DE4300516A1 - Leistungshalbleitermodul - Google Patents

Leistungshalbleitermodul

Info

Publication number
DE4300516A1
DE4300516A1 DE4300516A DE4300516A DE4300516A1 DE 4300516 A1 DE4300516 A1 DE 4300516A1 DE 4300516 A DE4300516 A DE 4300516A DE 4300516 A DE4300516 A DE 4300516A DE 4300516 A1 DE4300516 A1 DE 4300516A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
power semiconductor
contact
substrate
module
contact piece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE4300516A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4300516C2 (de
Inventor
Arno Dipl Phys Dr Neidig
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IXYS Semiconductor GmbH
Original Assignee
ABB IXYS Semiconductor GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ABB IXYS Semiconductor GmbH filed Critical ABB IXYS Semiconductor GmbH
Priority to DE4300516A priority Critical patent/DE4300516C2/de
Publication of DE4300516A1 publication Critical patent/DE4300516A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4300516C2 publication Critical patent/DE4300516C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L24/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/07Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
    • H01L25/072Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/34Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/39Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
    • H01L2224/40Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
    • H01L2224/401Disposition
    • H01L2224/40151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/40221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/40225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/84Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
    • H01L2224/848Bonding techniques
    • H01L2224/84801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/84Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Leistungshalbleitermo­ dul, das ein elektrisch isolierendes Substrat enthält, das wenigstens auf seiner oberen, dem Modulinneren zugewandten Hauptfläche metallisierte Flächen aufweist, auf denen Lei­ stungshalbleiterbauelemente aufgelötet sind, und das An­ schlußlaschen zur Bildung äußerer Modulanschlüsse aufweist.
Ein solches Leistungshalbleitermodul ist aus der DE-OS 37 17 489 bekannt. Als Substrat ist dort eine Keramikplatte eingesetzt, die zugleich den Boden des Moduls bildet. Die Keramikplatte trägt Leiterbahnen in Form von dünnen Kupfer­ blechen, die nach einem Direktverbindungsverfahren mit der Keramikplatte festhaftend verbunden sind. Das in solchen Modulen verwendete Kupferblech hat eine Dicke von einigen Zehntel Millimeter, typisch 0,3 mm. Die Dicke des Kupfer­ blechs kann nicht beliebig vergrößert werden, weil sonst zu hohe mechanische Spannungen in der Keramik entstehen können.
Die Anschlußlaschen für die äußeren Stromanschlüsse des Mo­ duls sind typisch aus einem 1 bis 2 mm dicken Blech herge­ stellt und mit ihrem Fußpunkt auf Flächen der Substratme­ tallisierung mit Weichlot aufgelötet. Ein bevorzugtes Ver­ fahren zum Auflöten der Anschlußlaschen ist die Impulslö­ tung. Zur Durchführung der Impulslötung wird ein Lötwerk­ zeug in das oben offene Modulgehäuse eingeführt. Die Abmes­ sungen der Elektroden des Lötwerkzeugs und damit der not­ wendige Platz im Modul, der den Zugang zur Lötstelle ermög­ licht, ist abhängig von der Größe der Lötfläche auf der Substratmetallisierung. Die realisierbare Fläche der Löt­ stelle ist deshalb auf relativ kleine Flächen begrenzt. Kleine Anschlußflächen auf einer dünnen Substratmetallisie­ rung führen aber zu einem geringen Stromspreizeffekt und damit zu einer geringen Stromtragfähigkeit des Moduls.
Eine Kontaktstelle mit der Fläche 5×6 mm2 kann z. B. zer­ stört werden, wenn kurzzeitig, d. h. etwa 10 ms lang ein Strom von 20 kA fließt. Ein Strom von dieser Größenordnung fließt z. B. im Kurzschlußfall, wenn keine Schmelzsicherun­ gen, sondern sogenannte Unterbrecher-Schütze den Strom ab­ schalten. Die Zerstörung der Kontaktstelle tritt durch Ver­ dampfen der Metallisierung in der Nähe der Kontaktstelle ein.
Weitere kritische Lötstellen im Modul sind solche, an denen Metallstücke, die einen unterschiedlichen Ausdehnungskoef­ fizienten haben, miteinander durch Weichlöten zu verbinden sind.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Leistungs­ halbleitermodul anzugeben, das in der oben beschriebenen Lötkontakttechnik ausgeführt ist, wobei Maßnahmen zur Ver­ besserung kritischer Lötkontaktstellen getroffen sind, ins­ besondere eine verbesserte Stromtragfähigkeit der Anschluß­ stellen der Modulanschlüsse erzielt ist.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Leistungshalbleitermo­ dul mit
  • - einem elektrisch isolierenden Substrat, das Metalli­ sierungen aufweist,
