DE4124871A1 - Messvorrichtung in einem abtastsonden-mikroskop - Google Patents
Messvorrichtung in einem abtastsonden-mikroskopInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Meßvorrichtung in einem Abtast
sonden-Mikroskop, nach dem Oberbegriff des Anspruches 1 bzw.
4.
Typische bekannte Abtastsonden-Mikroskope sind unter anderem
Abtast-Tunnelmikroskope (STM = scanning tunneling micros
cope) und Atomkraftmikroskope (AFM = atomic force micros
cope).
Das STM ist eine Meßvorrichtung für Oberflächenkonfiguratio
nen, bei der eine elektrisch leitfähige angespitzte Sonde
nahe an eine elektrisch leitfähige Probe im Abstand von ei
nigen wenigen Å herangebracht wird, so daß ein Tunnelstrom
auftritt, wenn eine Vorspannung an die Sonde und die Probe
angelegt wird. Für gewöhnlich wird beim STM die Distanz zwi
schen Sonde und Probe servogesteuert, um sie konstant zu
halten, wenn die Sonde die Oberfläche der Probe abtastet.
Ein mit einer Hochspannung betriebenes piezoelektrisches
Element wird für gewöhnlich verwendet, die Abtastung und die
Servosteuerung der Sonde durchzuführen.
Der Tunnelstrom wird über eine Sondenelektrode erfaßt, wel
che an dem piezoelektrischen Element angeordnet ist, wobei
ein Isolatorbauteil zwischengeschaltet ist. Eine Servospan
nung entsprechend der Konfiguration der Probenoberfläche
wird dem piezoelektrischen Element zugeführt, so daß die
Sonde die Probenoberfläche mit einer konstanten Distanz ab
tasten kann. Das isolierende Bauteil ist zwischen die Son
denelektrode und eine Treiberelektrode des piezoelektrischen
Elementes geschaltet, an welche die Servospannung angelegt
wird und zwischen der Treiberelektrode und der Sondenelek
trode wird somit eine Kapazität gebildet. Wenn demzufolge
eine Servospannung, welche sich zeitlich ändert an die Trei
berelektrode des piezoelektrischen Elementes angelegt wird,
fließt ein elektrischer Strom an die Sondenelektrode nach
dem Prinzip, als wenn eine Wechselspannung an die Elektrode
der Kapazität angelegt werden würde. Dies wiederum verhin
dert präzise Meßvorgänge.
Um dieses Problem zu lösen, schlägt die JP-OS 2-1 34 837 (ba
sierend auf der US-Anmeldung 5 89 491) ein Verfahren vor, bei
dem eine auf Masse gelegte Gürtelelektrode (girdling elec
trode) zwischen der Sondenelektrode und dem piezoelektri
schen Element unter Zwischenschaltung eines Isolierbereiches
vorgesehen ist, sowie ein Verfahren zur Bereitstellung einer
derartigen Gürtelelektrode an einen piezoelektrischen Ele
ment selbst, so daß das piezoelektrische Element auf Masse
gelegt oder geerdet wird.
Diese Verfahren sind vorteilhaft im Falle des Anlegens einer
konstanten Vorspannung an die Sonde oder im Falle des Anle
gens einer modulierten Vorspannung an die Probe, wobei die
Sonde virtuell auf Masse gelegt ist, so daß eine lokale
elektrische Charakteristik der Probe auf der Grundlage eines
Tunnelstroms gemessen wird (auch bekannt unter dem Begriff
Abtasttunnel-Spektroskopie oder STS = scanning tunneling
spectroscopy). Wenn es jedoch nötig ist, die Probe auf Mas
sepotential oder einem festen Potential zu halten, wie im
Falle eines Flüssig-STM, wird eine Vorspannung der Sonde zu
geführt. Wenn in diesem Falle eine STS-Messung durchgeführt
wird, bei der eine Vorspannung an die Sonde moduliert ist,
fließt ein elektrischer Strom an die Sondenelektrode über
das Isolierteil zwischen der Sondenelektrode und der Gürtel
elektrode, da die Gürtelelektrode auf Massepotential liegt.
Dieser elektrische Strom wird fehlerhaft als Tunnelstrom de
tektiert und eine exakte STM-Messung kann nicht durchgeführt
werden.
