DE4013605A1 - Substrat fuer informationsaufzeichnungsmedien - Google Patents
Substrat fuer informationsaufzeichnungsmedienInfo
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Description
Diese Erfindung betrifft ein Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien.
Bei Informationsaufzeichnungsmedien nach dem optischen
Aufzeichnungssystem, usw., weist das Substrat, auf dem
eine Aufzeichnungsschicht geschichtet ist, eine feine
konkav/konvex gebildete Rille auf. Eine derartige feine
konkav/konvex gebildete Rille bedeutet konzentrische
Rillen oder eine spiralförmige Rille für die Spurführung
eines Laserkopfes, digitalisierte Informationsgruben und
dgl. Das Substrat, welches eine derartige feine
konkav/konvex gebildete Rille aufweist, wird
beispielsweise durch Spritzgießen eines thermoplastischen
Harzes, wie Polymethylmethacrylat, Polycarbonat, oder
dgl. gebildet.
Ein solches Substrat mit einer feinen konkav/konvex
gebildeten Rille wird ebenfalls durch ein Verfahren
hergestellt, welches darin besteht, daß eine transparente
flache Basisplatte mit einem durch UV-Strahlen härtbaren
Monomer beschichtet wird, um einen Überzug mit einer
einheitlichen Dicke zu bilden, daß eine Gußform- bzw.
Stempelplatte mit einer vorher bestimmten Konkav/Konvex-Form
damit unter Druck in Kontakt gebracht wird, daß der
Überzug mit der UV-Strahlung von der transparenten
Basisplattenseite her bestrahlt wird, um das durch
UV-Strahlen härtbare Monomer auszuhärten, und daß dann die
Stempelplatte abgetrennt wird (dieses Verfahren wird als
Photopolymerverfahren bezeichnet und wird nachfolgend als
2P-Verfahren abgekürzt). Eine Vielzahl von durch
UV-Strahlen härtbaren Monomerzusammensetzungen wurde bisher
für ein 2P-Verfahren vorgeschlagen. Beispielsweise
beschreibt die ungeprüfte japanische
Patentveröffentlichung 62-2 64 459 eine
Monomerzusammensetzung, die hauptsächlich aus einem
Methacrylat mit einem Bisphenol A-Gerüst besteht.
Weiterhin wird ein Substrat mit einer konkav/konvex
gebildeten Rille ebenfalls durch ein Verfahren
hergestellt, das darin besteht, daß eine flüssige
Monomerzusammensetzung in eine Gußform formgegossen wird,
die mit einer vorbestimmten konkaven/konvexen Form auf
einer Oberfläche davon ausgebildet ist. Als eine flüssige
Monomerzusammensetzung, die für dieses Verfahren nützlich
ist, beschreibt die ungeprüfte japanische
Patentveröffentlichung 63-86 710 eine
Monomerzusammensetzung, die hauptsächlich aus einem
Epoxyarcylat und einem alicyclischen Dimethacrylat wie
Bismethacryloxymethyltricyclo[5,2,1,02.6]decan od. dgl.
zusammengesetzt ist.
Jedoch weisen das beim Spritzgußverfahren verwendete
Polymethylmethacrylat und Polycarbonat insofern Nachteile
auf, als sie nur eine geringe thermische Maßbeständigkeit
aufweisen und weiterhin während der Lagerung für eine
lange Zeitdauer zu einer Änderung neigen, beispielsweise
dahingehend, daß sie sich verziehen. Und ein
Polycarbonatsubstrat mit einer vorbestimmten
konkav/konvex gebildeten Rille, welches durch das
Spritzgußverfahren hergestellt wird, weist den Nachteil
einer großen Doppelbrechung auf.
Die durch UV-Strahlung härtbare Monomerzusammensetzung,
die hauptsächlich aus einem Methacrylat mit einem
Bisphenol A-Skelett besteht, welche für das 2P-Verfahren
nützlich ist und in der ungeprüften japanischen
Patentveröffentlichung 62-2 64 459 beschrieben ist, weist
die folgenden Nachteile auf. Die Polymerisierbarkeit
dieser Zusammensetzung mit UV-Strahlen ist
unzufriedenstellend, und es ergibt sich keine Härte und
Wärmeresistenz, die ausreichend sind, um eine Deformation
zufriedenstellend auszuhalten, die von Hitze und einer
langdauernden Lagerung resultiert. Ebenso ist ihre
Replikationsgenauigkeit gering.
Die Monomerzusammensetzung, die hauptsächlich aus einem
Epoxymethacrylat besteht, die für das Formgußverfahren
nützlich ist und in der ungeprüften japanischen
Patentveröffentlichung 63-86 710 beschrieben ist, weist
dahingehend vorteilhafte Charakteristiken auf, daß sie
hinsichtlich der Gießbarkeit ausgezeichnet ist, mit
niedrigen Kosten erhältlich ist und daß die
Doppelbrechung gering ist. Jedoch weist auch diese
Monomerzusammensetzung noch folgende Nachteile auf. Ein
Polymer aus dieser Zusammensetzung wird durch die
Polymerisation eines Epoxymethacrylats als ein
essentielles Monomer hergestellt, und das Polymer weist
eine geringe Oberflächenhärte auf. Weiterhin enthält das
Polymer eine Hydroxylgruppe. Daher zeichnet sich das
Polymer durch eine hohe Wasserabsorptionsfähigkeit aus,
und das resultierende Substrat hat nur eine geringe
Maßbeständigkeit. Und wenn eine Aufzeichnungsschicht auf
dem Substrat geschichtet wird, ist diese bezüglich der
Korrosion anfällig. Aus diesen Gründen ist das
resultierende Aufzeichnungsmedium nicht zuverlässig
hinsichtlich einer langdauernden Lagerung von
aufgezeichneter Information.