  • - Leistungshalbleiterbauelementen, die auf mit Metalli­ sierungen versehenen Flächen des Substrats aufgelötet sind, und
  • - Anschlußlaschen zur Bildung äußerer Modulanschlüsse, wobei im Modul wenigstens ein Kontaktstück als Verbindungs­ glied zwischen einer Anschlußlasche und einer Substratme­ tallisierung oder einem Leistungshalbleiterbauelement ein­ gesetzt ist.
Das erfindungsgemäß angeordnete Kontaktstück bewirkt quasi eine Lötflächentransformation, da es einerseits einen groß­ flächigen Lötkontakt auf einer relativ dünnen Substratme­ tallisierung ermöglicht und andererseits einen kleinflächi­ gen Lötkontakt zwischen zwei relativ dicken Metallstücken. Als Kontaktstück im Sinne der Erfindung kann auch ein im Modul als Verbindungsteil ohnehin benötigtes Metallteil ausgebildet werden.
Zur Vermeidung kritischer Lötkontaktstellen trägt die Anordnung eines Zwischenstücks zwischen einer an Silizium angepaßten Kontaktplatte oder Ausgleichsronde und einem Kontaktstück bei. Der Ausdehnungskoeffizient des Zwischen­ stücks ist an denjenigen des Kontaktstücks angepaßt, vor­ zugsweise durch Wahl desselben Materials. Die Kontaktplatte und das Zwischenstück sind durch Hartlöten miteinander ver­ bunden.
Eine ausführlichere Beschreibung der Erfindung erfolgt nachstehend anhand eines in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiels.
Es zeigen:
Fig. 1 ein bestücktes Substrat für ein Leistungshalb­ leitermodul,
Fig. 2 die elektrische Schaltung des Leistungshalblei­ termoduls gemäß Ausführungsbeispiel,
Fig. 3 einen Schnitt durch eine Ebene A′-A′′ die in Fig. 1 eingetragen ist,
Fig. 4 eine Detaildarstellung eines Kontaktstücks mit einer Anschlußlasche,
Fig. 5 einen Modulgehäuseteil mit eingesetztem Sub­ strat,
Fig. 6 einen Schnitt durch die Anordnung gemäß Fig. 5,
Fig. 7 eine Außenansicht des fertiggestellten Moduls, und
Fig. 8 eine Kontaktplatte mit Zwischenstück.
Die Zeichnungen beziehen sich alle auf ein Ausführungsbei­ spiel eines Leistungshalbleitermoduls, dessen elektrische Schaltung in Fig. 2 gezeigt ist. Die elektrische Schaltung ist eine Reihenschaltung zweier Dioden 3.1, 3.3, die eine in der Leistungselektronik als Teilbrückenschaltung häufig vorkommende Grundschaltung ist. Ein Leistungshalbleitermo­ dul, mit dem diese Grundschaltung realisiert ist, weist ne­ ben den Dioden 3.1, 3.2 noch Metallteile zur Herstellung der elektrischen Verbindungen und zur Schaffung äußerer Stromanschlüsse A, K, A-K auf.
Fig. 1 zeigt ein bestücktes Substrat 1, das für einen Ein­ bau in einen Modulgehäuserahmen 10 (siehe Fig. 5 und 6) aus Kunststoff vorbereitet ist. Das Substrat 1 ist sowohl auf seiner Unterseite als auch auf seiner Oberseite mit ei­ ner Metallisierung 2 versehen. Das Substrat 1 besteht im Ausführungsbeispiel aus einer Aluminiumoxidkeramik und hat die Abmessungen 47×65 mm2, kann aber auch aus einem anderen elektrisch isolierenden Material bestehen, und auch andere Abmessungen haben. Die Metallisierung 2 besteht aus etwa 0,3 mm dicken Kupferfolien, die unter Anwendung eines Di­ rektverbindungsverfahrens mit dem Keramiksubstrat 1 verbun­ den sind. Die Dicke der Kupferfolie liegt typisch im Be­ reich 0,25 bis 0,5 mm. Die obere Metallisierung 2 ist in mehrere Einzelflächen unterteilt, entsprechend den Erfor­ dernissen der elektrischen Schaltung, die mit dem Modul re­ alisiert wird. Auf solchen Einzelflächen der Metallisierung 2 sind die Diodenchips 3.1, 3.2 jeweils mit ihrer Anoden­ seite mittels Weichlot aufgelötet. Außerdem sind auf den Metallisierungsflächen 2 oder den Dioden 3.1, 3.2 aus etwa 1 bis 2 mm dickem Kupferblech bestehenden Kontaktstücke 4.1, 4.2, 4.3 mittels Weichlot aufgelötet.
Die Diodenchips 3.1, 3.2 haben im Ausführungsbeispiel Ab­ messungen von 29×23 mm2. Auf die Chips 3.1, 3.2 sind auf der in Fig. 1 jeweils oben liegenden Kathodenseite Kon­ taktplatten 7 aufgelötet. Der thermische Ausdehnungskoeffi­ zient der Kontaktplatten 7 ist weitgehend an denjenigen von Silizium angepaßt. Die Kontaktplatten 7 können z. B. aus Mo­ lybdän oder noch besser aus einem Trimetall aus Cu/NiFe/Cu hergestellt sein. Auf den Kontaktplatten 7 wurde in einem vorausgegangenen Montageschritt, also vor dem Auflöten der Kontaktplatten 7 auf den Diodenchips 3.1, 3.2, jeweils ein Zwischenstück 6 (siehe Fig. 3 und 8) aus Kupfer mittels Hartlot auf der Oberseite der Kontaktplatten 7 aufgebracht. Durch die Anordnung des hartgelöteten Zwischenstücks 6 wird eine Weichlotverbindung zwischen Materialien mit unter­ schiedlichem Ausdehnungsvermögen, also z. B. eine Weichlot­ verbindung zwischen Molybdän und Kupfer, vermieden. Dies ist von Bedeutung, da zur Erlangung geringer Innenwider­ stände der Kathodenstrom mittels massiver Kupferteile weitergeleitet werden muß.
