DE4301742C2 - Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektronischen Leiterplatten - Google Patents
Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektronischen LeiterplattenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Galvanisieren
plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektroni
schen Leiterplatten, mit
- a) einer mit einem Elektrolyt befüllbaren Elektrolyse kammer;
- b) einer Fördereinrichtung, welche die plattenförmigen Gegenstände kontinuierlich durch die Elektrolysekammer hindurch befördert;
- c) mindestens einer in der Elektrolysekammer angeordneten Anode, die mit dem Pluspol einer Gleichstromquelle verbunden ist;
- d) einer Vielzahl drehbarer Kontaktrollen, die an minde
stens einem Rand der plattenförmigen Gegenstände
anliegen und denen jeweils zugeordnet sind:
- a) eine sich mitdrehende Welle;
- b) eine erste, sich mit der Welle drehende Kontakt fläche;
- c) ein unverdrehbares Bürstenteil, welches mit einer zweiten Kontaktfläche elastisch an die erste Kontaktfläche angedrückt wird und mit dem Minuspol der Gleichspannungsquelle verbunden ist.
Eine derartige Vorrichtung ist in der DE-OS 32 36 545
beschrieben. Als erste, sich mit der Welle der Kontakt
rollen mitdrehende Kontaktfläche wird hier die Mantel
fläche der Welle selbst bzw. eines im Durchmesser ver
größerten Wellenbereiches eingesetzt. Diese Kontaktfläche
ist also nicht eben sondern zylindrisch; die Mantellinien
verlaufen achsparallel. Die Bürstenteile werden in radialer
Richtung auf die erste, zylindrische Kontaktfläche zu
gedrückt, wobei sich ihre Stirnflächen zu komplementären
Zylinderflächen-Abschnitten abschleifen. Versucht man,
diese Anordnung auch bei höheren Strömen einzusetzen, um
so höhere Abscheidungsleistungen in der Elektrolysekammer
zu erzielen, so stößt man an Grenzen. An der Stromübergangs
stelle zwischen dem Bürstenteil und der ersten Kontakt
fläche der Wellen liegt ein Übergangswiderstand, der
zu einer unzulässigen Erhitzung der ganzen Bürsteneinrich
tung mit den angeschlossenen Zuleitungen führen kann,
zumal die einander berührenden Kontaktflächen verhältnis
mäßig klein sind. Die seitlichen Bereiche der zylindrischen
zweiten Kontaktflächen an den Bürstenteilen sind mechanisch
geschwächt und können leicht abbrechen. Insbesondere dann,
wenn an der Oberseite der zu galvanisierenden platten
förmigen Gegenstände ebenfalls Kontaktrollen angreifen,
die zur Kompensation unterschiedlicher Plattendicken
mit ihren Wellen verschwenkbar sind, kommt es sogar
zur Funkenbildung. Bei einer Veränderung des Neigungs
winkels der oberen Kontaktrollen liegen die erste und
die zweite Kontaktfläche zumindest zeitweise auch nicht
mehr flächig aneinander, was die geschilderten Schwierig
keiten noch verstärkt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrich
tung der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß
höhere Ströme auf die plattenförmigen Gegenstände über
tragen werden können, ohne daß es zu einer übermäßigen
Erwärmung im Bereich der Kontaktflächen und zu deren
übermäßiger Abnutzung kommt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
- a) die erste und die zweite Kontaktfläche bezogen auf die Welle radial verlaufen;
- b) das Bürstenteil bezogen auf die Welle in axialer Richtung elastisch auf die erste Kontaktfläche gedrückt wird.
Dadurch, daß erfindungsgemäß die beiden Kontaktflächen,
die aneinander anliegen, gegenüber der Achse der Welle
radial gestellt werden, wird zweierlei gewonnen: Erstens
handelt es sich dann um ebene Flächen, die problemlos
so gestaltet werden können, daß sie dauerhaft eng und
flächig aneinander anliegen. Zum anderen können die
so gestellten Kontaktflächen größer gehalten werden
als dies bei den bekannten zylindrischen achsparallelen
Kontaktflächen der Fall war. Durch den besseren, flächi
gen Kontakt der beiden Kontaktflächen werden eingeschnürte
Strompfade, die zu lokal hohen Stromdichten und entspre
chenden Erhitzungserscheingungen führen, vermieden.