Wenn die in den obengenannten Veröffentlichungen
beschriebenen Zusammensetzungen durch UV-Strahlen
gehärtet oder mit dem Formgießverfahren polymerisiert
worden sind, ist es weiterhin schwierig, das
resultierende Polymer von einer Stempelplatte zu trennen.
Und wenn der Stempelvorgang bei dem 2P-Verfahren oder bei
dem Formgießen wiederholt wird, bildet sich das
ausgehärtete oder polymerisierte Polymer auf der
Stempelplatte aus, und die Replikationsgenauigkeit wird
verschlechtert.
Dieser Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein Substrat
für Informationsaufzeichnungsmedien zur Verfügung zu
stellen, welches eine hohe Gußgenauigkeit, niedrige
Doppelbrechung, hohe Oberflächenhärte sowie eine hohe
Wärmeresistenz aufweist und bei dem sich die Gußform sehr
gut entfernen läßt. Das Substrat soll ebenfalls ein
geringes Wasserabsorptionsvermögen sowie eine
ausgezeichnete Lagerstabilität aufweisen.
Die Lösung dieser Aufgabe ist im Anspruch 1 angegeben;
vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen dieser
Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Erfindungsgemäß wird ein Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien zur Verfügung gestellt,
auf dem eine Aufzeichnungsschicht gebildet ist, wobei
zumindest ein Teil des Substrates sich aus einem Polymer
zusammensetzt, welches als eine wesentliche
Monomerkomponente ein durch die allgemeine Formel (I)
wiedergegebenes Monomer enthält:
worin l 1 und l 2 jeweils eine ganze Zahl von 1 bis 5
bedeuten und gleich oder voneinander verschieden sein
können, wobei m 1 und m 2 jeweils eine ganze Zahl von 0 bis
5 bedeuten und gleich oder verschieden voneinander sein
können und wobei R1 und R2 jeweils ein Wasserstoffatom
oder eine Methylgruppe bedeuten und gleich oder
voneinander verschieden sein können.
Diese Erfindung wird nachfolgend detailliert beschrieben.
Das durch diese Erfindung zur Verfügung gestellte
Substrat für Informationsaufzeichnungsmedien wird als ein
Substrat verwendet, auf dem eine Aufzeichnungsschicht
gebildet werden soll. Beispiele für das gegenwärtige
Substrat für Informationsaufzeichnungsmedien enthalten
die folgenden Arten:
- i) Substrat (A), welches dadurch hergestellt wird, daß das Polymer als eine konkav/konvex gebildete Rille (a 2) auf einer flachen Basisplatte (a 1) durch ein 2P-Verfahren oder ein thermisches Polymerisationsverfahren gebildet wird.
- ii) Substrat (B), welches durch Formgießen einer Monomerzusammensetzung in einer Gußform gebildet wird, die durch Verwendung einer Originalscheibe mit einer Konkav/Konvex-Form hergestellt ist, wobei eine flache Basisplatte (b 1) und eine konkav/konvex gebildete Rille (b 2) in einem Schritt integral aus einem Polymer gebildet werden.
- Zusätzlich wird ebenfalls ein Informationsaufzeichnungsmedium dadurch hergestellt, daß eine Aufzeichnungsschicht auf einem Substrat gebildet wird, welches keine Konkav/Konvex-Form aufweist; und der Umfang des Substrats für Informationsaufzeichnungsmedien, welches erfindungsgemäß hergestellt wird, enthält ebenfalls das folgende:
- iii) Ein Substrat (C), welches aus einer einzigen Schicht oder einem Vielschichtlaminat gebildet ist, bei dem beide Oberflächen planar sind.
Das erfindungsgemäße Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien setzt sich zumindest
teilweise aus einem Polymer zusammen, welches als ein
essentielles Monomer ein Monomer der allgemeinen Formel
(I) enthält (dieses Polymer wird nachfolgend als das
"gegenwärtige Polymer" bezeichnet).
Genauer ausgedrückt, kann beispielsweise bei dem oben
erwähnten Substrat (A) nur die flache Basisplatte (a 1)
aus dem gegenwärtigen Polymer gebildet sein, oder nur die
konkav/konvex gebildete Rille (a 2) kann aus diesem
Polymer gebildet sein. Im letzteren Fall ist die flache
Basisplatte (a 1) aus Glas, einem metallischen Material,
wie Aluminium oder einem anderen Plastikmaterial als das
gegenwärtige Polymer gebildet. Weiterhin können sowohl
die flache Basisplatte (a 1) als auch die konkav/konvex
gebildete Rille (a 2) aus dem gegenwärtigen Polymer
gebildet sein.
Bei dem oben erwähnten Substrat (B) können die flache
Basisplatte (b 1) und die konkav/konvex gebildete Rille
(b 2) in einem Schritt aus dem gegenwärtigen Polymer
intregral gebildet werden.
Weiterhin ist das Substrat insgesamt aus dem
gegenwärtigen Polymer hergestellt, wenn das oben erwähnte
Substrat (C), welches planare Oberflächen aufweist, mit
einer einzigen Schicht ausgebildet ist. Wenn das Substrat
(C) aus einem Vielschichtlaminat hergestellt ist, kann
zumindest eine Schicht des Laminates aus dem
gegenwärtigen Polymer gebildet sein.
Das durch die allgemeine Formel (I) dargestellte Monomer
für die Bildung des gegenwärtigen Polymers weist ein
Gerüst auf, welches dem des stabilen Bisphenols A ähnlich
ist. Daher entfaltet das Polymer eine hohe Härte und eine
ausgezeichnete Wärmeresistenz. Da dieses Monomer sechs
Fluoratome enthält, ist es dahingehend vorteilhaft, daß
das Wasserabsorptionsvermögen gering ist und daß die
Form- oder Gußformabtrennung leicht möglich ist.
