DE4442077C2 - Verfahren zur Reinigung von Halogeniden - Google Patents

Description

Verfahren zur Reinigung von Halogeniden.

Rohstoffe, die für die Produktion moderner Werkstoffe erfor­ derlich sind, müssen in den meisten Fallen in hochreiner Form vorliegen. Da der Reinheitsgrad der Rohstoffe bei deren Ge­ winnung bzw. Herstellung oft nicht ausreichend ist, sind Rei­ nigungsverfahren erforderlich. Diese sind oft komplizierte chemische oder physikalische Verfahren, die jeweils nur eine Gruppe sich ähnlich verhaltender verunreinigender Elemente aus den Rohstoffen beseitigen können. Umfassende Reinigungs­ verfahren benötigen meist viel Zeit und viele Prozeßschritte. Zudem sind sie oft nur für kleine Stoffmengen geeignet.

Ein gebräuchliches Reinigungsverfahren ist die Rekristallisa­ tion, mit deren Hilfe sich eine Vielzahl von Verunreinigungen in einem Arbeitsgang aus den Rohstoffen entfernen läßt. Sie beruht auf dem Effekt, daß die aus einer Schmelze oder einer Lösung wachsenden Kristalle bei ausreichend niedriger Wachs­ tumsgeschwindigkeit weniger Verunreinigungen einbauen, als in der Schmelze oder der Lösung vorliegen. Die Verunreinigungen reichern sich in der flüssigen Phase an und können später ab­ getrennt werden.

Ein bekanntes Verfahren zur Reinigung durch Rekristallisation ist das Zonenschmelzverfahren. Dabei läßt man durch einen größeren Kristallblock eine schmale schmelzflüssige Zone wan­ dern, in der sich die Verunreinigungen anreichern. Nach dem Wiedererstarren ist eine mechanische Bearbeitung erforder­ lich, um den Teil des Kristallblocks zu entfernen, in dem sich die Verunreinigungen angereichert haben.

Aus der US 4 277 303 ist ein Reinigungsverfahren für Natriu­ miodid bekannt, mit dem geringe Spuren von Verunreinigungen in unlösliche Substanzen umgewandelt werden können. Diese bilden dann Einschlüsse im Natriumiodid, die mit anderen Ver­ fahren entfernt werden müssen.

Aus der US-4 201 739 ist ein Verfahren zum Reinigen eines Lanthanidenhalogenids bekannt, bei dem eine entsprechende Schmelze zum Entfernen fester Verunreinigungen durch eine Glasfritte filtriert wird.

Rekristallisationsverfahren aus der Lösung führen oft zum Einschluß von Lösungsmittel, das in einem späteren Verfah­ rensschritt entfernt werden muß.

Problem der vorliegenden Erfindung ist es, ein insbesondere für Halogenide geeignetes Reinigungsverfahren anzugeben, das schnell und einfach durchzuführen ist und welches zur Entfer­ nung verschiedener Arten von Verunreinigungen geeignet ist.

Dieses Problem wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren nach Anspruch 1 gelöst. Weitere Ausgestaltungen der Erfindung er­ geben sich aus den Unteransprüchen.

Grundlegende Idee des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es, die Verunreinigungen aus der Schmelze eines Halogenids zu entfernen und dazu die Schmelze mit einem reaktiven Feststoff in Kontakt zu bringen, wobei die Verunreinigungen mit dem re­ aktiven Feststoff zu festen Verbindungen reagieren, und an­ schließend den Feststoff mit den nun daran haftenden Verun­ reinigungen von der Schmelze zu trennen. Dabei handelt es sich um ein einfaches Verfahren, dessen "anspruchsvollster" Schritt das mechanische Abt rennen des Feststoffs aus der schmelzflüssigen Phase des Halogenids betrifft. Im Gegensatz zu den bekannten Rekristallisationsverfahren und anderen Rei­ nigungsverfahren sind zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens einfachste Vorrichtungen ausreichend. Ebenfalls im Gegensatz zu bekannten Verfahren ist beim erfindungsgemäßen Verfahren keine Steuerung erforderlich, da es keine kri­ tischen Verfahrensparameter aufweist. Die Durchführung des Verfahrens ist außerdem sicher, da dieses praktisch keine po­ tentiellen Fehlerquellen aufweist. Der Erfolg des Reini­ gungsverfahrens ist damit garantiert, so daß das Verfahren reproduzierbar zum sicheren Erfolg führt.

Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren basiert auf einer Reaktion der im Halogenid enthaltenen Verunreinigungen mit dem reaktiven Feststoff. Das Produkt der Reaktion sind Ver­ bindungen, die in der Halogenidschmelze nicht löslich sind und die daher als feste Bestandteile, beispielsweise als Flocken oder ähnliches vorliegen. Die festen Bestandteile werden beim Durchfließen der Schmelze in das Auffanggefäß 2 im Filtermaterial bzw. in der porösen Schicht zurückgehalten. Zur Reinigung tragen auch Adsorption von Verunreinigungen an Oberflächen und Einlagerung in molekulare Käfige bei, wie sie beispielsweise poröse Schichten aus Filter aktiven Substanzen wie Zeolithen und Tonen aufweisen.

In der einfachsten Ausführung der Erfindung wird das Verfah­ ren in Form einer Filtration durchgeführt. Dazu ist ein Fil­ tertiegel erforderlich, in den der reaktive Feststoff als Filtermaterial eingebracht wird. Die Reinigung des Halogenids erfolgt dabei während des Durchlaufens der Schmelze durch das Filtermaterial. Voraussetzung ist dabei, daß sich der reakti­ ve Feststoff in pulvriger Form als poröse und für die Schmelze durchlässige Schicht in den Filtertiegel einbringen läßt. Weiterhin muß die Durchlaufgeschwindigkeit der Schmelze durch die poröse Schicht niedrig genug sein, um einen ausrei­ chenden Kontakt der Schmelze mit dem reaktiven Feststoff si­ cherzustellen. Dann können die Verunreinigungen mit dem Fil­ termaterial bzw. mit dem reaktiven Feststoff Verbindungen eingehen, die an diesem haften bleiben.

Für diese Verfahrensvariante werden zwei Gefäße benötigt, nämlich ein Filtertiegel und ein Auffanggefäß. Das Material der Gefäße muß bei Temperaturen bis etwa 100° über dem Schmelzpunkt des Halogenids mechanisch stabil bleiben. Es darf von dem Halogenid chemisch nicht angegriffen werden. Außerdem sollen die zu reinigenden Halogenide bzw. die gerei­ nigten Halogenide nach dem Erstarren möglichst nicht an den Gefäßwänden ankleben können.

Geeignete Materialien für die Gefäße sind daher beispielswei­ se Graphit, Glaskohlenstoff, Quarzglas oder Edelmetalle.

Der Filtertiegel weist in seinem Boden zumindest eine Aus­ laßöffnung für die Schmelze auf. Der Durchmesser der Aus­ laßöffnung wird zwischen ca. 0,25 und mehreren Millimetern gewählt. Auf der Unterseite des Filtertiegels besitzt die zu­ mindest eine Auslaßöffnung vorzugsweise eine gegenüber dem übrigen Gefäßboden um ca. 2 bis 3 mm erhabene Lippe. Dadurch wird ein besseres Auslaufen bzw. Abtropfen der Schmelze aus dem Filtertiegel unterstützt.

Das Auffanggefäß ist beliebig ausgestaltet, hat vorzugsweise jedoch einen ebenen Boden und keine Auslaßöffnungen. Vorzugs­ weise ist das Auffanggefäß so ausgestaltet, daß auch das Er­ starren der Schmelze nach der Reinigung darin erfolgen kann. Das zum Beispiel zu einem Kristallblock erstarrte Halogenid sollte dann gut entformbar sein. Eine gute Entformbarkeit wiederum kann erreicht werden durch ein Material, an dem das erstarrte Halogenid nicht anhaftet und durch die geometrische Ausgestaltung, insbesondere durch einen sich nach oben erwei­ ternden Querschnitt des Auffangsgefäßes. Eine weitere Mög­ lichkeit besteht darin, das Auffanggefäß mehrteilig und zer­ legbar auszugestalten, um die Entformung zu erleichtern.

In den Filtertiegel wird der reaktive Feststoff als Filterma­ terial eingefüllt. Dazu eignen sich vor allem Substanzen, die bei den hohen Temperaturen der Schmelze des Halogenids als Ionentauscher oder als Chromatographiematerial geeignet sind. Insbesondere sind also reaktive Feststoffe geeignet, die eine große aktive Oberfläche aufweisen.