Aufgrund der Größe der Kontaktflächen kann der Gesamt
strom, der zu den Kontaktrollen geleitet wird, groß
flächig verteilt werden, was zu entsprechend niedrigen
Stromdichten und geringer lokaler Wärmeentwicklung führt.
Zweckmäßigerweise ist die erste Kontaktfläche an einem
Kontaktring vorgesehen, der fest mit der Welle verbunden
ist. Die erste Kontaktfläche ist dann eine ringför
mige Stirnfläche dieses Kontaktringes.
Der Kontaktring kann mit der Welle einstückig sein;
er kann aber auch auf die Welle aufgeschrumpft oder
auf die Welle aufgeschraubt sein.
Wenn der Kontaktring aus Titan besteht, so ist er gegen
über praktisch allen gebräuchlichen Elektrolyten, die
bei derartigen Vorrichtungen Einsatz finden, chemisch
beständig.
Nach einem weiteren vorteilhaften Merkmal der Erfindung
ist das Bürstenteil ein Bürstenring, der axial auf der
Welle verschiebbar ist. Auch die zweite Kontaktfläche
ist dann eine ringförmige Stirnfläche; sie wird zweck
mäßigerweise dimensionsmäßig an die erste Kontaktfläche
angepaßt.
Zwischen dem Bürstenring und einer am Ende der Welle
befestigten Scheibe kann eine Druckfeder angeordnet
sein. Diese bewirkt dann auf konstruktiv einfache Weise
die elastische Beaufschlagung des Bürstenringes in Rich
tung auf die erste, sich mit der Welle mitdrehende Kontakt
fläche.
Für die meisten Einsatzzwecke, bei denen der Elektrolyt
ohnehin Kupfer enthält, empfiehlt es sich, wenn das
Bürstenteil aus Kupfer besteht. Dann bereitet der Abrieb
des Bürstenteiles, der möglicherweise in den Elektrolyten
gelangen kann, keine chemischen Probleme.
Wie bereits oben erwähnt, gibt es Vorrichtungen der
eingangs genannten Art, bei welchen jeweils ein Satz von
Kontaktrollen an der Ober- und an der Unterseite der
plattenförmigen Gegenstände angreift, wobei der obere
Satz von Kontaktrollen mit den zugehörigen Wellen in einer
Ebene senkrecht zur Förderrichtung um einen gewissen
Winkel verschwenkbar ist. In diesem Falle zeichnet sich
eine besonders vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung
dadurch aus, daß jeweils ein einer oberen Kontaktrolle
zugeordnetes Bürstenteil mit einem einer unteren Kontakt
rolle zugeordneten Bürstenteil über eine Feder verbunden
ist, welche die beiden Bürstenteile auseinanderdrückt und
gleichzeitig deren Verdrehung verhindert.
Jedes Bürstenteil kann über eine ummantelte Kupferlitze
mit einer Stromschiene verbunden sein, die sich entlang
der Vorrichtung in Förderrichtung erstreckt. Der Einsatz
von Kupfer ist wegen dessen hoher Leitfähigkeit zur
Bewältigung der großen Ströme von Vorteil; die Ummante
lung der Kupferlitze schützt dieses vor evtl. Spritzern
des aggressiven Elektrolyten.
Aus ähnlichen Gründen ist es zweckmäßig, wenn die Strom
schiene einen Kern aus Kupfer und einen Mantel aus elektro
lyt-beständigem Material, vorzugsweise Titan, umfaßt.
Nach einem weiteren vorteilhaften Merkmal der Erfindung
sind die erste und die zweite Kontaktfläche innerhalb
eines Abschirmkastens angeordnet, in welchen die äußeren
Enden der Wellen hineinragen. Auch dieser Abschirmkasten
dient dem Schutz der empfindlichen Stromübergangsstelle
zwischen dem Bürstenteil und der Welle vor Spritzern
des Elektrolyten, die andernfalls zu Korrosionserschei
nungen und erhöhten elektrischen Übergangswiderständen
führen könnten.