Bei einem AFM ist der verwendete Auslegerarm ungefähr 100 µm
bis 2000 µm lang und aus elastischem Material gefertigt, wo
bei der Ausleger einen freien Endabschnitt aufweist, der mit
einer angespitzten Sonde ausgestattet ist. Die Sonde wird
der Probe angenähert und eine Anziehungskraft, wie bei
spielsweise eine Adsorptionskraft oder eine Van der Waalsche
Kraft tritt zwischen dem Atom an der Sondenspitze und dem
der Probenoberfläche auf. Auf der Grundlage der Auslenkung
des Auslegers aufgrund der Anziehungskraft läßt sich eine
lokale Konfiguration und/oder Charakteristik der Probe mes
sen.
Zusätzlich zu dem erwähnten Modus mit der Anziehungskraft
weist das AFM noch einen Modus mit einer Abstoßungskraft auf
der Grundlage einer zwischenatomaren Abstoßungskraft (basie
rend auf dem Pauli-Prinzip) auf, welche zwischen einem Atom
in der Sondenspitze und einem Atom der Probe wirkt. Im Modus
der Anziehungskraft wird die Kraft von 10-7 bis 10-12 N auf
der Grundlage der Auslenkung des Auslegers detektiert und im
Modus der Abstoßungskraft wird die Kraft von 10-7 oder mehr
auf ähnliche Weise detektiert.
Im Modus der Abstoßungskraft ist das, was von dem AFM haupt
sächlich zu messen ist, eine zwischenatomare Kraft zwischen
nur den benachbartsten Atomen in der Sondenspitze und der
Probe. Mit anderen Worten, obwohl eine Anziehungskraft zwi
schen den Atomen neben diesen benachbartsten Atomen wirkt,
ist die Anziehungskraft viel schwächer als die Abstoßungs
kraft und somit praktisch vernachlässigbar.
Andererseits liegt im Modus mit der Anziehungskraft eine
Kraft vor, welche die Auslenkung des Auslegers beeinflußt
und welche keine zwischenatomare Kraft ist. Ein Beispiel
hierfür ist eine sogenannte Meniskus-Kraft, die auftritt,
wenn Wassermoleküle sich zwischen der Sonde und der Probe
aufhalten.
S. Manne und P. K. Hamsma et al. der California University,
Barkley beschreiben in "Imaging metal atoms in air and water
using the atomic force microscope" Appl. Phys. Lett. 56 (18),
30. April 1990 ein wirksames Verfahren zum Einbringen einer
Sonde und eines Auslegers in Wasser und zum Durchführen ei
ner Messung, während eine Meniskus-Kraft daran gehindert
wird, die Sonde und den Ausleger zu beeinflussen, wenn eine
nicht polarisierte Flüssigkeit wie beispielsweise Wasser
verwendet wird.
In einer Umgebung jedoch, in der Sonde und Ausleger von ei
nem polarisierbaren isolierenden Material umgeben sind, wer
den Innenseite und Außenseite der AFM-Vorrichtung von elek
trostatischen Kräften einer Ladung beeinflußt, welche auf
der Oberfläche der Sonde und des Auslegers auftritt, da das
isolierende Material durch das Vorhandensein von Gegenstän
den abnormaler Potentialenergie polarisiert wird. Dies wie
derum schließt exakte Messungen aus.
Demgegenüber ist es Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine
exakte STS-Messung durchführen zu können, bei der eine modu
lierte Vorspannung der Sondenelektrode zugeführt wird, indem
eine Wechselstromkomponenten des elektrischen Stromes zwi
schen der Sondenelektrode und einer Gürtelelektrode besei
tigt wird, so daß der Signal/Rausch-Abstand des Tunnelstroms
verbessert wird.
Die Lösung dieser Aufgabe erfolgt erfindungsgemäß durch die
im Anspruch 1 bzw. 4 angegebenen Merkmale.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus
den jeweiligen Unteransprüchen.
Weitere Einzelheiten, Aspekte und Vorteile der vorliegenden
Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung
unter Bezugnahme auf die Zeichnung.