Wenn l 1 und l 2 in der allgemeinen Formel (I) Null sind,
ist die Verbindungsstruktur unerwünschenswert instabil,
und wenn l 1 und l 2 6 oder mehr beträgt, weist das
resultierende Polymer eine geringe Härte und eine geringe
Wärmeresistenz auf, was nicht erwünscht ist. Somit sind
die Werte von l1 und l2 begrenzt auf eine ganze Zahl von
1 bis 5. Sowohl m 1 als auch m 2 können Null sein. Wenn sie
jedoch 6 oder mehr sind, weist das resultierende Polymer
eine geringe Härte und eine geringe Wärmeresistenz auf,
was unerwünscht ist. Daher sind die Werte von m 1 und m 2
begrenzt auf eine ganze Zahl von 0 bis 5. Weiterhin
können l 1 und l 2 die gleiche oder eine unterschiedliche
ganze Zahl sein, und m 1 und m 2 können ebenso die gleiche
oder eine unterschiedliche ganze Zahl sein.
Das gegenwärtige Polymer ist ein Homopolymer aus einem
Monomer, welches aus den Monomeren ausgewählt wird, die
durch die allgemeine Formel (I) dargestellt sind, oder
stellt ein Copolymer von zumindest zwei Monomeren dar,
die aus den Monomeren ausgewählt sind, die durch die
allgemeine Formel (I) dargestellt sind. Das
Zusammensetzungsverhältnis des Copolymers kann frei
ausgewählt werden. Ein oder mehrere Monomere der
allgemeinen Formel (I) können mit einigen anderen
Monomeren copolymerisiert werden, solange nicht von dem
erfindungsgemäßen Ziel abgewichen wird. In diesem Fall
beträgt die Menge des Monomers oder der Monomere mit der
allgemeinen Formel (I) vorzugsweise 5 bis 99 Gew.-%,
insbesondere bevorzugt 20 bis 90 Gew.-%. Beispiele der
anderen Monomere sind Methacrylate, wie
Polyurethanmethacrylat, Bisphenol A-methacrylat,
Polyester-methacrylat, etc.
Eine Zusammensetzung dieser Monomere kann durch Erhitzen
oder durch Bestrahlung mit UV-Strahlen in der Gegenwart
eines Polymerisationsinitiators polymerisiert werden. Der
Polymerisationsinitiator ist nicht kritisch, wenn es ein
Initiator der Art ist, der unter Hitze oder Bestrahlung
mit UV-Strahlen ein Radikal erzeugt. Wenn die
Polymerisation durch Erhitzen ausgeführt wird, sind
typische Beispiele für den Initiator daher
Azobisisobutyronitril, Azobisdimethylvaleronitril,
Benzoylperoxid, etc. Wenn die Polymerisation durch
Bestrahlung mit UV-Strahlen durchgeführt wird, sind
typische Beispiele für den Initiator 2,2′-
Diethoxyacetophenon, 2-Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-
on, Benzophenon, Michler′s Keton, 2-Chlorothioxanthon, 2-
Isopropylthioxanthon, Benzoin, Bonzoinisobutylether,
Benzyl, Benzyldimethylketal,
Hydroxycyclohexylphenylketon, usw. Wenn das oben
genannten Benzophenon, 2-Chlorothioxanthon, 2-
Isopropylthioxanthon oder Benzyl verwendet werden, wird
die Polymerisationsrate bei der UV-Strahlenpolymerisation
vorteilhafterweiser weiterhin beschleunigt, indem ein
Sensibilisator, wie n-Butylamin, Triethylamin,
Diethylaminoethylmethacrylat, Isoamyl-p-
dimethylaminobenzoat oder dgl. zugegeben wird.
Wenn das oben genannte Substrat (A) mit einer
konkav/konvex gebildeten Rille (a 2) auf der flachen
Basisplatte (a 1) gebildet ist, ist es bei einem
erfindungsgemäß bevorzugten Weg vorzuziehen, die Rille
(a 2) aus dem gegenwärtigen Polymer zu bilden, indem eine
Monomerzusammensetzung als Material für die Rille (a 2)
verwendet wird, die das Monomer der allgemeinen Formel
(I) enthält. Wenn das gegenwärtige Polymer gebildet wird,
ist es im allgemeinen vorzuziehen, ein 2P-Verfahren unter
Verwendung einer Bestrahlung mit UV-Strahlen anzuwenden,
obwohl ein thermisches Polymerisationsverfahren verwendet
werden kann, in Abhängigkeit von der Art und von den
Eigenschaften des Monomers, welches aus den Monomeren mit
der allgemeinen Formel (I) ausgewählt wird. Die Bildung
der Rille (a 2) durch das 2P-Verfahren wird nachfolgend
detaillierter beschrieben.
Es ist möglich, für die flache Basisplatte (a 1)
UV-Strahlen durchlässige Materialien wie
Polymethylmethacrylat, Polycarbonat, Epoxyharz, Glas,
usw., und UV-Strahlen undurchlässige Materialien wie
Aluminium, Titan, usw. zu verwenden. Wenn die letzteren,
UV-Strahlen undurchlässigen Materialien verwendet werden,
kann eine UV-Strahlen durchlässige Substanz wie Glas als
eine Stempel- bzw. Gußformplatte verwendet werden, und
die Bestrahlung mit UV-Strahlen kann von dieser
Gußformplattenseite aus durchgeführt werden.