Aus dem gleichen Grunde empfiehlt sich, daß an den Ein
trittsstellen der Wellen in den Abschirmkasten und an
den Austrittsstellen der Welle aus dem Maschinenrahmen
Dichtungen vorgesehen sind.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend
anhand der Zeichnung näher erläutert; es zeigen
Fig. 1: einen Teilschnitt durch eine Vorrichtung zur
Galvanisierung elektronischer Leiterplatten
senkrecht zu deren Förderrichtung im Bereich
der linken Kontaktrollen;
Fig. 2: eine schematische Draufsicht auf die Vorrich
tung von Fig. 1 gesehen in Richtung des Pfei
les II bei abgenommener Verkleidung.
In Fig. 1 ist ein kleiner Teil eines Schnittes durch
eine Vorrichtung zur Galvanisierung elektronischer Leiter
platten dargestellt. Wie dieser Schnitt gelegt ist,
wird aus den nachfolgenden Ausführungen noch deutlich.
Eine derartige Leiterplatte ist in Fig. 1, ebenfalls
im Schnitt, teilweise gezeigt und mit dem Bezugszeichen
1 versehen. Diese Leiterplatte 1 wird senkrecht zur
Zeichenebene nach hinten kontinuierlich durch eine Elek
trolysekammer 2 bewegt, die innerhalb eines Maschinen
rahmens 3 ausgebildet ist. In der Elektrolysekammer
2 befindet sich ein Elektrolyt, der Metallionen von
demjenigen Metall enthält, das auf der Leiterplatte
1 abgeschieden werden soll. Im allgemeinen handelt es
sich dabei um Kupfer.
Die Bewegung der Leiterplatten 1 in der geschilderten
Weise wird von einem Fördersystem bewirkt, welches eine
Vielzahl unterer Förderrollen 4 und oberer Förderrollen
5 umfaßt. Mehrere untere Förderrollen 4 sitzen, über
die Breite der Elektrolysekammer 2 verteilt, auf einer
gemeinsamen unteren Welle 6, die in geeigneter Weise
(nicht dargestellt) angetrieben ist. In entsprechender
Weise sitzen mehrere obere Förderrollen 5, über die
Breite der Elektrolysekammer 2 verteilt, auf einer gemein
samen Welle 7, die nicht unbedingt angetrieben zu sein
braucht. Eine Vielzahl von unteren Wellen 6 und oberen
Wellen 7 ist in verhältnismäßig kurzem Abstand in Förder
richtung, also senkrecht zur Zeichenebene, hintereinander
vorgesehen, derart, daß durch die Drehung der unteren
und oberen Förderrollen 5 die Leiterplatten 1 senkrecht
zur Zeichenebene nach hinten bewegt und dabei von einem
Satz Förderrollen 4, 5 auf den in der Zeichenebene da
hinter liegenden Satz Förderrollen übergeben wird. Die
Leiterplatten 1 bewegen sich so mit konstanter Geschwin
digkeit senkrecht zur Zeichenebene durch die Elektrolyse
kammer 2. Diese Vorgänge sind an und für sich bekannt
und brauchen hier nicht näher erläutert zu werden.
Unterhalb des Bewegungsweges der Leiterplatten 1 ist
ein unterer Anodenkorb 8 angeordnet, der mit kleintei
ligen Stücken 9, z. B. Kugeln, aus demjenigen Material
angefüllt ist, welches auf den Leiterplatten 1 abge
schieden werden soll. Die Metallkugeln 9, im allgemeinen
Kupferkugeln, verbrauchen sich während der Elektrolyse
und ersetzen so im Elektrolyten das Metall, welches
auf den Leiterplatten 1 aufgalvanisiert wird. Auch diese
Vorgänge sind für sich bekannt.
Auch oberhalb des Bewegungsweges der Leiterplatten 1
befindet sich ein Anodenkorb 10, der ebenfalls mit den
Metallstücken 9 angefüllt ist.
Unterer Anodenkorb 8 und oberer Anodenkorb 10 sind mit
dem Pluspol einer Gleichspannungsquelle verbunden, was
in der Zeichnung nicht eigens dargestellt ist.