Es zeigt
Fig. 1 schematisch teilweise vereinfacht den Aufbau einer
Meßvorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 eine zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 3 eine dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 4 eine seitliche Schnittdarstellung einer Meßvorrich
tung gemäß einer vierten Ausführungsform der vorlie
genden Erfindung;
Fig. 5 eine Ansicht von unten auf die Meßvorrichtung von
Fig. 4;
Fig. 6 eine fünfte Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung;
Fig. 7A und 7B Zeitdiagramme zur Veranschaulichung der Be
ziehung zwischen einer Pulsspannung an einer
unteren Elektrode in Fig. 6 und dem Ausgang
eines AFM oder dem Ausgang des Tunnelstroms;
und
Fig. 8 eine sechste Ausführungsform der vorliegenden Erfin
dung.
Gemäß Fig. 1 ist eine Sonde 12 zur Abtastung einer Probe 10
an einer Sondenelektrode 14 angeordnet. Die Sondenelektrode
14 wird von einem zylindrischen piezoelektrischen Stellglied
16 getragen. Vier Treiberelektroden 18 sind an der Umfangs
wand des Stellgliedes 16 angeordnet. Das Stellglied 16 ist
abhängig von Kombinationen von Spannungen, welche an die
Treiberelektroden 18 angelegt werden, in drei räumlichen
Achsen bewegbar. Somit wird auch die Sonde 12 entlang dieser
drei räumlichen Achsen bewegbar. Eine Gürtelelektrode 20
(girdling electrode) ist zwischen dem Stellglied 16 und der
Sondenelektrode 14 vorgesehen. Die Gürtelelektrode 20 wird
durch Isolatoren 22 und 24 an den oberen und unteren Ober
flächen der Gürtelelektrode 20 von der Sondenelektrode 14
und den Treiberelektroden 18 des Stellgliedes 16 isoliert.
Ein Vorspannungssignal S1 wird einem Operationsverstärker 26
eingegeben. Der Ausgang des Verstärkers 26 ist mit der Gür
telelektrode 20 verbunden. Der Operationsverstärker 26 dient
als Spannungsfolger zur Haltung des Potentials der Gürtel
elektrode 20 auf dem gleichen Pegel oder Wert wie demjenigen
des Vorspannungssignals S1. Das Vorspannungssiganl S1 wird
weiterhin einem nicht invertierenden Eingang eines Operati
onsverstärkers 28 zugeführt. Am invertierenden Eingang des
Verstärkers 28 ist die Sondenelektrode 14 angeschlossen.
Wenn das Potential der Sondenelektrode 14 gleich demjenigen
der Vorspannung ist, wird ein Tunnelstrom zwischen der Sonde
12 und der Probe 10 in ein Spannungssignal konvertiert. Ein
weiterer Operationsverstärker 30 ist ein Differenzverstärker
zur Subtraktion der Vorspannungskomponente von einem vor
spannungsaddierten Tunnelstromsignal S2 vom Operationsver
stärker 28 und zur Spannungsverstärkung des Ergebnisses. So
mit gibt der Verstärker 30 ein Tunnelstromsignal S3 aus.
Wenn bei der STS-Messung das Vorspannungssignal S1 mit einer
Wechselstromkomponente zugeführt wird, ändern sich die Po
tentiale der Sonde 12 und der Gürtelelektrode 14, während
diese Potentiale gleich dem Vorspannungssignal S1 werden. So
ist es möglich, einen Leckstrom daran zu hindern, zwischen
der Sondenelektrode 14 und der Gürtelelektrode 20 über eine
Kapazität des Isolators 24 zu fließen und nur ein Tunnel
strom zwischen der Sonde 12 und der Probe 10 kann detektiert
werden.
Wenn während der STM-Messung eine Spannung zum Abtasten der
Treiberelektrode 18 zugeführt wird, fließt ein elektrischer
Strom von der Treiberelektrode 18 in die Gürtelelektrode 20
über die Kapazitätskomponenten der Isolatoren 22 und 24 und
fließt nicht in die Sondenelektrode 14. Somit kann nur ein
Tunnelstrom zwischen der Sonde 12 und der Probe 10 detek
tiert werden.
Somit kann unabhängig davon, ob eine STS-Messung oder eine
STM-Messung durchgeführt wird die Sondenelektrode 14 nur den
Tunnelstrom zwischen der Sonde 12 und der Probe 10 detektie
ren, so daß eine exakte hochpräzise STS-Messung oder STM-
Messung durchgeführt werden kann. Wenn die STS-Messung nicht
durchgeführt wird, wird das Vorspannungssignal S1 auf kon
stantem Potential gehalten und somit kann ähnlich wie bei
der STM-Messung der Leckstrom von der Treiberelektrode 18
verhindert werden. Mit anderen Worten, der Leckstrom kann
durch die Gürtelelektrode 20 verhindert werden.
