DE4000219A1 - Nichtfluechtige halbleiterspeichereinrichtung und verfahren zum verhindern des durchschlages in einer derartigen einrichtung - Google Patents
Nichtfluechtige halbleiterspeichereinrichtung und verfahren zum verhindern des durchschlages in einer derartigen einrichtungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine nichtflüchtige Halblei
terspeichereinrichtung (im folgenden als EPROM bezeichnet),
bei der eine Speicherzelle mit einem schwimmenden Gate ver
wandt wird. Weiterhin bezieht sie sich auf ein Verfahren
zum Verhindern des Durchschlages in einer derartigen Einrich
tung. Insbesondere bezieht sie sich auf ein Betriebsverfah
ren, bei dem ein möglicher Grenzschichtdurchschlag während
des Programmierens der Speichereinrichtung verhindert werden
kann.
Es gibt zwei prinzipielle Typen von Speichern, die üblicher
weise in Computern benutzt werden und auf elektronischen
Schaltungen beruhen. Es handelt sich um flüchtige Speicher
und um nichtflüchtige Speicher. Der erste Typ, z.B. Direkt
zugriffsspeicher, benötigt dauerndes Anlegen einer äußeren
Spannung zum Aufrechterhalten der Datenspeicherung. Dieser
Typ von Speicher wird zum Speichern veränderbarer Daten be
nutzt. Der zweite Typ, z.B. elektrisch programmierbarer Nur-
Lese-Speicher (EPROM), benötigt nicht das dauernde Anlegen
einer externen Spannung zum Aufrechterhalten der Datenspei
cherung und wird häufig benutzt zum Speichern von Programm-
oder Tabulationsdaten, auf die durch einen Computer zuge
griffen wird. Ein EPROM kann elektrisch oder durch die An
wendung von ultraviolettem Licht löschbar sein.
Wie in Fig. 5A gezeigt ist, weist ein löschbarer, program
mierbarer Nur-Lese-Speicher von dem Typ, der durch ultra
violettes Licht löschbar ist, einen Steuerabschnitt 1 zum
Steuern des EPROMs als Ganzem auf. Ein V CC/VPP-Spannungs
versorgungsschaltkreis 15 empfängt Signale von dem Steuerab
schnitt 1. Eine Programmierspannung V PP und eine Versorgungs
spannung V CC, die von außen zum Vorsehen einer internen Span
nungsversorgung an den Steuerabschnitt 1 angelegt sind, sind
an eine periphere Schaltung 5 zum Auswählen von Speicher
zellen angelegt. Die periphere Schaltung 5 zum Auswählen
von Speicherzellen ist mit einer mit dem Steuerabschnitt
1 verbundenen peripheren Schaltungssteuersignalleitung ver
bunden. Der V CC/VPP-Spannungsversorgungsschaltkreis 15 ist
mit dem Steuerabschnitt 1, der peripheren Schaltung und
einer von außen angelegten Programmierspannung V PP verbunden,
die größer als V CC ist. Ein Speicherfeld 12 enthält eine
Anordnung von Speicherzellen in Zeilen und Spalten zum Spei
chern von Ladungen, die die Informationen darstellen und
durch die periphere Schaltung 5 zum Auswählen von Speicher
zellen ausgewählt werden. Steuersignaleingangsanschlüsse
und sind entsprechend mit dem Steuerabschnitt 1
verbunden, an den Steuersignale zum Steuern des EPROMs ein
gegeben werden.