Geeignet ist beispielsweise SiO₂-Glas, insbesondere wenn es vor der Verwendung mit Flußsäure geätzt wurde, Kieselgur, Zeolithe der verschiedensten Zusammensetzungen, Al₂O₃, Was­ serglas, Kaolin, Tonmineralien wie beispielsweise Montmoril­ lonit oder Glimmer. Sofern diese Stoffe nicht von Haus aus eine große aktive Oberfläche besitzen, werden sie in einer Modifikation mit großer Oberfläche eingesetzt.

Die beispielhaft aufgeführten reaktiven Feststoffe werden als Pulver eingesetzt. Da bei einer vorgegebenen Pulvermenge der Partikeldurchmesser indirekt proportional zur Oberfläche der Pulvermenge ist, kann über die Körnung des Pulvers die Ober­ fläche eingestellt werden. Bei feiner werdender Körnung ist darauf zu achten, daß eine daraus hergestellte poröse Schicht (im Filtertiegel) für die Schmelze noch durchlässig bleibt.

Bei Verwendung von Wasserglas als reaktiver Feststoff ist es vorteilhaft, dieses als Beschichtung auf einem Trägermaterial mit großer Oberfläche einzusetzen. Als Trägermaterial können Körner aus Aktivkohle, Aluminiumoxidkeramik, Quarzsand oder Schäume aus Glaskohlenstoff dienen. Das Trägermaterial kann jedoch auch mit anderen reaktiven Feststoffen beschichtet oder imprägniert werden. Möglich sind dabei verschiedene Beschichtungsverfahren, vorzugsweise aber Imprägnierung durch Behandeln mit Lösung oder Schmelze des reaktiven Feststoffs.

In einer weiteren Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens können mehrere verschiedene reaktive Feststoffe mit der Schmelze in Kontakt gebracht werden oder insbesondere als Filtermaterial verwendet werden. Dadurch ist es möglich, im erfindungsgemäßen Verfahren eine größere Palette an möglichen Verunreinigungen in einem Verfahrensschritt aus der Schmelze des Halogenids zu entfernen.

Bei geeigneter Wahl der Materialkombination für den reaktiven Feststoff können weitere Verfahrensvorteile erzielt werden. Beispielsweise ist es möglich, im Filtertiegel über einer Schicht aus Aluminiumoxidfilzen oder Glasfritten eine weitere poröse Schicht mit einem anderen reaktiven Feststoff von pulverförmiger Modifikation zu erzeugen. Dadurch wird verhindert, daß feinkörniges Pulver durch die Löcher im Boden des Filtertiegels hindurchfällt oder von Schmelze aus dem Filtertiegel ausgeschwemmt wird. Das Ausschwemmen von Fil­ termaterial kann auch durch feinmaschige Edelmetallsiebe, Kohlenstoffilze oder Quarzglaswatte verhindert werden. Da grobe Körnungen eines Filtermaterials meist von der zu reini­ genden Schmelze so schnell durchflossen werden, daß kein hinreichender Reinigungseffekt auftritt, kann in solchen Fäl­ len in dichteres Filtermaterial als Unterlage den Schmelz­ durchfluß verringern.

Möglich ist es auch, dichteres Filtermaterial wie beispiels­ weise Glasfritten in die Abflußöffnungen im Boden das Fil­ tertiegels einzupressen oder diese mit nur geringem Durch­ messer auszugestalten. Bei geringerer Durchflußgeschwindig­ keit der Schmelze durch die poröse Schicht im Filtertiegel wird ein innigerer Kontakt mit dem reaktiven Feststoff, eine vollständigere Reaktion mit dem reaktiven Feststoff und damit eine bessere Reinigungswirkung erzielt.

Weiterer Einfluß auf die Reinigungswirkung ist durch die Ein­ stellung der Schichtdicke der porösen Schicht gegeben. Die Dicke der Schicht richtet sich nach der Menge der zu reini­ genden Substanz und der Konzentration der Verunreinigungen. Gegebenenfalls muß eine poröse Schicht aus pulvrigem Filter­ material bzw. pulvrigem reaktiven Feststoff mit einer Be­ schwerung am Aufschwimmen gehindert werden. Diese Beschwerung kann wiederum eine kompaktere Modifikation eines reaktiven Feststoffs oder auch ein inertes Material wie beispielsweise Edelmetall sein.