Bei der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
gemäß Fig. 2 sind Bauteile oder Elemente, welche Bauteilen
oder Elementen in Fig. 1 entsprechen oder zu diesen iden
tisch sind mit gleichen Bezugszeichen versehen und eine
nochmalige detaillierte Beschreibung erfolgt nicht.
Gemäß Fig. 2 ist an dem zylindrischen piezoelektrischen
Stellglied 16 unter Dazwischenschaltung des Isolators 24 die
Sonde 12 angeordnet, welche wiederum die Sondenelektrode 14
trägt. Das Stellglied 16 weist ein zylindrisches piezoelek
trisches Element 32 auf. Die vier Treiberelektroden 18 sind
an der Außenwand des piezoelektrischen Elementes 32 angeord
net. An der inneren Wand des Elementes 32 ist eine gemein
same Elektrode 34 so angeordnet, daß sie den Treiberelektro
den 18 gegenüberliegt. Die Sonde 12 läßt sich durch Ausdeh
nen und Zusammenziehen desjenigen Teiles des piezoelektri
schen Elementes 32 in drei räumlichen Achsenrichtungen bewe
gen, der zwischen den Elektroden 18 und 34 liegt. Weiterhin
ist das piezoelektrische Element 32 mit einem Paar von Gür
telelektroden 20 ausgestattet, welche streifenförmig ausge
bildet sind und den inneren und äußeren Wänden des piezo
elektrischen Elementes 32 gegenüberliegen.
In der zweiten Ausführungsform wird der gleiche Schaltkreis
aufbau wie in der ersten Ausführungsform gemäß Fig. 1 ver
wendet. Die Gürtelelektrode 20 ist mit dem Ausgang des Ope
rationsverstärkers 26 verbunden und die Sondenelektrode 14
ist mit dem invertierenden Eingang des Operationsverstärkers
28 verbunden. Arbeitsweise und Wirkungsweise dieses Schalt
kreises wurden bereits unter Bezug auf die erste Ausfüh
rungsform erläutert.
Fig. 3 zeigt eine dritte Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung. Hierbei ist ein Ausleger 50 vorgesehen, der als
Abtastelement der Sonde verwendet wird, wobei der Ausleger
50 anstelle des zylindrischen piezoelektrischen Stellgliedes
aus der ersten und zweiten Ausführungsform verwendet wird.
Der Ausleger 50 umfaßt zwei Paare von Zweielementkristallen,
wie sie von Albrecht und C. F. Quate der Stanford University
entwickelt worden sind. Mittig ist an dem Ausleger 50 eine
gemeinsame Elektrode 52 vorgesehen. Die gemeinsame Elektrode
52 wird von zwei Dünnfilmen 54 und 56 aus ZnO sandwichartig
umgeben. Zwei Treiberelektroden 58a und 58c sind auf der
oberen Oberfläche des ZnO-Dünnfilmes 54 angeordnet und zwei
weitere Treiberelektroden 58b und 58d sind auf der unteren
Oberfläche des ZnO-Dünnfilmes 56 angeordnet. Durch Steuerung
der Spannungen an den vier Treiberelektroden 58a bis 58d
läßt sich der Spitzenbereich des Auslegers 50 in dreidimen
sionaler Art und Weise bewegen. Das grundlegende Prinzip
dieser Anordnung ist in der US-PS 49 12 822 beschrieben. Bei
der Ausführungsform gemäß Fig. 3 ist ein isolierender Film
22 an den Treiberelektroden 58a und 58c des Auslegers 50
ausgebildet und die Gürtelelektrode 20 ist auf diesen iso
lierenden Film 22 auflaminiert. An der Gürtelelektrode 20
ist ein weiterer isolierender Film 24 angeordnet. Die Son
denelektrode 14 ist im Mittenbereich des Films 24 angeordnet
und erstreckt sich in Längsrichtung. An der Sondenelektrode
14 ist die Sonde 12 ausgebildet.