In Fig. 3 ist ein auf die Kontaktplatte 7 stumpfaufgelö­ tetes Zwischenstück 6 gezeigt. Bei der Formgebung und An­ ordnung des Zwischenstücks kam es ferner darauf an, die Verwölbung der Kontaktplatte möglichst gering zu halten. Dies wurde erreicht, indem das Zwischenstück 6 zentral so auf der Kontaktplatte 7 angeordnet wird, daß die Strom­ spreizung radial nach allen Seiten erfolgt. Die Fläche der Stromeinspeisung in die Kontaktplatte muß für die Strombe­ lastung groß genug sein, aber andererseits so klein, daß es nicht zur bimetallähnlichen Verspannung der Kontaktplatte 7 kommt. In Fig. 8 ist eine vorteilhafte Gestaltung des Zwi­ schenstücks 6 dargestellt. Das Zwischenstück 6 ist als zy­ linderartiges Drehteil mit einer oberen Platte 6.1 gestal­ tet. Es steckt in einer zentralen Öffnung 25 in der Kon­ taktplatte 7 aus Trimetall. Der Zylinderteil 6.2 des Zwi­ schenstücks 6 kontaktiert dabei die obere und untere Kupferschicht in der Kontaktplatte 7 und ist mit der Kon­ taktplatte 7 hart verlötet.
Ein erstes Kontaktstück 4.1 ist als Bindeglied zwischen dem Kathodenanschluß (siehe Fig. 3) der ersten Diode 3.1 und einer ersten Anschlußlasche 8.1 (siehe Fig. 5) für den Mo­ dulanschluß K angeordnet. Das Kontaktstück 4.1 ist mittels Weichlot mit dem Kathodenanschluß der Diode 3.1 verbunden.
Das zweite Kontaktstück 4.2 ist Bindeglied zwischen einer mit der Anode der ersten Diode 3.1 verbundenen Metallisie­ rungsfläche 2 und einer zweiten Anschlußlasche 8.2 (siehe Fig. 5) für den Modulanschluß A-K. Außerdem ist das zweite Kontaktstück 4.2 Verbindungsglied zwischen der Anode der ersten Diode 3.1 und dem Kathodenanschluß der zweiten Diode 3.2.
Das dritte Kontaktstück 4.3 ist Bindeglied zwischen einer mit der Anode der zweiten Diode 3.2 verbundenen Metallisie­ rung 2 und einer dritten Anschlußlasche 8.3 für den Modul­ anschluß A.
Alle Kontaktstücke 4.1, 4.2, 4.3 tragen auf ihrer Oberseite eine Weichlotschicht 5 auf einer Fläche, die für den An­ schluß einer Anschlußlasche 8.1, 8.2, 8.3 im Impulslöt­ verfahren vorgesehen ist.
Fig. 3 zeigt einen Schnitt durch eine in Fig. 1 eingetra­ gene Ebene A′-A′′, anhand dessen weitere Einzelheiten er­ läutert werden. In Fig. 3 ist das Substrat 1 mit der strukturierten Metallisierung 2 auf der Oberseite und einer ganzflächen Metallisierung 2 auf der Unterseite darge­ stellt. Auf einer Teilfläche der Metallisierung 2 ist die erste Diode 3.1 mit der Anodenseite mittels Weichlot auf­ gelötet. Ebenfalls mittels Weichlot ist auf der Kathode der Diode 3.1 eine Kathodenplatte 7 aus Trimetall aufgelötet. Über eine Hartlotverbindung 12 ist ein Zwischenstück 6 aus Kupfer mit dem Kontaktstück 7 verbunden. Das Zwischenstück 6 ist mittels Weichlot mit dem ersten Kontaktstück 4.1 ver­ bunden. Ein in Fig. 3 auf der rechten Seite befindliches Ende des Kontaktstücks 4.1 ist nach unten gebogen und liegt dort auf einer mit Bezugszeichen 9 versehenen Teilfläche der Metallisierung 2 auf. Das Kontaktstück muß nicht durch eine Lötschicht mit der Metallisierung 2 verbunden sein, da an dieser Stelle kein Strom fließt. Ein nicht angelötetes Ende des Kontaktstückes kann als Dehnungsausgleich dienen und vermeidet eine Verspannung und Wölbung des Substrats 1.
Fig. 4 zeigt in einer Detaildarstellung das dritte Kon­ taktstücke 4.3 mit der Lotschicht 5 und darüber die dritte Anschlußlasche 4.3 noch vor dem Anlöten. Der obere, mit ei­ nem Loch 13 zur Durchführung einer Stromanschlußschraube versehene Teil der Lasche 8.3 wird vor der Montage im Modul und dem Impulslötvorgang noch um 90° gebogen, damit die La­ sche 8.3 mit dem Loch 13 im fertigen Zustand des Moduls (siehe Fig. 7) über einer Anschlußmutter 15 liegt, die sich in einem Gehäusedeckel 11 befindet.
Das Kontaktteil 4.3 hat im dargestellten Beispiel die Form eines C. Es wird mit den nach innen gebogenen Füßen auf die Metallisierung 2 des Substrats 1 (siehe Fig. 1) gelötet. Je nach Anforderungen und Platzverhältnissen kann das Kon­ taktstück auch andere Formen haben.
Fig. 5 zeigt eine Draufsicht auf einen Modulgehäuserahmen 10 aus Kunststoff, der eine in Fig. 6 sichtbare Ausnehmung in seiner Bodenebene hat, in die das bestückte Substrat 1 eingesetzt ist. Die weiteren Ausführungen beziehen sich sowohl auf die Fig. 5 als auch auf die Fig. 6, die einen Schnitt durch die Anordnung gemäß Fig. 5 in einer Ebene B′-B′′ zeigt.