Eine weitere Möglichkeit besteht darin, das Auffanggefäß wie­ derum als Filtertiegel auszugestalten und das Reinigungsver­ fahren mehrstufig in Form einer Kaskade durchzuführen.

Gegenüber den bisher bekannten Reinigungsverfahren hat das erfindungsgemäße Verfahren zur Reinigung von insbesondere Al­ kalihalogeniden weitere Vorteile. Es erfordert einen nur ge­ ringen Zeitaufwand. Auch wenn die zu reinigende Schmelze eine gewisse Zeit im Kontakt mit dem Filtermaterial bzw. mit dem reaktiven Feststoff bleiben muß, kann durch feine Körnung des Filtermaterials und eine größere Anzahl von Gießlöchern ein hinreichend rascher Durchsatz für eine größere Substanzmenge erreicht werden.

Im folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungsbei­ spielen und der dazugehörigen fünf Figuren näher erläutert.

Fig. 1 zeigt im vereinfachten schematischen Querschnitt eine Kombination aus Filtertiegel und Auffanggefäß.

Fig. 2 und 3 zeigen dieselbe Vorrichtung im schematischen Querschnitt während des erfindungsgemäßen Verfahrens, und die

Fig. 4 und 5 stellen schematische Querschnitte durch ge­ eignete Vorrichtungen zusammen mit dazugehörigen Öfen dar.

Fig. 1 zeigt einfache Ausführungen für einen geeigneten Fil­ tertiegel 1 und ein Auffanggefäß 2. Hierbei besitzen beide Gefäße einen ebenen Boden und vertikale Seitenwände. Die Grundfläche der Gefäße ist beliebig und kann beispielsweise rund oder rechteckig sein. Beide Gefäße können den gleichen Querschnitt besitzen und beispielsweise übereinander stapel­ bar ausgebildet sein. Dazu kann der Filtertiegel eine Aus­ nehmung aufweisen (in der Fig. 1 nicht dargestellt) oder ei­ nen Rand besitzen, der beim Übereinanderstapeln in das Auf­ fanggefäß 2 eingreift. So können beide Gefäße verrutschsicher übereinander gestapelt werden. Der Boden des Filtertiegels 1 weist eine Auslaßöffnung 3 auf. Diese ist auf der Unterseite vollständig von einer Lippe 4 umgeben, die beim Durchtritt der Schmelze die Tropfenbildung erleichtert.

Fig. 2: Über der zumindest einen Auslaßöffnung 3 des Filter­ tiegels 1 wird nun eine hinreichend dicke poröse Schicht 5 eines reaktiven Feststoffs gegeben. Die Dicke der porösen Schicht 5 richtet sich nach der Menge der zu reinigenden Sub­ stanz und der Konzentration der Verunreinigungen. Auf die po­ röse Schicht 5 wird nun das zu reinigende Halogenid 6 gege­ ben. Dabei kann das Halogenid 6 als Schmelze zugegeben wer­ den, die dann durch die poröse Schicht 5 sickert und durch die Auslaßöffnung 3 unter Tropfenbildung 7 in das Auffangge­ fäß 2 abfließt. Am Boden des Auffanggefäßes 2 sammelt sich gereinigtes Halogenid 8 an.

Fig. 3: Wird für die poröse Schicht 5 ein feinpulvriges und/oder leichtes Material wie beispielsweise Kieselgur ver­ wendet, kann die Auslaßöffnung 3 mit einem Sieb 9 aus Glas­ fritte oder ähnlichem Material abgedichtet werden, um ein zu schnelles Abfließen der Schmelze zu verhindern. Über der po­ rösen Schicht 5 kann das reaktive Material mit einer Be­ schwerung 10 am Aufschwimmen gehindert werden.