Auch bei der Ausführungsform gemäß Fig. 3 wird der Schalt
kreis gemäß Fig. 1 angewendet. Die Gürtelelektrode 20 ist
mit dem Ausgang des Operationsverstärkers 26 verbunden und
die Sondenelektrode 14 ist mit dem invertierenden Eingang
des Operationsverstärkers 28 verbunden. Betrieb und Wir
kungsweise des Schaltkreises wurden bereits unter Bezug auf
die erste Ausführungsform erläutert.
Fig. 4 zeigt eine Querschnittsdarstellung einer vierten Aus
führungsform der vorliegenden Erfindung und Fig. 5 ist eine
Ansicht von unten auf diese vierte Ausführungsform. Gemäß
Fig. 4 ist eine Sonde 112 an einem freien Endabschnitt eines
Auslegers 114 angeordnet. Die Sonde 112 ist in einer Lage
unterstützt, wo die Sonde 112 einer Probe 116 derart angenä
hert werden kann, daß eine zwischenatomare Kraft zwischen
der Sonde 112 und der Probe 116 zu wirken beginnt. Mittels
anodischem Bonden ist der Ausleger 114 an einem Pyrex-Glas
substrat 120 befestigt. Das Substrat 120 weist Bereiche mit
Dicken d1 und d2 auf, wobei d1 größer ist als d2. Eine Elek
trode 122, welche durch einen Abscheidevorgang von Gold oder
Chrom ausgebildet ist, ist auf der oberen Oberfläche des
Substrates 120 vorgesehen. Der Ausleger 114 stellt die Di
stanz zwischen der Sonde und der Probe ein. Der Ausleger 114
wird von einem piezoelektrischen Element 124 zur Abtastung
der Prober 112 getragen. Die vorhandenen Vorrichtungen zur
Erfassung der Auslenkung des freien Endabschnittes des Aus
legers 114 aufgrund einer zwischenatomaren Kraft und einer
Anziehungskraft sind in Fig. 4 nicht dargestellt. Die Probe
116 ist an einem elektrisch leitfähigen Probensubstrat 118
beispielsweise aus Gold durch chemische Adsorption befe
stigt. Die Elektrode 122 und das Probensubstrat 118 sind mit
einer Energiequelle V1 zur Anlegung einer bestimmten Span
nung verbunden.
Bei dieser Ausführungsform wird eine festgelegte Spannung
zwischen die Elektroden 122 und das Probensubstrat 118 ange
legt und somit wird ein elektrisches Feld E erzeugt. Wie
weiterhin aus Fig. 4 hervorgeht, verlaufen einige elektri
sche Kraftlinien in einem elektrischen Feld Eext, erzeugt
durch ein externes Potentialobjekt vertikal in die obere
Oberfläche der Elektrode 122. Die anderen elektrischen
Kraftlinien verlaufen auf das Probensubstrat 118 oder in dem
Raum außerhalb der Elektrode 122. Keine elektrischen Kraft
linien treten in den Raum zwischen der Elektrode 122 und das
Probensubstrat 118 ein. Da die Elektrode 122 das elektrische
Feld Eext des externen Potentials abschirmt, ist die Sonde
112 von dem elektrischen Feld Eext nicht beeinflußt.
Das Pyrex-Glassubstrat 120 wird durch das elektrische Feld E
polarisiert und positive und negative Ladungen werden auf
den oberen und unteren Oberflächen des Substrats abhängig
von der Dielektrizitätskonstante ε und den Dicken d1 und d2
des Substrates verteilt. Wenn der Ausleger 114 und die Sonde
112 aus einem Isolatormaterial wie beispielsweise Si3N4 oder
SiO2 gebildet sind, werden der Ausleger 114 und die Sonde
112 ebenfalls polarisiert und Ladungen werden auf ihren
Oberflächen verteilt. Wenn weiterhin die Probe 116 eine po
larisierbare Substanz ist, wird sie ebenfalls polarisiert.
Die elektrischen Felder, welche durch die Ladungsverteilun
gen erzeugt werden, werden durch die Dielektrizitätskon
stante beeinflußt. Wenn das Potential V an der Elektrode 122
und dem Probensubstrat 118 auf einen bestimmten Wert gesetzt
wird, wird die elektrostatische Kraft, welche auf die Ladung
der Probe 112 wirkt durch diesen bestimmten Wert festgelegt
und kann so gesteuert werden. Zu dieser Zeit beeinflussen
sich die Ladung der Sonde 112 und die polarisierte Lokalla
dung der Probe 116 gegenseitig und eine Anziehungskraft
tritt auf. Hierdurch wird der Ausleger 114 ausgelenkt.