Der Modulgehäuserahmen 10 weist Befestigungsflansche 16 mit Befestigungslöchern 17 auf. Außerdem hat der Rahmen 10 Ver­ strebungen 18 mit angeformten Stützen 19. Die Stützen 19 drücken im fertigmontierten Zustand des Moduls auf die Kon­ taktplatten 7 und verhindern damit eine nach innen gerich­ tete Wölbung des Substrats 1. Mit fertigmontiertem Zustand ist eine Anordnung gemeint, in der das Modul auf einem nicht dargestellten Kühlkörper montiert ist mittels Schrau­ ben, die durch die Befestigungslöcher 17 geführt sind. Im montierten Zustand werden Druckkräfte von dem Gehäuserahmen 10 sowie über die Verstrebungen 18 und Stützen 19 auf das Substrat 1 und die Bestückungselemente 3.1, 3.2 übertragen. Der Gehäuserahmen 10 liegt nicht direkt auf dem Rand des Substrats 1 auf. Das Substrat 1 befindet sich in einer Aus­ nehmung 20 in der Bodenebene des Rahmens 10. Es besteht eine elastische Verbindung zwischen Substratrand und Gehäuserahmen, die vorzugsweise mittels einer etwa 0,5 bis 1 mm dicken Klebstoffraupe aus elastischem Silikon herge­ stellt ist. Die Verbindung dient hauptsächlich der Abdich­ tung. Das metallisierte Substrat 1 steht leicht, d. h. etwa 0,1 mm über der Bodenebene des Rahmens 10 über und wird da­ durch federnd auf den Kühlkörper gedrückt.
In Fig. 5 sind die Verstrebungen 18 durch eine Schraffur hervorgehoben, obwohl es sich nicht um Schnittflächen han­ delt.
In den Fig. 5 und 6 ist der Modulanschluß A-K zu erken­ nen, der gebildet ist durch die zweite Anschlußlasche 8.2 mit dem Loch 13 und einer darunter in einer Tasche 21 des Gehäuserahmens 10 befindlichen Mutter 15.
Fig. 7 zeigt eine äußere Ansicht des Moduls nach dem ein Gehäusedeckel 11 auf dem Gehäuserahmen 10 aufgesetzt ist und das Modul mit Vergußmasse 14 gefüllt ist. Durch den Deckel 11 sind die Anschlußlaschen 8.1 und 8.3 für die Mo­ dulanschlüsse A und K geführt. Unterhalb der Laschen 8.1 und 8.3 befinden sich in Fig. 7 nicht sichtbare Muttern, die in Taschen des Deckels liegen. Der Deckel 11 hat Öff­ nungen 22, die geeignet sind zur Einführung eines Impuls­ lötwerkzeugs und zum Einfüllen von Vergußmasse 14.
Die Herstellung des in den Fig. 1 bis 7 dargestellten Moduls kann auf nachstehende Weise erfolgen. Ein Keramik­ substrat 1, das z. B. aus Aluminiumoxid besteht, wird unter Verwendung eines Direktverbindungsverfahrens mit einer Me­ tallisierung 2 aus Kupferblechen oder Kupferfolien verse­ hen. Die Metallisierung 2 wird chemisch vernickelt mit einer Schichtdicke von einigen Mikrometern. Mit Hilfe einer Löt­ form wird das in Fig. 1 gezeigte, mit Bestückungselementen versehene Substrat 1 in einem Durchlaufofen mit Schutzgas­ atmosphäre gelötet. In diesem Lötprozeß werden auch die in Fig. 1 mit Bezugszeichen 5 versehenen Lotschichten auf den Kontaktstücken 4.1, 4.2, 4.3 aufgebracht, also diese Kon­ taktstücke mit Weichlot benetzt. Das bestückte und gelötete Substrat 1 wird anschließend in die Ausnehmung 20 des Ge­ häuserahmens 10 eingeklebt, wie oben näher beschrieben ist. Im folgenden Fertigungsschritt wird die zweite Anschlußla­ sche 8.2 für den Modulanschluß A-K in die Führungsvertie­ fung 23 eingelegt und mit dem zweiten Kontaktstück 4.2 verlötet. Dies geschieht mittels Impulslötung, bei der der Laschenfuß kurzzeitig auf eine hohe Temperatur erwärmt wird und das auf dem Kontaktstück befindliche Lot zum Aufschmel­ zen bringt. Die Laschen 8.1 bis 8.3 werden vor dem Anlöten galvanisch verzinnt, um ein gutes Benetzungsverhalten zu erzielen.
Der Gehäusedeckel 11 weist Taschen auf, in die M8-Muttern für Stromanschlußschrauben eingelegt werden und außerdem Schlitze 24, durch die vorgebogene Anschlußlaschen 8.1 und 8.3 gesteckt werden. Der Deckel 11 wird mit den eingehäng­ ten Laschen 8.1, 8.3 auf den Gehäuserahmen 10 aufgesetzt und mit diesem verklebt. Die Laschen 8.1 und 8.3 werden an­ schließend mit dem jeweiligen Kontaktstück 4.1 bzw. 4.3 mittels Impulslötung verbunden. Dazu wird ein Impulslöt­ werkzeug durch Öffnungen 22 im Deckel 11 geführt. In einem letzten Herstellungsschritt wird Vergußmasse 14 durch die Öffnungen 22 eingefüllt.
Als weitere vorteilhafte Ausgestaltung ist es möglich, Ge­ häusedeckel 11 und Gehäuserahmen 10 als einstückiges Teil zu fertigen. Dann wird die zweite Anschlußlasche 8.2 im einstückigen Gehäuse vorbestückt, bevor das Substrat 1 in die Ausnehmung 20 eingeklebt wird.
In Versuchen mit Modulen gemäß Ausführungsbeispiel hat sich gezeigt, daß eine Stromtragfähigkeit über 25 kA während 10 ms gegeben ist, ohne daß dabei die 0,3 mm dicke Kupfer­ metallisierung 2 und die Zwischenstücke 6 gemäß Fig. 8 zerstört werden.
Bezugszeichenliste
1 Substrat
2 Metallisierung
3.1 erste Diode
3.2 zweite Diode
4.1 erstes Kontaktstück
4.2 zweites Kontaktstück
4.3 drittes Kontaktstück
5 Weichlotschicht
6 Zwischenstück
6.1 Platte
6.2 Zylinderteil
7 Kontaktplatte
8.1 erste Anschlußlasche
8.2 zweite Anschlußlasche
8.3 dritte Anschlußlasche
9 Auflagefläche
10 Modulgehäuserahmen
11 Gehäusedeckel
12 Hartlotverbindung
13 Loch
14 Vergußmasse
15 Anschlußmutter
16 Befestigungsflansch
17 Befestigungsloch
18 Verstrebung
19 Stütze
20 Ausnehmung
21 Tasche
22 Einfüllöffnung
23 Führungsvertiefung
24 Schlitz
25 Öffnung
A Anoden-Modulanschluß
A-K Anoden/Kathoden-Modulanschluß
K Kathoden-Modulanschluß