In einer besonders einfach durchzuführenden Modifikation des Verfahrens wird das zu reinigende Halogenid 6 in fester und beispielsweise pulvriger Form auf die poröse Schicht 5 in den Filtertiegel 1 gegeben. Anschließend wird der Filtertiegel 1 zusammen mit dem Auffanggefäß 2 in einen Ofen eingestellt, der anschließend auf eine über dem Schmelzpunkt des Haloge­ nids liegende Temperatur gefahren wird. Dadurch daß das Halogenid direkt im Filtertiegel 1 nach und nach aufschmilzt, ist eine hinreichend geringe Durchflußgeschwindigkeit der Schmelze durch die poröse Schicht 5 gegeben.

Die Durchführung im Ofen hat den weiteren Vorteil, daß das Reinigungsverfahren gleichzeitig mit einem Rekristallisati­ onsverfahren kombiniert werden kann, welches zu einem poly- bis monokristallinen Kristallkörper von hoher optischer und struktureller Güte führt.

Fig. 4 zeigt eine Möglichkeit, das erfindungsgemäße Reini­ gungsverfahren mit einem Kristallzüchtungsverfahren nach Stockbarger zu kombinieren. Dazu ist das Auffanggefäß als Am­ pulle 13 ausgebildet, in die der Filtertiegel 1 eingestellt wird. Wie bereits bei den Fig. 2 und 3 beschrieben wird auch hier eine poröse Schicht gegebenenfalls mit Hilfe eines Siebs und einer Beschwerung in den Filtertiegel eingebracht. Die zu reinigende Substanz wird vorzugsweise als Feststoff darübergegeben. Anschließend wird die Ampulle 13 mit einem Deckel 12 verschlossen und in einen Ofen 14 gehängt. Dieser weist einen vertikal verlaufenden Temperaturgradienten auf. In der heißeren Zone des Ofens 14 wird das zu reinigende Ha­ logenid geschmolzen, durch die poröse Schicht filtriert und sammelt sich schließlich am spitz zulaufenden Boden der Am­ pulle 13 an. Wenn die vollständige Menge des in den Filter­ tiegel 1 eingefüllten Halogenids geschmolzen, filtriert und in der Ampulle 13 angesammelt ist, wird diese langsam in eine kältere Zone des Ofens 14 abgesenkt. Dadurch wird das Kri­ stallwachstum eingeleitet. Bei entsprechend genauer Tempera­ turkontrolle und ausreichend langsamer Absenkung der Ampulle 13 in den Schacht des Ofens 14 können so hochwertige mono­ kristalline Kristallkörper erhalten werden.

Aus den älteren internationalen Anmeldung mit der Veröffentlichungsnummer WO 94/28205 sind modifizierte Rekristallisationsverfahren bekannt, mit deren Hilfe hochwertige Kristallkörper von hoher optischer und kristalliner Qualität in einfacher Weise erzeu­ gen lassen. Dazu kann die einfache in den Fig. 1 bis 3 dargestellte Vorrichtung direkt verwendet werden. Prinzip dieser Verfahren ist es, den Boden des Auffanggefäßes 2 der­ art zu kühlen, daß von oben nachtropfende Schmelze 7 schnell erstarrt und am Boden und den Wänden des Auffanggefäßes schnell eine feste Kruste ausbildet. Die weitere Kristallisa­ tion erfolgt langsam und führt zu den genannten hochwertigen Kristallkörpern.

Fig. 5 zeigt eine Möglichkeit, das Abdampfen des Halogenids in den Ofen und die Umwelt zu verhindern. Dazu können Filter­ tiegel 1 und Auffanggefäß 2 wie beschrieben mit poröser Schicht und zu reinigendem Halogenid beschickt werden und in ein Glasrohr 15 eingestellt werden. Dieses ist mit einem Deckel 16 verschlossen, welcher noch eine Gasspülung 17 aufwei­ sen kann. Das Quarzglasrohr 15 wird anschließend in einen Kammerofen 18 eingestellt, wobei das mit dem Deckel 16 ver­ schlossene Ende aus dem Ofen herausragt. Um Wärmeverluste zu verhindern, kann in das Quarzrohr an der Stelle, an der es aus dem Ofen 18 ragt, eine Scheibe aus wärmedämmenden Materi­ al eingefügt werden (in der Figur nicht dargestellt). Da wäh­ rend der Durchführung des Verfahrens die Temperatur am aus dem Ofen ragenden Ende des Rohrs nur wenig über Raumtempera­ tur steigt, ist als Deckel ein Stahlflansch ausreichend. Die Gasleitungen 17 im Deckel dienen zum Druckausgleich und zum Einleiten von Spülgasen.