Genauer gesagt, da ein elektrisches Feld nur durch die Ener
giequelle V1 auf einem bestimmten Wert regelbar ist und im
Nahbereich der Sonde 112 erzeugt wird, ist eine Messung ohne
Beeinflussung aufgrund des elektrischen Feldes Eext des ex
ternene Potentialobjektes möglich.
Fig. 6 zeigt eine fünfte Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung. Elemente aus den vorhergehenden Ausführungsformen
sind hier wieder mit gleichen Bezugszeichen versehen und
eine nochmalige detaillierte Beschreibung erfolgt nicht.
Bei der fünften Ausführungsform ist die Elektrode 122 oder
eine obere Elektrode sowohl auf der oberen als auch den Sei
tenflächen des Pyrex-Glassubstrates 120 ausgebildet. Eine
Elektrode 126 oder untere Elektrode ist auf der unteren
Oberfläche des dünnen Abschnittes (mit der Dicke d2) des
Glassubstrates 120 vorgesehen. Die Elektrode 126 ist elek
trisch mit dem Probensubstrat 118 über eine variable Ener
giequelle V1 verbunden. Die Sonde 112 und der Ausleger 114
werden durch Eindotieren von Phosphor in Silizium mit hoher
Konzentration ausgebildet, so daß sie elektrisch leitfähig
sind. Die Sonde 112 und der Ausleger 114 sind mit dem Pro
bensubstrat 118 über eine variable Energiequelle V2 verbun
den. Diese variable Energiequelle V2 legt eine Spannung an
die Probe 116 und die Sonde 112. Hierdurch wird ein AFM ge
bildet, welches in der Lage ist, einen Tunnelstrom e zu de
tektieren.
Von der Energiequelle V1 wird eine bestimmte Konstantspan
nung an die Elektrode 122 gelegt. Somit wird wie in der obi
gen Ausführungsform ein elektrisches Feld Eext einer exter
nen Störung abgeschirmt und der Einfluß dieses Feldes auf
die Sonde 122 wird beseitigt. An die Elektrode 126 wird eine
bestimmte variable Spannung angelegt. Es sei nun angenommen,
daß die variable Spannung eine Impulsspannung mit einer Am
plitude V, einer Pulsdauer T1 und einem Pulsintervall T2
ist, wie in Fig. 7A dargestellt und der Ausgang des AFM oder
der Tunnelstrom i zeigt eine Wellenform synchron mit der
Pulsspannung von Fig. 7A, wie in Fig. 7B dargestellt. In
diesem Fall ist es möglich, Erholseiten t1 und t2 von loka
len Molekularausrichtungs-Charakteristiken und Polarisati
ons-Charakteristiken der Probe 116 bezüglich dem Eingang des
elektrischen Feldes zu erhalten.
Da das Glassubstrat 120, die Elektrode 122 und die Elektrode
126 problemlos transparent hergestellt werden können, ist es
möglich, gleichzeitig die Polarisations-Charakteristik der
Probe 116 durch Zwischenschaltung der vorliegenden Vorrich
tung zwischen einem Polarisierer und einem Analysierer zu
messen.
Fig. 8 zeigt eine sechste Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung. Hierbei ist ein polarisierbarer isolierender
Dünnfilm 128 auf das Probensubstrat 118 auflaminiert. Be
stimmte Spannungen werden der Elektrode 122 und dem Proben
substrat 118 zugeführt, so daß das elektrische Feld Eext ei
nes externen Potentials abgeschirmt wird und das Glassub
strat 120 und der isolierende Dünnfilm 128 polarisiert wer
den. Durch die Polarisation des Dünnfilms 128 wird ein Mole
kularfilm der Probe 116 durch chemische Adsorption festge
halten. Wenn die Probe 116 aus kolloiden Molekülen besteht
und in einer Lösung 130 schwimmt, kann die Herstellung und
der nachfolgende Zustand des Molekularfilmes gemessen wer
den, wobei gleichzeitig die Ausrichtung des Molekularfilms
gesteuert werden kann.