Claims (5)

1. Leistungshalbleitermodul mit
  • - einem elektrisch isolierenden Substrat, das Metalli­ sierungen aufweist,
  • - Leistungshalbleiterbauelementen, die auf mit Metalli­ sierungen versehenen Flächen des Substrats aufgelötet sind, und
  • - Anschlußlaschen zur Bildung äußerer Modulanschlüsse, dadurch gekennzeichnet, daß im Modul wenigstens ein Kon­ taktstück (4.1, 4.2, 4.3) als Verbindungsglied zwischen einer Anschlußlasche (8.1, 8.2, 8.3) und einer Substratmetallisie­ rung (2) oder einem Leistungshalbleiterbauelement (3.1, 3.2) eingesetzt ist.
2. Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Leistungshalbleiterbauelemente (3.1, 3.2), die mit einem Kontaktstück (4.1, 4.2, 4.3) zu ver­ binden sind, auf der zu kontaktierenden Elektrode eine mit­ tels Weichlot aufgelötete Kontaktplatte (7) aufweisen, auf der ein Zwischenstück (6) zentral angeordnet ist, das mit­ tels Hartlot mit der Kontaktplatte (7) und mittels Weichlot mit dem Kontaktstück (4.1) verbunden ist und aus dem glei­ chen oder bezüglich des Ausdehnungskoeffizienten ähnlichen Material wie das Kontaktstück (4.1, 4.2, 4.3) besteht.
3. Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das metallisierte Substrat (1, 2) eine Keramikplatte mit direkt damit verbundenen Kup­ ferblechen ist.
4. Leistungshalbleitermodul nach einem der vorstehen­ den Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Modul ein Kunststoffgehäuse (10, 11) aufweist, in das das bestückte Substrat (1) als Bodenplatte eingesetzt ist.
5. Leistungshalbleitermodul nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Kunststoffgehäuse (10, 11) ein rah­ menförmiges Gehäuseteil (10) aufweist, in dessen Bodenebene das Substrat (1) in einer Ausnehmung (20) so eingesetzt ist, daß es etwa 0,1 mm weit über der Bodenebene hervor­ steht und daß der Gehäuserahmen (10) Verstrebungen (18) mit angeformten Stützen (19) hat.
DE4300516A 1993-01-12 1993-01-12 Leistungshalbleitermodul Expired - Lifetime DE4300516C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4300516A DE4300516C2 (de) 1993-01-12 1993-01-12 Leistungshalbleitermodul