Die Monomerzusammensetzung, die das Monomer mit der
allgemeinen Formel (I) enthält, wird auf die Basisplatte
(a 1) geschichtet, um eine Schicht aus der
Monomerzusammensetzung zu bilden. Diese Beschichtung kann
durch ein Druckgußverfahren durchgeführt werden, welches
darin besteht, daß die Monomerzusammensetzung, die das
Monomer der allgemeinen Formel (I) enthält, auf die
Basisplatte (a 1) oder auf eine Gußformplatte getropft
wird, die eine eingearbeitete Konkav/Konvex-Form
aufweist, die zu der konkav/konvex gebildeten Rille
korrespondiert, und indem diese von oben mit Druck
beaufschlagt wird, um einen gleichmäßigen Guß zu
erhalten. Diese Beschichtung kann ebenfalls durch ein
Schleuderverfahren oder durch ein Eintauchverfahren
erhalten werden. Dann wird die Monomerzusammensetzung,
die das Monomer mit der allgemeinen Formel (I) enthält,
bei Raumtemperatur ausgehärtet, indem sie mit UV-Strahlen
durch eine Hochdruckquecksilberlampe durch die
Basisplatte (a 1) oder durch die Gußformplatte hindurch so
bestrahlt wird, daß die gesamte Lichtmenge 0,5 bis 5,0
J/cm2 beträgt. Dadurch wird die konkav/konvex gebildete
Rille (a 2) auf der Basisplatte (a 1) gebildet und sehr
fest damit verbunden. Dann wird die Gußformplatte
abgetrennt, und das Substrat (A) wird erhalten, bei dem
die Rille (a 2) fest mit der Basisplatte (a 1) verbunden
ist. Danach wird eine Aufzeichnungsschicht aus einem
üblichen anorganischen oder organischen Material auf der
konkav/konvex gebildeten Rille (a 2) gebildet, wodurch ein
Informationsaufzeichnungsmedium erhalten wird.
In einem anderen bevorzugten, erfindungsgemäßen
Ausführungsbeispiel wird die Monomerzusammensetzung, die
das Monomer der allgemeinen Formel (I) enthält, in einer
Gußform formgegossen, die aus einer Originalscheibe mit
einer eingearbeiteten Konkav/Konvex-Form, die zu der
konkav/konvex gebildeten Rille korrespondiert, einer
Glasplatte mit einer flachen Oberfläche und einem
Rahmenabstandshalter gebildet ist, wodurch das Substrat
(B) gebildet wird. Bei diesem Verfahren werden die flache
Basisplatte (b 1) und die konkav/konvex gebildete Rille
(b 2) integral aus dem gegenwärtigen Polymer gebildet. In
diesem Fall kann das gegenwärtige Polymer entweder durch
ein thermisches Polymerisationsverfahren oder durch ein
Polymerisationsverfahren mittels Bestrahlung durch
UV-Strahlen gebildet werden. Die Bildung des Substrates (B)
durch dieses thermische oder UV-Strahlen-
Polymerisationsverfahren wird nachfolgend noch genauer
beschrieben.
Ein Rahmenabstandshalter wird auf der Oberfläche einer
Originalscheibe mit einer eingearbeiteten Konkav/Konvex-Form,
die zu der konkav/konvex gebildeten Rille
korrespondiert, angeordnet. Die Monomerzusammensetzung,
die das Monomer mit der allgemeinen Formel (I) enthält,
wird dann in den Zwischenraum gespritzt, der zwischen der
Originalscheibe und dem Rahmenabstandshalter gebildet
wird. Eine scheibenartige Glasplatte wird auf dem
Rahmenabstandshalter angeordnet, um den Zwischenraum zu
schließen, und Druck wird darauf ausgeübt. Die oben
genannte Monomerzusammensetzung wird unter dem Druck
durch Erhitzen oder durch Bestrahlung mit UV-Strahlen
polymerisiert. Die Originalscheibe als eine Komponente
dieser Gußform kann eine solche sein, die aus einem
nicht-transparenten Material gebildet ist, wenn die
Polymerisation thermisch durchgeführt wird. Wenn jedoch
die Polymerisation durch Bestrahlung mit UV-Strahlen
durchgeführt wird, wird Glas usw. verwendet, was für die
Bestrahlung transparent ist. Die thermische
Polymerisation kann bei einer Temperatur zwischen 30 und
150°C für eine Dauer von 10 bis 48 h durchgeführt werden.
Die Polymerisation mit Bestrahlung durch UV-Strahlen kann
bei Raumtemperatur durch eine Bestrahlung mit UV-Strahlen
von einer Hochdruckquecksilberlampe durchgeführt werden,
so daß die Gesamtlichtmenge 1,0 bis 200 J/cm2 beträgt.
Nach der Polymerisation wird die Originalscheibe
abgetrennt, um das Substrat (B) zu ergeben, bei dem die
Basisplatte (b 1) und die Rille (b 2) integral aus einem
einzigen Polymer gebildet sind. Es ist ebenso effektiv,
die Monomerzusammensetzung nach der Bestrahlung mit
UV-Strahlen zu erhitzen. Dann wird eine Aufzeichnungsschicht
aus einem gewöhnlichen anorganischen oder organischen
Material auf dem oben genannten Substrat (B) gebildet,
wodurch ein Informationsaufzeichnungsmedium erhalten
wird.
Das erfindungsgemäße Substrat wurde zuvor hinsichtlich
gerillter Aufzeichnungsmedien erläutert. Es kann
ebenfalls für Aufzeichnungsmedien ohne Rille verwendet
werden, wie es hinsichtlich des Substrates (C)
beschrieben wurde.