Wenn die gesamte zu reinigende Substanz geschmolzen ist und den Filter passiert hat, kann der Ofen abgekühlt werden und Filtertiegel und Auffanggefäß gegebenenfalls samt dem Glas­ rohr aus dem Ofen entnommen werden. Das gereinigte Halogenid wird in erstarrter Form aus dem Auffanggefäß 2 entnommen.

Mit dem Verfahren können hohe Reinheitsgrade in einem einzi­ gen Verfahrensschritt erreicht werden. Wenn die zu reinigende Schmelze in das Filtermaterial eindringt, gelangt sie immer zu Material, das weniger verbraucht und damit noch reaktiver als das vorherige ist. Es kann sich somit kein Reaktions­ gleichgewicht einstellen, in dem die Schmelze durch Resorp­ tion wieder verunreinigt werden würde.

Bei mehrstufiger Durchführung des Verfahrens können verschie­ dene reaktive Feststoffe in geeigneter Kombination eingesetzt werden, um den Reinheitsgrad weiter zu steigern.

Durch Kombination mit den genannten Kristallisationsverfahren oder mit Kristallzüchtungsverfahren wie Bridgman- und Stock­ barger-Verfahren können weiterhin Zeit, Verfahrens- und appa­ rativer Aufwand sowie Energie gespart werden.

Das beschriebene Verfahren ist besonders geeignet für die Reinigung von Alkali-, Erdalkali- und Seltenerdhalogeniden.

Claims (8)

1. Verfahren zur Reinigung der Schmelze eines Halogenids von Verunreinigungen durch Inkontaktbringen der Schmelze mit einem reaktiven Feststoff, welcher mit den Verunreinigungen Verbindungen eingeht, die an dem reaktiven Feststoff haften bleiben,

• - bei dem der reaktive Feststoff in pulvriger Form als poröse und für die Schmelze durchlässige Schicht in einen Filtertiegel eingefüllt wird und
• - bei dem die Schmelze durch die poröse Schicht im Filtertiegel gefiltert wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem ein reaktiver Feststoff verwendet wird, welcher bei der Schmelztemperatur des Halogenids als Chromatographiema­ terial oder als Ionentauscher einsetzbar ist.

3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem ein pulvriges Material mit großer aktiver Oberfläche mit einer Lösung oder Schmelze des reaktiven Feststoffs beschichtet oder imprägniert und anschließend als poröse Schicht in den Filtertiegel eingefüllt wird.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der reaktive Feststoff ausgewählt ist aus jeweils pulvrigem SiO₂-Glas, Kieselgur, Zeolith, Al₂O₃, Wasserglas, Kaolin, Ton und Glimmer.

5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem der reaktive Feststoff in einer Modifikation mit ho­ her Oberfläche verwendet wird.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, bei dem die Schmelze nach dem Abtrennen der Verunreinigungen unmittelbar einem Kristallzüchtungsverfahren unterworfen wird, um einen homogenen Kristall des Halogenids zu erhalten.

7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6,

• - bei dem die poröse und für die Schmelze durchlässige Schicht in einen Filtertiegel eingebracht wird,
• - bei dem die poröse Schicht mit festem Halogenid über­ schichtet wird,
• - bei dem unter dem Filtertiegel ein Auffanggefäß angeord­ net wird,
• - bei dem Filtertiegel und Auffanggefäß in einen Ofen ein­ gestellt werden und
• - bei dem das Halogenid im Ofen aufgeschmolzen wird und da­ bei kontinuierlich durch die poröse Schicht in das Auf­ fanggefäß abläuft.

8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem der reaktive Feststoff in feinteiliger Form als porö­ se und für die Schmelze durchlässige Schicht in einen Filter­ tiegel eingebracht und mit Hilfe einer Glasfritte, eines Fil­ zes aus Al₂O₃ oder Kohlenstoff, eines feinmaschigen Edelme­ tallsiebs eines Schaumes aus Glas oder Kohlenstoff oder einer Quarzglaswatte am zu schnellen Auslaufen aus dem Filtertiegel und/oder am Aufschwimmen in der über der porösen Schicht auf­ gebrachten Schmelze gehindert wird.