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4300516A DE4300516C2 (de) 1993-01-12 1993-01-12 Leistungshalbleitermodul

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4300516A1 true DE4300516A1 (de) 1994-07-14
DE4300516C2 DE4300516C2 (de) 2001-05-17

Family

ID=6477987

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4300516A Expired - Lifetime DE4300516C2 (de) 1993-01-12 1993-01-12 Leistungshalbleitermodul

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4300516C2 (de)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10213648A1 (de) * 2002-03-27 2003-10-23 Semikron Elektronik Gmbh Leistungshalbleitermodul
DE102004035746A1 (de) * 2004-07-23 2006-02-16 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH Leistungshalbleitermodul
DE102004057421B4 (de) * 2004-11-27 2009-07-09 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Druckkontaktiertes Leistungshalbleitermodul für hohe Umgebungstemperaturen und Verfahren zu seiner Herstellung
US7642640B2 (en) 2004-11-01 2010-01-05 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device and manufacturing process thereof
EP2302674A1 (de) * 2009-09-29 2011-03-30 ABB Research Ltd. Elektrisches Endgerät, elektronisches Schaltmodul mit einem elektrischen Endgerät und entsprechendes Verfahren zur Herstellung davon
WO2011036307A1 (en) 2009-09-28 2011-03-31 Abb Technology Ag Circuit arrangement and manufacturing method thereof
DE102005047566C5 (de) * 2005-10-05 2011-06-09 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Anordnung mit einem Leistungshalbleiterbauelement und mit einem Gehäuse sowie Herstellungsverfahren hierzu
EP2685492A1 (de) * 2012-07-09 2014-01-15 SEMIKRON Elektronik GmbH & Co. KG Leistungshalbleitermodul mit mindestens einem stressreduzierenden Anpasselement
DE102006014145C5 (de) * 2006-03-28 2015-12-17 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Druck kontaktierte Anordnung mit einem Leistungsbauelement, einem Metallformkörper und einer Verbindungseinrichtung
EP3021358A4 (de) * 2013-07-10 2017-11-22 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Leistungshalbleitermodul