Weiterhin kann die Monomerzusammensetzung, die das
Monomer der allgemeinen Formel (I) enthält, zum
Glattmachen der Substratoberfläche verwendet werden.
Das erfindungsgemäße Substrat kann als ein Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien, wie eine Compact-Disc,
CD-ROM, Laserscheibe, Digitaldatenscheibe, usw. verwendet
werden, und weiterhin für Informationsaufzeichnungsmedien
entsprechend einem optischen Aufzeichnungssystem,
beispielsweise eine optische Karte usw.
Nachfolgend wird diese Erfindung unter Bezugnahme auf die
Beispiele detaillierter beschrieben, wobei die Erfindung
nicht auf diese Beispiele beschränkt sein soll.
Eine jede von verschiedenen durch UV-Strahlen härtbare
Monomerzusammensetzungen, die aus einem Monomer der
allgemeinen Formel (I) als ein durch UV-Strahlen
härtbares Monomer hergestellt sind, und ein UV-
Strahlenpolymerisationsinitiator (die Arten und Mengen
von diesem sind in Tabelle 1-1 angegeben) wurden auf eine
Glasscheibenbasisplatte mit einem Durchmesser von 130 mm
und einer Dicke von 1,2 mm durch ein Druckgußverfahren so
aufgebracht, daß die resultierende Schicht der durch UV-
Strahlen härtbaren Monomerzusammensetzung eine Dicke von
20 µm aufwies. Dann wurde eine Gußformplatte mit einer
konkav/konvex gebildeten Rille (Rillenbreite 0,6 µm,
Rillentiefe 0,08 µm, Zwischenrillenabstand 1,6 µm), die
zu einer konkav/konvex geformten Rille für die
Spurführung korrespondierte, wurde mit der Oberfläche der
Schicht unter Druck in Kontakt gebracht. Die oben
genannte Monomerzusammensetzung wurde ausgehärtet, indem
sie von der Basisplattenseite her mit UV-Strahlen mit
einer Bestrahlungsintensität von 20 mW/cm2 (350 nm) 1 min
lang unter Verwendung einer Hochdruckquecksilberlampe
bestrahlt wurde, wodurch eine durch UV-Strahlen
ausgehärtete Harzschicht mit einer konkav/konvex
geformten Rille für die Spurführung auf der Basisplatte
gebildet wurde. Dann wurde die Gußformplatte abgetrennt,
um eine Substrat zu ergeben, welches eine festfixierte
konkav/konvex gebildete Rille für die Spurführung
aufwies, die aus der durch UV-Strahlen gehärteten
Harzschicht gebildet war. Dieses Substrat korrespondiert
zu dem zuvor spezifizierten Substrat (A), bei dem die
konkav/konvex gebildete Rille (a 2) auf der flachen
Basisplatte (a 1) gebildet ist.
Dann wurde eine Aufzeichnungsschicht, die aus einer
Tellurlegierung gebildet war, die aus Tellur, Selen,
Tellurcarbid und dgl. hergestellt war, auf dem Substrat
gebildet, um ein Informationsaufzeichnungsmedium zu
ergeben.
Die physikalischen Eigenschaften des Substrates wurden
wie folgt ermittelt:
Wenn ein Arbeitsvorgang durchgeführt wurde, um eine
Gußform von einer durch UV-Strahlen gehärteten
Harzschicht zu trennen, wurde der Fall, bei dem überhaupt
keine Trennung stattfand, mit D bezeichnet, die Fälle der
teilweisen Anhaftung einer verbleibenden durch UV-
Strahlen gehärteten Harzschicht an der Gußform wurden in
dieser Reihenfolge mit C, B oder A bezeichnet, wenn der
Trennvorgang 10mal, 100mal oder 1000mal wiederholt
wurde. Das bedeutet, daß A eine ausgezeichnete
Entfernbarkeit der Gußform bedeutet, und daß die
Entfernbarkeit der Gußform in der Reihenfolge von B-C-D
schlechter wird.
Die Vicker′s Härte eines ausgehärteten Harzes wurde unter
den Bedingungen 10 gf und 10 s unter Verwendung eines
Vicker′s Härte-Mikrotesters, der von Akashi Seisakusho
geliefert wird, gemessen.
Ein ausgehärteter Harzfilm mit einer Größe von 30 mm×15 mm×0,2 mm
wurde 24 h lang bei Raumtemperatur unter
Vakuum aufbewahrt, und das Gewicht des ausgehärteten
Harzfilms wurde als Trockengewicht (Wd) bezeichnet. Dann
wurde der ausgehärtete Harzfilm 24 h lang bei
Raumtemperatur in Wasser eingetaucht, und das Gewicht des
resultierenden Films wurde als Naßgewicht (Ww)
bezeichnet. Das Wasserabsorptionsvermögen wurde auf Basis
der folgenden Gleichung berechnet:
Der Glasübergangspunkt (Tg) eines ausgehärteten Harzes
wurde bestimmt, indem eine DSC-Kurve unter Verwendung
eines Thermoanalysators, der von K.K. Rigaku geliefert
wird, bei einer Temperaturerhöhungsrate von 20°C pro min
aufgenommen wurde.
Tabelle 1-1 zeigt die Ergebnisse.
Das Verfahren nach den Beispielen 1 bis 12 wurde
wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine
Monomerzusammensetzung für den Vergleich anstelle der
Monomerzusammensetzung, die das Monomer mit der
allgemeinen Formel (I) enthielt, verwendet wurde, wodurch
ein Substrat für ein Informationsaufzeichnungsmedium
erhalten wurde. (Die Arten und die Mengen der durch
UV-Strahlen härtbaren Monomere sowie der
Polymerisationsinitiatoren, die bei diesen
Vergleichsbeispielen verwendet wurden, sind in Tabelle 1-2
angegeben.) Die physikalischen Eigenschaften der
resultierenden Substrate für
Informationsaufzeichnungsmedien wurden in der gleichen
Art und Weise wie bei den Beispielen 1 bis 12 bestimmt.