Die periphere Schaltung 5 zum Auswählen von Speicherzellen
weist die folgenden Bestandteile auf: einen Zeilendecoder
7 zum Auswählen einer Speicherzelle 9, die in dem Speicher
feld 12 enthalten ist; einen Spaltendecoder 8; einen Adreß
puffer 6 zum Ausgeben von Adreßsignalen an den Zeilendecoder
7 und den Spaltendecoder 8 als Reaktion auf externe Adreß
signale A 0 bis A n ; einen Eingangs-/Ausgangspuffer 11, der
mit externen Dateneingangs-/-ausgangsanschlüssen D 0 bis D n
zum zeitweiligen Speichern von Eingangs-/Ausgangsdaten ver
bunden ist; und einen Leseverstärker 10, der mit dem Spalten
decoder 8 und dem Eingangs-/Ausgangspuffer 11 verbunden ist
und zum Bestimmen des Vorhandenseins oder der Abwesenheit
von Ladungen beim Lesen dient, die die Information in der
Speicherzelle des Speicherfeldes 12 darstellen.
Der EPROM-Programmer wird im folgenden beschrieben. Der
EPROM-Programmer ist eine Anlage, die willkürliche Informa
tionen in EPROMs verschiedenen Typs, die von verschiedenen
Herstellern produziert werden, schreiben kann. Er wird in
weitem Maße von EPROM-Benutzern benutzt. Der Programmer ent
hält verschiedene Verfahren zum Schreiben in verschiedene
EPROMs, so daß das Programmieren verschiedener EPROMs mög
lich ist. Der Benutzer kann nach Bedarf das Schreibverfahren
auswählen.
Wie in Fig. 5B gezeigt ist, weist der EPROM-Programmer fol
gende Bestandteile auf: einen Programmierspannungsversor
gungsanschluß zum Anlegen der Programmierspannung V PP; einen
Spannungsversorgungsanschluß V CC zum Anlegen von Spannung;
Steuersignalausgangsanschlüsse und zum Ausgeben
von entsprechenden Steuersignalen zum Steuern des EPROMs;
einen Adreßsignalausgangsanschluß zum Ausgeben von Adreß
signalen A₀ bis A n zum Auswählen einer Speicherzelle in dem
Speicherfeld 12; und Dateneingangs-/-ausgangsanschlüsse
D₀ bis D n zum Eingeben und Ausgeben von Daten. Wenn der EPROM
programmiert werden soll, werden die Spannungsversorgungs-
und Signalanschlüsse, die in dem EPROM und dem EPROM-Pro
grammer durch gleiche Bezugszeichen gekennzeichnet sind,
durch eine entsprechende IC-Fassung (nicht gezeigt) verbun
den. Die Einzelheiten des EPROM-Programmers sind auf den
Seiten 3-1 bis 3-14 in "the operation manual of 120A-, 121A
programmer" beschrieben, das zum Beispiel von der DATA I/D-
Corporation herausgegeben ist.
Fig. 6A ist eine schematische Schnittansicht, die die Struk
tur einer Speicherzelle 9 zeigt, die in dem Speicherfeld
12 enthalten ist. Wie in Fig. 6A gezeigt ist, weist eine
Speicherzelle des EPROMs folgende Bestandteile auf: eine
Source 54 und ein Drain 53, die in einem Abstand voneinander
auf einer Hauptoberfläche eines Halbleitersubstrates 51 ge
bildet sind; ein schwimmendes Gate 55, das in einem Gebiet
gebildet ist, das von der Source 54 und dem Drain 53 einge
schlossen ist, wobei ein Isolierfilm dazwischen zum Speichern
von Informationen darstellenden Ladungen angeordnet ist;
und ein Steuergate 56, das über dem schwimmenden Gate 55
zum Auswählen der Speicherzelle gebildet ist, wobei ein iso
lierender Film dazwischen angeordnet ist.
Das Drain 53 ist mit einer Aℓ-Verdrahtung 59 über ein Kon
taktloch 57 verbunden. Das schwimmende Gate 55 und das
Steuergate 56 sind mit einer Zwischenschichtisolierschicht
58 bedeckt. Die Speicherzellen 9 sind voneinander durch einen
Feldoxidfilm 52 getrennt. Die Aℓ-Verdrahtung 59 und die
Zwischenschichtisolierschicht 58 sind mit einem Chip-Schutz
film 60 bedeckt.