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8203300U1 (de) * 1982-06-24 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Halbleiterbauelement mit Keramiksubstrat
DE3505086A1 (de) * 1985-02-14 1986-08-28 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Leistungshalbleitermodul mit einem kunststoffgehaeuse
DE8701935U1 (de) * 1987-02-09 1987-04-09 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De
DE3127458C2 (de) * 1981-07-11 1987-06-25 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim, De
DE3610288A1 (de) * 1986-03-26 1987-10-01 Bbc Brown Boveri & Cie Leistungshalbleitermodul
DE3717489A1 (de) * 1987-05-23 1988-12-01 Asea Brown Boveri Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls
DE3528427C2 (de) * 1985-08-08 1989-04-06 Asea Brown Boveri Ag, 6800 Mannheim, De
DE3837920A1 (de) * 1988-11-09 1990-05-10 Semikron Elektronik Gmbh Halbleiterelement
EP0381849A1 (de) * 1989-02-07 1990-08-16 Asea Brown Boveri Ag Schnelle Leistungshalbleiterschaltung
DE4020577A1 (de) * 1989-06-28 1991-01-10 Hitachi Ltd Halbleiteranordnung
DE9017042U1 (de) * 1990-12-18 1991-03-07 Akyuerek, Altan, Dipl.-Ing., 8560 Lauf, De
EP0459283A1 (de) * 1990-05-29 1991-12-04 Daimler-Benz Aerospace Aktiengesellschaft Halbleiterbauelement, befestigt an einem keramischen Substrat
EP0468475A1 (de) * 1990-07-26 1992-01-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Leistungshalbleiteranordnung, geeignet zur Automation der Herstellung
DE4130637A1 (de) * 1990-10-11 1992-04-16 Abb Patent Gmbh Verfahren zur herstellung eines verbindungselements fuer eine verwendung in leistungshalbleitermodulen
DE9203000U1 (de) * 1992-03-06 1992-06-17 Eupec Europaeische Gesellschaft Fuer Leistungshalbleiter Mbh + Co.Kg, 4788 Warstein, De
US5148264A (en) * 1990-05-02 1992-09-15 Harris Semiconductor Patents, Inc. High current hermetic package

Patent Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE8203300U1 (de) * 1982-06-24 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Halbleiterbauelement mit Keramiksubstrat
DE3127458C2 (de) * 1981-07-11 1987-06-25 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim, De
DE3505086A1 (de) * 1985-02-14 1986-08-28 Brown, Boveri & Cie Ag, 6800 Mannheim Leistungshalbleitermodul mit einem kunststoffgehaeuse
DE3528427C2 (de) * 1985-08-08 1989-04-06 Asea Brown Boveri Ag, 6800 Mannheim, De
DE3610288A1 (de) * 1986-03-26 1987-10-01 Bbc Brown Boveri & Cie Leistungshalbleitermodul
DE8701935U1 (de) * 1987-02-09 1987-04-09 Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen, De
DE3717489A1 (de) * 1987-05-23 1988-12-01 Asea Brown Boveri Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls
DE3837920A1 (de) * 1988-11-09 1990-05-10 Semikron Elektronik Gmbh Halbleiterelement
EP0381849A1 (de) * 1989-02-07 1990-08-16 Asea Brown Boveri Ag Schnelle Leistungshalbleiterschaltung
DE4020577A1 (de) * 1989-06-28 1991-01-10 Hitachi Ltd Halbleiteranordnung
US5148264A (en) * 1990-05-02 1992-09-15 Harris Semiconductor Patents, Inc. High current hermetic package
EP0459283A1 (de) * 1990-05-29 1991-12-04 Daimler-Benz Aerospace Aktiengesellschaft Halbleiterbauelement, befestigt an einem keramischen Substrat
EP0468475A1 (de) * 1990-07-26 1992-01-29 Kabushiki Kaisha Toshiba Leistungshalbleiteranordnung, geeignet zur Automation der Herstellung
DE4130637A1 (de) * 1990-10-11 1992-04-16 Abb Patent Gmbh Verfahren zur herstellung eines verbindungselements fuer eine verwendung in leistungshalbleitermodulen
DE9017042U1 (de) * 1990-12-18 1991-03-07 Akyuerek, Altan, Dipl.-Ing., 8560 Lauf, De
DE9203000U1 (de) * 1992-03-06 1992-06-17 Eupec Europaeische Gesellschaft Fuer Leistungshalbleiter Mbh + Co.Kg, 4788 Warstein, De