Tabelle 1-2 zeigt die Ergebnisse.
Wie es deutlich in den Tabellen 1-1 und 1-2 gezeigt ist,
hatten die Substrate für Informationsaufzeichnungsmedien,
die gemäß den Beispielen 1-12 erhalten wurden, eine
ausgezeichnete Entfernbarkeit der Gußform und eine
ausgezeichnete Replikationsgenauigkeit im Vergleich zu
denen, die gemäß den Vergleichsbeispielen 1-4 erhalten
wurden. Es ist ebenso deutlich, daß die durch UV-Strahlen
gehärteten Harzschichten der Substrate für
Informationsaufzeichnungsmedien, die gemäß den Beispielen
1 bis 12 erhalten wurden, eine höhere Härte und eine
höhere Wärmeresistenz aufwiesen als jene, die nach den
Vergleichsbeispielen 1 bis 4 erhalten wurden. Ebenso
behielten diese eine bessere Replikationsgenauigkeit nach
der Bildung der Aufzeichnungsschicht. Und da die durch
UV-Strahlen gehärteten Harzschichten der Substrate für
Informationsaufzeichnungsmedien, die gemäß den Beispielen
1 bis 12 erhalten wurden, ein geringeres
Wasserabsorptionsvermögen aufwiesen als jene, die nach
den Vergleichsbeispielen 1 bis 4 erhalten wurden,
behielten die durch UV-Strahlen gehärteten Harzschichten
eine übertragene Form in guter Genauigkeit bei, selbst
wenn die Informationsaufzeichnungsmedien lange Zeit
gelagert wurden, und es wurde keine Korrosion der
Aufzeichnungsschichten festgestellt.
Ein Rahmenabstandshalter wurde auf der Oberfläche einer
Originalscheibe mit einer konkav/konvex gebildeten Rille
(Rillenbreite 0,6 µm, Rillentiefe 0,08 µm,
Zwischenrillenabstand 1,6 µm), die zu einer
Konkav/Konvex-Rille für die Spurführung korrespondierte,
angeordnet. Eine Monomerzusammensetzung, die dadurch
hergestellt wurde, daß in ein Monomer der allgemeinen
Formel (I) ein Polymerisationsinitiator und, wahlweise,
ein anderes Monomer als das Monomer der allgemeinen
Formel (I) eingebaut wurde (Arten und Mengen der Monomere
und Polymerisationsinitiatoren sind in Tabelle 2
angegeben), wurde in den Zwischenraum eingespritzt, der
zwischen der Originalscheibe und dem Rahmenabstandshalter
gebildet war, und eine scheibenartige Glasplatte mit
planaren Oberflächen wurde auf dem Rahmenabstandshalter
angeordnet, um den Zwischenraum zu schließen und um Druck
auf die Monomerzusammensetzung auszuüben. Dann wurde die
Monomerzusammensetzung ausgehärtet, indem sie 10 h lang
bei 40°C, 5 h bei 50°C, 5 h bei 60°C und 5 h bei 120°C
erhitzt wurde. Danach wurden die Originalscheibe und die
scheibenartige Glasplatte abgetrennt, um ein
scheibenartiges Substrat mit einer konkav/konvex
gebildeten Rille für die Spurführung zu ergeben. Das
heißt, dieses Substrat entspricht dem zuvor
spezifizierten Substrat (B), bei dem die flache
Basisplatte (b 1) und die konkav/konvex geformte Rille
(b 2) intetral aus einem einzigen Polymer in einem Schritt
gebildet werden.
Dann wurde eine Aufzeichnungsschicht, die aus einer
Tellurlegierung gebildet war, die aus Tellur, Selen,
Tellurcarbid und dgl. bestand, auf dem Substrat gebildet,
um ein Informationsaufzeichnungsmedium zu ergeben.
Ein Rahmenabstandhalter wurde auf der Oberfläche einer
Originalscheibe mit einer konkav/konvex gebildeten Rille
angeordnet (Rillenbreite 0,6 µm, Rillentiefe 0,08 µm,
Zwischenrillenabstand 1,6 µm), die zu einer
Konkav/Konvex-Rille für die Spurführung korrespondierte.
Eine Monomerzusammensetzung, die durch Einfügen eines
Polymerisationsinitiators und, wahlweise, eines anderen
Monomers als das Monomer der allgemeinen Formel (I) in
ein Monomer der allgemeinen Formel (I) hergestellt wurde
(Arten und Mengen der Monomere und
Polymerisationsinitiatoren sind in Tabelle 2 angegeben),
wurde in den Zwischenraum eingespritzt, der durch die
Originalscheibe und den Rahmenabstandshalter gebildet
war, und eine scheibenartige Glasplatte mit planaren
Oberflächen wurde auf den Rahmenabstandshalter
angeordnet, um den Zwischenraum zu schließen und um auf
die Monomerzusammensetzung Druck auszuüben. Dann wurde
die Monomerzusammensetzung durch Bestrahlen von der
Glasplattenseite her mit einer Bestrahlungsintensität von
30 mW/cm2 für eine Dauer von 2 min unter Verwendung einer
Hochdruckquecksilberlampe ausgehärtet. Dann wurden die
Originalscheibe und die Glasplatte abgetrennt, um ein
scheibenartiges Substrat zu ergeben, welches eine
konkav/konvex gebildete Rille für die Spurführung
aufwies. Das heißt, dieses Substrat korrespondiert
ebenfalls zu dem zuvor spezifizierten Substrat (B).