Beim dargestellten Ausführungsbeispiel sollen die Leiter
platten 1 an ihrer oberen und an der unteren Fläche mit
einem galvanischen Überzug versehen werden. Sie müssen
hierzu während ihrer Bewegung durch die Elektrolyse
kammer 2 auf das Potential der Kathode der Gleichstrom
quelle geschaltet werden. Dies geschieht mit Hilfe unterer
Kontaktrollen 11, welche im Randbereich der unteren Fläche
der Leiterplatten 1 anliegen, und oberer Kontaktrollen 12,
welche im Randbereich der oberen Fläche der Leiterplatten
1 ablaufen. Viele derartige seitliche Kontaktrollen 11,
12 sind, in Förderrichtung gesehen, hintereinander ange
ordnet, so daß die Leiterplatten 1 während ihres Weges
durch die Vorrichtung ständig in Berührung mit mehreren
Kontaktrollen 11, 12 bleiben.
Sowohl die unteren Kontaktrollen 11 als auch die oberen
Kontaktrollen 12 sind angetrieben. Hierzu dient eine
Antriebswelle 13, die sich innerhalb des Maschinen
rahmens 3 parallel zur Förderrichtung erstreckt. Die
Drehbewegung der Antriebswelle 13 wird über Zahnräder
14, 15 auf die Wellen 16 übertragen, welche an ihrem
inneren Ende die unteren Kontaktrollen 11 tragen. Die
Zahnräder 15 auf den Wellen 16 kämmen außerdem mit Zahn
rädern 17 auf den Wellen 18, welche an ihren inneren
Enden die oberen Kontaktrollen 12 tragen.
Die Wellen 16 und 18 sind im Maschinenrahmen 3 gelagert
und erstrecken sich von den entsprechenden Kontaktrollen
11, 12 durch den Maschinenrahmen 3 hindurch und in einen
Abschirmkasten 19 hinein, der als Tropf- und Spritzschutz
gegen den in der Elektrolysekammer 2 befindlichen Elektro
lyten dient. Die Austrittsstellen der Wellen 16 und 18 aus
dem Maschinenrahmen 3 und die Eintrittsstellen dieser
Wellen 16 und 18 in den Abschirmkasten 19 sind zudem mit
Dichtungen 20 bis 23 versehen.
Die Wellen 16 und 18 tragen an ihrem äußeren, innerhalb
des Abschirmkastens 19 befindlichen Endbereich die Kon
taktiereinrichtungen, über welche den Kontaktrollen
11, 12 und damit den Leiterplatten 1 der zur Elektrolyse
erforderliche Strom zugeführt wird.
Die Kontaktiereinrichtung ist für die untere Kontaktrolle
11 im wesentlichen dieselbe wie diejenige für die obere
Kontaktrolle 12, so daß die ausführliche Beschreibung
zunächst nur anhand der Kontaktiereinrichtung für die
untere Kontaktrolle 11 erfolgt.
Wie Fig. 1 zu entnehmen ist, ist auf dem im Durchmesser
verjüngten äußeren Bereich 16a der unteren Wellen 16
ein Kontaktring 24 drehschlüssig und axial unverschiebbar
befestigt, beispielsweise aufgeschrumpft oder aufgeschraubt.
Der Kontaktring 24 besteht aus demselben Metall, aus dem
auch die Wellen 16 und die meisten metallischen, dem
Elektrolyten ausgesetzten Teile der Vorrichtung bestehen;
im allgemeinen handelt es sich dabei um Titan. An einer
sich radial zur Welle 16 erstreckenden Kontaktfläche 25
des Kontaktringes 24 liegt eine sich ebenfalls zur Welle
16 radial erstreckende Kontaktfläche 27 eines Bürstenringes
26 an. Der Bürstenring 26 besteht aus einem gut leitfähigen
Material, dessen Abrieb im Elektrolyten geduldet werden
kann. Das heißt, der Bürstenring 26 besteht entweder
aus inertem Material, welches mit dem Elektrolyten 2
nicht in Wechselwirkung tritt (beispielsweise Titan),
oder einem Material, das in dem Elektrolyten 2 ohnehin
vorkommt, beispielsweise aus demjenigen Metall, welches
auf den Leiterplatten 1 abgeschieden wird. Dies bedeutet
in den meisten Fällen, daß es zweckmäßig ist, den Bürsten
ring 26 aus Kupfer herzustellen.