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10213648A1 (de) * 2002-03-27 2003-10-23 Semikron Elektronik Gmbh Leistungshalbleitermodul
DE10213648B4 (de) * 2002-03-27 2011-12-15 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul
DE102004035746A1 (de) * 2004-07-23 2006-02-16 eupec Europäische Gesellschaft für Leistungshalbleiter mbH Leistungshalbleitermodul
DE102004035746B4 (de) * 2004-07-23 2009-04-16 Infineon Technologies Ag Leistungshalbleitermodul
DE102005050330B4 (de) * 2004-11-01 2015-03-12 Mitsubishi Denki K.K. Leistungshalbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
US7642640B2 (en) 2004-11-01 2010-01-05 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor device and manufacturing process thereof
DE102004057421B4 (de) * 2004-11-27 2009-07-09 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Druckkontaktiertes Leistungshalbleitermodul für hohe Umgebungstemperaturen und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102005047566C5 (de) * 2005-10-05 2011-06-09 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Anordnung mit einem Leistungshalbleiterbauelement und mit einem Gehäuse sowie Herstellungsverfahren hierzu
DE102006014145C5 (de) * 2006-03-28 2015-12-17 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Druck kontaktierte Anordnung mit einem Leistungsbauelement, einem Metallformkörper und einer Verbindungseinrichtung
WO2011036307A1 (en) 2009-09-28 2011-03-31 Abb Technology Ag Circuit arrangement and manufacturing method thereof
EP2302674A1 (de) * 2009-09-29 2011-03-30 ABB Research Ltd. Elektrisches Endgerät, elektronisches Schaltmodul mit einem elektrischen Endgerät und entsprechendes Verfahren zur Herstellung davon
DE102012211952A1 (de) * 2012-07-09 2014-01-30 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul mit mindestens einem stressreduzierenden Anpasselement
EP2685492A1 (de) * 2012-07-09 2014-01-15 SEMIKRON Elektronik GmbH & Co. KG Leistungshalbleitermodul mit mindestens einem stressreduzierenden Anpasselement
DE102012211952B4 (de) 2012-07-09 2019-04-25 Semikron Elektronik Gmbh & Co. Kg Leistungshalbleitermodul mit mindestens einem stressreduzierenden Anpasselement
EP3021358A4 (de) * 2013-07-10 2017-11-22 Hitachi Automotive Systems, Ltd. Leistungshalbleitermodul

Also Published As

Publication number Publication date
DE4300516C2 (de) 2001-05-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0221399B1 (de) Leistungshalbleitermodul
EP0069901B1 (de) Stromrichtermodul
DE102009044641B4 (de) Einrichtung mit einem Halbleiterchip und Metallfolie sowie ein Verfahren zur Herstellung der Einrichtung
DE102009042320B4 (de) Halbleiter-Anordnung mit einem Leistungshalbleiterchip, Halbbrückenschaltung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-Anordnung
WO2003098666A2 (de) Hochfrequenz-leistungshalbleitermodul mit hohlraumgehäuse sowie verfahren zu dessen herstellung
DE3616494A1 (de) Integrierte schaltungspackung und verfahren zur herstellung einer integrierten schaltungspackung
DE102016104844B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Chipverbunds
DE102013216709B4 (de) Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer anzahl von chipbaugruppen und verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung
WO1996001497A1 (de) Verfahren zur herstellung einer dreidimensionalen schaltungsanordnung
EP0152818A2 (de) Leistungshalbleitermodul
DE102009016649A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren mit einem ersten und zweiten Träger
DE4300516C2 (de) Leistungshalbleitermodul
DE3717489A1 (de) Leistungshalbleitermodul und verfahren zur herstellung des moduls
DE19507547C2 (de) Verfahren zur Montage von Chips
DE102013217801B4 (de) Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer anzahl von chipbaugruppen, verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung und verfahren zum betrieb einer halbleiteranordnung
EP1595287B1 (de) Elektronisches bauteil mit halbleiterchip und verfahren zur herstellung desselben
DE3432449C2 (de)
DE102013217802A1 (de) Halbleiteranordnung, verfahren zur herstellung einer halbleiterbaugruppe, verfahren zur herstellung einer halbleiteranordnung und verfahren zum betrieb einer halbleiteranordnung
DE102019135373A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen derselben
DE2615758A1 (de) Verfahren zur herstellung einer anordnung fuer das packen monolithisch integrierter schaltungen
EP0424647B1 (de) Leistungshalbleiterbauelement mit Trägerplatten
DE102004030383A1 (de) Bondfolie und Halbleiterbauteil mit Bondfolie sowie Verfahren zu deren Herstellung
EP1298723A2 (de) Elektronisches Bauteil mit einem Kunststoffgehäuse und Komponenten eines Systemträgers und Verfahren zu deren Herstellung
WO2003071601A2 (de) Schaltungsmodul und verfahren zu seiner herstellung
DE102019105123B4 (de) Halbleiteranordnung, laminierte Halbleiteranordnung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
8120 Willingness to grant licences paragraph 23
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: IXYS SEMICONDUCTOR GMBH, 68623 LAMPERTHEIM, DE

8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right
R071 Expiry of right
R082 Change of representative

Representative=s name: OPPERMANN, FRANK, DIPL.-ING., DE