Dann wurde eine Aufzeichnungsschicht, die aus einer
Tellurlegierung gebildet war, die aus Tellur, Selen,
Tellurcarbid und dgl. hergestellt war, auf dem Substrat
gebildet, um ein Informationsaufzeichnungsmedium zu
ergeben.
Die physikalischen Eigenschaften (Entfernbarkeit der
Gußform, Härte, Wärmeresistenz und
Wasserabsorptionsvermögen) der Substrate, die nach den
oben genannten Beispielen 13 bis 16 erhalten wurden,
wurden nach der gleichen Art wie bei den Beispielen 1 bis
12 bestimmt, und die Doppelbrechungen dieser Substrate
wurden wie folgt bestimmt.
Eine Verzögerung wurde unter Verwendung eines He-Ne-
Laserstrahls (623 nm) gemessen, und der resultierende
Wert wurde als Doppelbrechung verwendet.
Das Verfahren nach den Beispielen 13 bis 16 wurde
wiederholt, mit der Ausnahme, daß eine
Monomerzusammensetzung, die in Tabelle 2 gezeigt ist, für
den Vergleich anstelle der Monomerzusammensetzung
verwendet wurde, die das Monomer mit der allgemeinen
Formel (I) enthielt, wodurch ein Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien erhalten wurde. (Die
Arten und Mengen der Monomere und die
Polymerisationsinitiatoren, die für dieses
Vergleichsbeispiel verwendet wurden, sind in Tabelle 2
dargestellt.) Die physikalischen Eigenschaften der
resultierenden Substrate für die
Informationsaufzeichnungsmedien wurden in der gleichen
Art bestimmt wie bei den Beispielen 13 bis 16. Tabelle 2
zeigt die Ergebnisse.
Ein Substrat für Informationsaufzeichnungsmedien wurde
durch Spritzgießen eines Polycarbonatharzes erhalten. Die
physikalischen Eigenschaften des Substrates wurden in der
gleichen Art bestimmt wie bei den Beispielen 13 bis 16.
Tabelle 2 zeigt die Ergebnisse.
Wie deutlich aus der Tabelle 2 ersichtlich ist, hatten
die Substrate für Informationsaufzeichnungsmedien, die
nach den Beispielen 13 bis 16 erhalten wurden, eine
ausgezeichnete Entfernbarkeit der Gußform sowie eine
ausgezeichnete Replikationsgenauigkeit im Vergleich zu
jenen Substraten, die nach den Vergleichsbeispielen 5 und
6 erhalten wurden. Es ist ebenso deutlich, daß die
Substrate für Informationsaufzeichnungsmedien, die nach
den Beispielen 13 bis 16 erhalten wurden, eine hohe Härte
und eine hohe Wärmeresistenz aufwiesen und daß sie eine
bessere Replikationsgenauigkeit nach der Bildung der
Aufzeichnungsschicht beibehielten. Die Substrate, die
nach den Beispielen 13 bis 16 erhalten wurden, wiesen ein
geringeres Wasserabsorptionsvermögen auf im Vergleich zu
denen, die nach den Vergleichsbeispielen 5 und 6 erhalten
wurden, und daher behielten sie eine übertragene Form mit
einer guten Genauigkeit bei, selbst wenn die
Informationsaufzeichnungsmedien lange Zeit gelagert
wurden. Eine Korrosion ihrer Aufzeichnungsschichten wurde
nicht gefunden. Weiterhin war ihre Doppelbrechung gering.
Daraus geht deutlich hervor, daß
Informationsaufzeichnungsmedien hergestellt werden
können, die ausgezeichnete Schreibe- und
Lesecharakteristiken aufweisen.
Die in den Tabellen 1-1, 1-2 und 2 verwendeten
Abkürzungen bedeuten die folgenden Substanzen:
- 1. BPFA-1: Monomer der allgemeinen Foreml (I) mit m₁ und m₂ = 0 und R₁ und R₂ = H
- 2. BPFMA-1: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 0 und R₁ und R₂ = CH₃
- 3. BPFA-2: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 1, l₁ und l₂ = 2 und R₁ und R₂ = H
- 4. BPFMA-2: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 1, l₁ und l₂ = 2 und R₁ und R₂ = CH₃
- 5. BPFA-3: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 1, l₁ und l₂ = 3 und R₁ und R₂ = H
- 6. BPFMA-3: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 1, l₁ und l₂ = 3 und R₁ und R₂ = CH₃
- 7. BPFA-4: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 2, l₁ und l₂ = 1 und R₁ und R₂ = H
- 8. BPFMA-5: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 2, l₁ und l₂ = 2 und R₁ und R₂ = CH₃
- 9. BPFA-6: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 3, l₁ und l₂ = 1 und R₁ und R₂ = H
- 10. BPFA-7: Monomer der allgemeinen Formel (I) mit m₁ und m₂ = 3, l₁ und l₂ = 2 und R₁ und R₂ = H
- 11. TCA: Tricyclo[5,2,1,02.6]decylacrylat
- 12. TCDA: Bisacryloxymethyltricyclo[5,2,1,02.6]decan
- 13. TMPTA: Trimethylolpropantriacrylat
- 14. NPGDA: Neopentylglykoldiacrylat
- 15. R-551: Bisphenol A-ethylenoxid-modifiziertes Diacrylat (geliefert von Nippon Kayaku K.K.)
- 16. M-7100: Oligoesteracrylat (geliefert von Toa Gosei Kagaku K.K.)