Im Gegensatz zum Kontaktring 24 ist der Bürstenring
26 auf dem äußeren Bereich 16a der unteren Wellen unver
drehbar aber axial verschiebbar gehaltert. Er wird durch
eine Druckfeder 28 auf den Kontaktring 24 zu gedrückt,
die zwischen einer am Ende der Welle 16 angeschraubten
Scheibe 29 und dem Bürstenring 26 eingespannt ist. Auf
diese Weise werden die beiden Kontaktflächen 25 und
27 des Kontaktringes 24 bzw. des Bürstenringes 26 stets
fest aneinandergedrückt, so daß sich ein geringer Über
gangswiderstand ergibt. Die Stromübergabe von den statio
nären Bürstenringen 26 auf die sich drehenden Kontaktringe
24 erfolgt über stets gleich große und stets parallele
Flächen in definierter Weise mit vergleichsweise geringen
Stromdichten. Unzulässig hohe Erwärmungen und Funkenbil
dungen und damit Korrosionserscheinungen an der Bürsten
einrichtung insgesamt werden so zuverlässig vermieden.
Der Bürstenring 26 ist über eine gut leitende, kunst
stoffummantelte Kupferlitze 30 mit einer Stromschiene
31 verbunden, die sich parallel zur Förderrichtung der
Leiterplatten 1 entlang der Außenseite des Maschinen
rahmens 3 erstreckt. Die Stromschiene 31 umfaßt dabei
einen Kern aus gut leitendem Material, insbesondere
Kupfer, der von einem Mantel aus gegen den Elektrolyten
restistentem Material, beispielsweise Titan, umgeben
ist.
Bereits oben wurde darauf hingewiesen, daß die Kontak
tiereinrichtung für die oberen Kontaktrollen 12 mit
der Kontaktiereinrichtung für die unteren Kontaktrollen
11, die soeben beschrieben wurde, übereinstimmt. Der
einzige Unterschied zwischen der oberen Kontaktrolle
12 und der unteren Kontaktrolle 11 besteht darin, daß
erstere und die mit ihr verbundene Welle 18 verschwenkt
werden können, um so unterschiedlichen Dicken der jeweils
behandelten Leiterplatten 1 Rechnung tragen zu können. Aus
diesem Grunde sind die Ränder der oberen Kontaktrollen
12 abgerundet, während die Ränder der unteren Kontaktrollen
11, deren Wellen 16 stets horizontal ausgerichtet sind,
zylindrisch sind.
Die Bürstenringe 26, über welche der Strom auf die Kon
taktringe 24 der unteren Wellen 16 übertragen werden,
sind jeweils über Bügelfedern 32 (vergl. insbesondere
Fig. 2) mit den Bürstenringen 26a verbunden, welche
den Strom über Kontaktringe 24a auf die oberen Wellen
18 und damit auf die oberen Kontaktrollen 12 übertragen.
Die Bügelfeder 32 erfüllt dabei eine doppelte Aufgabe:
Zum einen drückt sie das äußere Ende der oberen Welle
18 nach oben, also die beiden äußeren Wellenenden aus
einander und damit die oberen Kontaktrollen 12 nach unten
gegen den oberen seitlichen Rand der Leiterplatten 1.
Zum anderen sorgt sie dafür, daß beide Bürstenringe
26 und 26a in der zur Funktion erforderlichen Weise
(vergl. oben) gegenüber den Wellen 16 bzw. 18, auf denen
sie axial verschiebbar sitzen, unverdrehbar sind.
Claims (14)
1. Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegen
stände, insbesondere von elektronischen Leiterplatten,
mit
- a) einer mit einem Elektrolyt befüllbaren Elektrolyse kammer;
- b) einer Fördereinrichtung, welche die plattenförmigen Gegenstände kontinuierlich durch die Elektrolysekammer hindurch befördert;
- c) mindestens einer in der Elektrolysekammer angeordneten Anode, die mit dem Pluspol einer Gleichstromquelle verbunden ist;
- d) einer Vielzahl drehbarer Kontaktrollen, die an minde
stens einem Rand der plattenförmigen Gegenstände
anliegen und denen jeweils zugeordnet sind:
- a) eine sich mitdrehende Welle;
- b) eine erste, sich mit der Welle drehende Kontakt fläche;
- c) ein unverdrehbares Bürstenteil, welches mit einer zweiten Kontaktfläche elastisch an die erste Kontaktfläche angedrückt wird und mit dem Minuspol der Gleichspannungsquelle verbunden ist,
- a) die erste und die zweite Kontaktfläche (25, 27) bezogen auf die Welle (16, 18) radial verlaufen;
- b) das Bürstenteil (26) bezogen auf die Welle (16, 18) in axialer Richtung elastisch auf die erste Kontakt fläche (25) gedrückt wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Kontaktfläche (25) an einem Kontaktring
(24) vorgesehen ist, der fest mit der Welle (16, 18)
verbunden ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der Kontaktring (24) mit der Welle (16, 18)
einstückig ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der Kontaktring (24) auf die Welle (16, 18)
aufgeschrumpft ist.
5. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß der Kontaktring (24) auf die Welle (16, 18)
aufgeschraubt ist.
6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Kontaktring (24)
aus Titan besteht.
7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bürstenteil ein
Bürstenring (26) ist, der axial auf der Welle (16, 18)
verschiebbar ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Bürstenring (26) und einer am Ende
der Welle (16, 18) befestigten Scheibe (29) eine Druck
feder (28) angeordnet ist.
9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Bürstenteil (26)
aus Kupfer besteht.
10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
bei welcher jeweils ein Satz von Kontaktrollen an
der Oberseite und an der Unterseite der plattenförmigen
Gegenstände angreift, wobei der obere Satz von Kontakt
rollen mit den zugehörigen Wellen in einer Ebene senk
recht zur Förderrichtung um einen gewissen Winkel ver
schwenkbar ist, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils
ein einer oberen Kontaktrolle (12) zugeordnetes Bürsten
teil (26a) mit einem einer unteren Kontaktrolle (11)
zugeordneten Bürstenteil (26) über eine Feder (32) ver
bunden ist, welche die beiden Bürstenteile (26a, 26)
auseinanderdrückt und gleichzeitig deren Verdrehung
verhindert.
11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß jedes Bürstenteil (26)
über eine ummantelte Kupferlitze (30) mit einer Strom
schiene (31) verbunden ist, die sich entlang der Vor
richtung in Förderrichtung erstreckt.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die Stromschiene (31) einen Kern aus Kupfer
und einen Mantel aus elektrolyt-beständigem Material,
vorzugsweise Titan, umfaßt.
13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite
Kontaktfläche (25, 27) innerhalb eines Abschirmkastens
(19) angeordnet sind, in welche die äußeren Enden (16a)
der Wellen (16) hineinragen.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,
daß an den Eintrittsstellen der Wellen (16, 18)
in den Abschirmkasten (19) und an den Austrittsstellen
der Wellen (16) aus dem Maschinenrahmen (3) Dichtungen
(20 bis 23) vorgesehen sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934301742 DE4301742C2 (de) | 1993-01-23 | 1993-01-23 | Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektronischen Leiterplatten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934301742 DE4301742C2 (de) | 1993-01-23 | 1993-01-23 | Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektronischen Leiterplatten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4301742A1 DE4301742A1 (de) | 1994-07-28 |
DE4301742C2 true DE4301742C2 (de) | 1999-07-08 |
Family
ID=6478751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19934301742 Expired - Fee Related DE4301742C2 (de) | 1993-01-23 | 1993-01-23 | Vorrichtung zum Galvanisieren plattenförmiger Gegenstände, insbesondere von elektronischen Leiterplatten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4301742C2 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10323660A1 (de) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Gebr. Schmid Gmbh & Co. | Einrichtung zur Behandlung von Gegenständen, insbesondere Galvanisierung für Leiterplatten |
DE102004025827B3 (de) * | 2004-05-24 | 2005-06-30 | Höllmüller Maschinenbau GmbH | Vorrichtung zum elektrischen Kontaktieren von ebenem Behandlungsgut in Durchlaufanlagen |
DE102009023763A1 (de) | 2009-05-22 | 2010-11-25 | Hübel, Egon, Dipl.-Ing. (FH) | Verfahren und Vorrichtung zum elektrolytischen Behandeln von hochohmigen Schichten |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004023909A1 (de) * | 2004-05-13 | 2005-12-08 | Atotech Deutschland Gmbh | Transportvorrichtung |
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DE3236545A1 (de) * | 1981-10-07 | 1983-05-05 | Chemcut Corp., State College, Pa. | Verfahren zum elektroplattieren und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
-
1993
- 1993-01-23 DE DE19934301742 patent/DE4301742C2/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
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DE4301742A1 (de) | 1994-07-28 |
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