Claims (10)
1. Meßvorrichtung in einem Abtastsonden-Mikroskop, mit:
einer elektrisch leitfähigen Sonde;
einer Sondenelektrode, welche an der Sonde befestigt ist, um einen Tunnelstrom auszugeben; und
Abtastvorrichtungen mit Treiberelektroden zur elek trisch gesteuerten Abtastbewegung der Sonde, gekennzeichnet durch:
eine Gürtelelektrode zwischen den Treiberelektroden der Abtastvorrichtungen und der Sondenelektrode, welche elektrisch von diesen Elektroden isoliert ist; und
Spannungs-Anlegevorrichtungen zur Anlegung einer Span nung gleich der Spannung, die an der Sonde anliegt an die Gürtelelektrode.
einer elektrisch leitfähigen Sonde;
einer Sondenelektrode, welche an der Sonde befestigt ist, um einen Tunnelstrom auszugeben; und
Abtastvorrichtungen mit Treiberelektroden zur elek trisch gesteuerten Abtastbewegung der Sonde, gekennzeichnet durch:
eine Gürtelelektrode zwischen den Treiberelektroden der Abtastvorrichtungen und der Sondenelektrode, welche elektrisch von diesen Elektroden isoliert ist; und
Spannungs-Anlegevorrichtungen zur Anlegung einer Span nung gleich der Spannung, die an der Sonde anliegt an die Gürtelelektrode.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Abtastvorrichtungen aus einem zylindrischen
piezoelektrischen Stellglied bestehen, mit einem zylin
drischen piezoelektrischen Element, einer gemeinsamen
Elektrode innerhalb des piezoelektrischen Elementes und
vier Treiberelektroden um das piezoelektrische Element
herum.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Abtastvorrichtungen einen Ausleger aufweisen
mit zwei plattenförmigen piezoelektrischen Elementen,
einer plattenförmigen gemeinsamen Elektrode zwischen
den beiden piezoelektrischen Elementen und zwei strei
fenförmigen Treiberelektroden an jedem piezoelektri
schen Element.
4. Meßvorrichtung in einem Abtastsonden-Mikroskop, mit:
einer Sonde mit einer punktförmigen Spitze;
einem Ausleger, der die Sonde an seinem freien Endab schnitt trägt und elastisch deformierbar ist bei Emp fang einer Kraft, welche zwischen der Sondenspitze und der Oberfläche einer Probe wirkt; und
Stützvorrichtungen zum Befestigen und Stützen des ande ren Endabschnittes des Auslegers, gekennzeichnet durch:
eine Elektrode, welche einstückig mit den Stützvorrich tungen ausgebildet ist und so ausgerichtet ist, daß sie dem Ausleger gegenüberliegt;
ein elektrisch leitfähiges Stützsubstrat zur Unterstüt zung der Probe; und
eine Energiequelle zur Anlegung einer Spannung zwischen die Elektrode und das elektrisch leitfähige Stützsub strat.
einer Sonde mit einer punktförmigen Spitze;
einem Ausleger, der die Sonde an seinem freien Endab schnitt trägt und elastisch deformierbar ist bei Emp fang einer Kraft, welche zwischen der Sondenspitze und der Oberfläche einer Probe wirkt; und
Stützvorrichtungen zum Befestigen und Stützen des ande ren Endabschnittes des Auslegers, gekennzeichnet durch:
eine Elektrode, welche einstückig mit den Stützvorrich tungen ausgebildet ist und so ausgerichtet ist, daß sie dem Ausleger gegenüberliegt;
ein elektrisch leitfähiges Stützsubstrat zur Unterstüt zung der Probe; und
eine Energiequelle zur Anlegung einer Spannung zwischen die Elektrode und das elektrisch leitfähige Stützsub strat.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, weiterhin gekennzeichnet
durch ein polarisierendes Bauteil an derjenigen Seite
der Elektrode, welche der Probe gegenüberliegt, so daß
dieses Bauteil dem Ausleger gegenüberliegt, wobei die
Energiequelle eine steuerbare Energiequelle ist, die in
der Lage ist, den Ausleger durch Aufbringen einer Cou
lomb′schen Kraft zwischen der Ladung, erzeugt auf der
Oberfläche des polarisierenden Bauteils durch die ange
legte Spannung, und der Ladung, erzeugt auf dem Ausle
ger oder der Sonde, auszulenken.
6. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Elektrode zwei oder mehr einzelne Elektroden
umfaßt, von denen jede eine unabhängig steuerbare Ener
giequelle hat.
7. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Sonde und die Probe elektrische Leitfähigkeit
haben und die Energiequelle eine Steuerenergiequelle
ist zur Polarisierung der Probe.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die steuerbare Energiequelle eine rechteckförmige
Impulsspannung erzeugt.
9. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß die Energiequelle gesteuert ist, um ein elektri
sches Feld zwischen der Elektrode und dem elektrisch
leitfähigen Stützsubstrat zu steuern und um die Probe
zu polarisieren.
10. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das elektrisch leitfähige Substrat so ausgebildet
ist, daß es die Probe stützt, wobei ein polarisierbarer
Film dazwischengeschaltet ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2198593A JPH0483104A (ja) | 1990-07-26 | 1990-07-26 | 走査型トンネル顕微鏡 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4124871A1 true DE4124871A1 (de) | 1992-01-30 |
Family
ID=16393770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4124871A Withdrawn DE4124871A1 (de) | 1990-07-26 | 1991-07-26 | Messvorrichtung in einem abtastsonden-mikroskop |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5136162A (de) |
JP (1) | JPH0483104A (de) |
DE (1) | DE4124871A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4438960A1 (de) * | 1994-10-31 | 1996-05-02 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Strom-Spannungswandler zur Erfassung eines Tunnelstroms eines Rastertunnelmikroskops |
WO1998013663A1 (de) * | 1996-09-23 | 1998-04-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Kraftmikroskopiesonde |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3198355B2 (ja) * | 1991-05-28 | 2001-08-13 | キヤノン株式会社 | 微小変位素子及びこれを用いた走査型トンネル顕微鏡、情報処理装置 |
US5689063A (en) * | 1993-07-15 | 1997-11-18 | Nikon Corporation | Atomic force microscope using cantilever attached to optical microscope |
US5537863A (en) * | 1993-07-15 | 1996-07-23 | Nikon Corporation | Scanning probe microscope having a cantilever used therein |
US5463897A (en) * | 1993-08-17 | 1995-11-07 | Digital Instruments, Inc. | Scanning stylus atomic force microscope with cantilever tracking and optical access |
US5744704A (en) * | 1995-06-07 | 1998-04-28 | The Regents, University Of California | Apparatus for imaging liquid and dielectric materials with scanning polarization force microscopy |
US6198299B1 (en) | 1998-08-27 | 2001-03-06 | The Micromanipulator Company, Inc. | High Resolution analytical probe station |
US6744268B2 (en) * | 1998-08-27 | 2004-06-01 | The Micromanipulator Company, Inc. | High resolution analytical probe station |
US6881954B1 (en) * | 1999-07-27 | 2005-04-19 | Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. | Scanning probe microscope and method of measurement |
US12091313B2 (en) | 2019-08-26 | 2024-09-17 | The Research Foundation For The State University Of New York | Electrodynamically levitated actuator |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4906840A (en) * | 1988-01-27 | 1990-03-06 | The Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr., University | Integrated scanning tunneling microscope |
JPH0758164B2 (ja) * | 1988-04-22 | 1995-06-21 | 三菱電機株式会社 | 走査型トンネル顕微鏡の微動機構 |
US4924091A (en) * | 1989-02-01 | 1990-05-08 | The Regents Of The University Of California | Scanning ion conductance microscope |
JPH02243906A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-09-28 | Nakagawa Applied Res:Kk | 補助電極付き走査型トンネル顕微鏡用探針 |
JP2821005B2 (ja) * | 1989-10-02 | 1998-11-05 | オリンパス光学工業株式会社 | 微細表面形状計測装置 |
US5066858A (en) * | 1990-04-18 | 1991-11-19 | Digital Instruments, Inc. | Scanning tunneling microscopes with correction for coupling effects |
-
1990
- 1990-07-26 JP JP2198593A patent/JPH0483104A/ja active Pending
-
1991
- 1991-07-16 US US07/730,475 patent/US5136162A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-07-26 DE DE4124871A patent/DE4124871A1/de not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4438960A1 (de) * | 1994-10-31 | 1996-05-02 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Strom-Spannungswandler zur Erfassung eines Tunnelstroms eines Rastertunnelmikroskops |
WO1998013663A1 (de) * | 1996-09-23 | 1998-04-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Kraftmikroskopiesonde |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5136162A (en) | 1992-08-04 |
JPH0483104A (ja) | 1992-03-17 |
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