- 17. CHMA: Cyclohexylmethacrylat
- 18. UA-603 I: Urethanacrylat (geliefert von Kyoeisha Ushikagaku Kogyo K.K.)
- 19. IBMA: Isobornylmethacrylat
- 20. HCPK: 7-Hydroxycyclohexylphenylketon
- 21. Monomer-A: Bisphenol F-ethylenoxid-modifiziertes Diacrylat
- 22. Monomer-B: Urethanacrylat
- 23. Monomer-C: Epoxyacrylat, welches durch Reaktion eines Bisphenol A-artigen Epoxyharzes mit Acrylsäure hergestellt wird.
- 24. ICTA:
- 25. EHA: 2-Ethylhexylacrylat
Da das erfindungsgemäße Substrat für
Informationsaufzeichnungsmedien, wie oben beschrieben,
nach der Herstellung eine gute Entfernbarkeit der Gußform
aufweist, weist es eine ausgezeichnete Maßstabilität auf.
Ebenso weist es eine ausgezeichnete Wärmeresistenz und
Härte auf, und sein Wasserabsorptionsvermögen ist gering.
Bei der Verwendung des erfindungsgemäßen Substrats können
daher Informationsaufzeichnungsmedien erhalten werden,
die ausgezeichnete Schreibe- und Lesecharakteristiken
sowie eine ausgezeichnete Lagerstabilität aufweisen.
Aufgrund der geringen Doppelbrechnung kann diese Erfindung
daher nicht nur auf eine konkav/konvex gebildete Rille
des Substrates angewandt werden, sondern ebenfalls auf
ein Substrat, bei dem die konkav/konvex gebildete Rille
und die flache Basisplatte integral ausgebildet sind.
Claims (10)
1. Substrat für Informationsaufzeichnungsmedien, auf
dem eine Aufzeichnungsschicht gebildet ist und von dem
zumindest ein Teil aus einem Polymer zusammengesetzt ist,
welches als eine essentielle Monomerkomponente ein
Monomer enthält, das durch die allgemeine Formel (I)
dargestellt ist:
worin sowohl l 1 als auch l 2 jeweils eine ganze Zahl von 1
bis 5 bedeuten und gleich oder voneinander verschieden
sein können, worin m 1 und m 2 jeweils eine ganze Zahl von
0 bis 5 bedeuten und gleich oder voneinander verschieden
sein können und worin R1 und R2 ein Wasserstoffatom oder
eine Methylgruppe bedeuten und gleich oder voneinander
verschieden sein können.
2. Substrat nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß es aus der Gruppe ausgewählt ist, die besteht aus:
- i) einem Substrat (A), das dadurch hergestellt ist, daß ein Polymer als konkav/konvex gebildete Rille (a 2) auf einer flachen Basisplatte (a 1) durch ein 2P-Verfahren oder durch ein thermisches Polymerisationsverfahren gebildet ist;
- ii) einem Substrat (B), das dadurch hergestellt ist, daß eine Monomerzusammensetzung in eine Gußform formgegossen ist, die durch Verwendung einer Originalscheibe mit einer Konkav/Konvex-Form hergestellt ist, wobei eine flache Basisplatte (b 1) und eine konkav/konvex gebildete Rille (b 2) in einem Schritt integral aus einem Polymer gebildet sind; und
- iii) einem flachen Substrat (C), welches aus einer Schicht oder einem Vielschichtlaminat gebildet ist, wobei beide Oberflächen planar sind.
3. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß es das Substrat (A) ist, bei dem die flache
Basisplatte (a 1) und/oder die konkav/konvex gebildete
Rille (a 2) aus einem Polymer gebildet ist, welches als
eine essentielle Komponente ein Monomer enthält, welches
durch die allgemeine Formel (I) dargestellt ist.
4. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß es das Substrat (B) ist, bei dem die flache
Basisplatte (b 1) und die konkav/konvex gebildete Rille
(b 2) integral aus einem Polymer gebildet sind, welches
als eine essentielle Komponente ein Monomer enthält,
welches durch die allgemeine Formel (I) dargestellt ist.
5. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß es das flache Substrat (C) ist, welches aus einer
Schicht gebildet ist und welches insgesamt und integral
aus einem Polymer gebildet ist, welches als eine
essentielle Komponente ein Monomer enthält, das durch die
allgemeine Formel (I) dargestellt ist.
6. Substrat nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß es das flache Substrat (C) ist, welches aus einer
Vielzahl von Schichten gebildet ist, wobei zumindest eine
Schicht aus einem Polymer gebildet ist, das als eine
essentielle Komponente ein Monomer enthält, das durch die
allgemeine Formel (I) dargestellt ist.
7. Substrat nach mindestens einem der Ansprüche 1
bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer ein
Homopolymer aus einem Monomer ist, welches aus den durch
die allgemeine Formel (I) dargestellten Monomeren
ausgewählt ist, oder daß es ein Copolymer aus zumindest
zwei Monomeren ist, die aus den durch die allgemeine
Formel (I) dargestellten Monomeren ausgewählt sind.
8. Substrat nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß das Polymer ein Copolymer
aus einem Monomer oder zumindest zwei Monomeren, die aus
den durch die allgemeine Formel (I) dargestellten
Monomeren ausgewählt sind, mit einem anderen Monomer
ist.
9. Substrat nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß das andere Monomer zumindest ein Methacrylat ist,
welches aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus
Polyurethanmethacrylat, Bisphenol A-methacrylat und
Polyestermethacrylat besteht.
10. Substrat nach Anspruch 8 oder 9, dadurch
gekennzeichnet, daß das Copolymer 5 bis 99 Gew.-% des
Monomers oder der Monomere enthält, die durch die
allgemeine Formel (I) dargestellt sind.
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