich. Es ist beispielsweise möglich, die Kerndicke in dem
Wellenleiterverlustbereich zu erhöhen, sowohl die Kernbreite
als auch die Kerndicke im Wellenleiterverlustabschnitt zu erhöhen, die Kernbreite
im Wellenleiterverlustabschnitt zu verringern, die Kerndicke in
dem Wellenleiterverlustabschnitt zu verringern, oder sowohl die
Kernbreite als auch die Kerndicke im Wellenleiterverlustbereich
zu verringern.
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Obwohl
ein Teil der vorstehenden Ausführungsbeispiele
anhand eines Beispiels beschrieben sind, bei dem die Parameter des
angeordneten Wellenleitergitters auf die spezifischen Werte beschränkt sind,
ist die Erfindung nicht auf diese Werte beschränkt.
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Erfindungsgemäß wird nach
vorstehender Beschreibung die Strahlpunktgröße der in die erste Verlustkomponente
eingeführten
Lichtwelle durch Bereitstellen des optischen Wellenleiters mit der zweiten
Verlustkomponente sichtbar vergrößert, der einen
geringeren Beugungsverlust als den Beugungsverlust der ersten Verlustkomponente
verursacht. Folglich kann der Abstrahlungswinkel der Lichtwelle
an der ersten Verlustkomponente reduziert werden, und der bei der
Ausbreitung von Licht durch den optischen Wellenleiter einbezogene überschießende Verlust
kann reduziert werden.
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Die
Erfindung ist vorstehend unter Bezugnahme auf bevorzugte Ausführungsbeispiele
näher beschrieben,
und aus Vorstehendem ist nunmehr dem Fachmann ersichtlich, dass Änderungen
und Abwandlungen erfolgen können,
ohne von der Erfindung abzuweichen, und es ist daher bei den beigefügten Patentansprüchen die
Absicht, alle derartigen Änderungen
und Abwandlungen abzudecken, die in den Erfindungsbereich fallen.