Fig. 7 ist eine Grafik, die das Verhältnis zwischen einer
Steuergatespannung V CG und einem Drainstrom I DS zu dem Zeit
punkt darstellt, wenn Ladungen, die die Informationen dar
stellen, in die Speicherzelle 9 geschrieben werden und in
der Speicherzelle 9 gelöscht werden. Wenn die die Informa
tionen darstellenden Ladungen in das schwimmende Gate 55
der Speicherzelle 9 geschrieben werden, fließt ein Drainstrom
I DS, der durch das Bezugszeichen a bezeichnet ist. Wenn die
die Informationen darstellenden Ladungen in dem schwimmenden
Gate 55 gelöscht werden, fließt ein Drainstrom I DS, der durch
das Bezugszeichen b bezeichnet ist. Dieser Zustand wird durch
Anlegen einer Lesegatespannung V R an das Steuergate 56 ge
lesen. Das Vorhandensein oder die Abwesenheit der die Infor
mationen darstellenden Ladungen in dem schwimmenden Gate
55 kann auf diese Weise bestimmt werden.
Die Tätigkeit des EPROMs wird im folgenden beschrieben. Beim
Programmieren wird der außerhalb des EPROMs gelegene, in
Fig. 5B gezeigte EPROM-Programmer benutzt. Der Steuerab
grammer, und der EPROM weist nach, daß das Signal zum Bestim
men der Tätigkeit in dem Programm-Modus ist. Der Steuerab
schnitt 1 legt die von dem EPROM-Programmer angelegte Pro
grammierspannung an die periphere Schaltung 5 zum Auswählen
der Speicherzellen zum Einstellen eines Programmfreigabe
zustandes an. Der Adreßpuffer 6 überträgt Adreßsignale an
den Zeilendecoder 7 und den Spaltendecoder 8, die eine vor
geschriebene Speicherzelle 9 auf der Grundlage des von dem
EPROM-Programmer gelieferten Signales auswählen. Der Zeilen
decoder 7 bzw. der Spaltendecoder 8 wählen eine Wortleitung
und eine Bitleitung aus, die mit dem Steuergate 55 und dem
Drain 53 der Speicherzelle 9 verbunden sind. Zur gleichen
Zeit werden die vorgeschriebene Informationen darstellenden
Ladungen, die von dem Eingangs-/Ausgangspuffer 11 angelegt
werden, in die ausgewählte Speicherzelle 9 geschrieben.
Die Tätigkeit der Speicherzelle 9 des EPROMs wird kurz be
schrieben. Wie in den Fig. 6A und 7 gezeigt ist, wird
eine positive hohe Spannung, zum Beispiel 12,5 V an das
Steuergate 56 angelegt, wenn Schreiben in das schwimmende
Gate 55 durchgeführt werden soll. Eine positive hohe Span
nung, zum Beispiel 8,0 V wird an das Drain 53 angelegt. Die
Source 54 und das Halbleitersubstrat 51 werden auf Masse
gelegt. In diesem Zustand werden die durch den Kanal fließen
den Elektronen in dem zwischen dem Drain 53 und der Source
54 vorhandenen elektrischen Feld in dem Einschnürbereich
nahe des Drains 53 beschleunigt, so daß sie heiße Elektronen
werden. Diese Elektronen werden in das schwimmende Gate 55
über die Energielücke des Gateoxidfilms unterhalb des schwim
menden Gates 55 durch das durch das Steuergate 56 erzeugte
elektrische Feld eingeführt. Die Elektronen in dem schwimmen
den Gate 55 bleiben in dem schwimmenden Gate 55 nach dem
Ende des Schreibens aufgrund der Energielücke des darum
befindlichen isolierenden Filmes. Auf diese Weise wird in
Abhängigkeit von dem Vorhandensein oder der Abwesenheit von
Elektronen in dem schwimmenden Gate 55 Information gespei
chert. Das Löschen wird durch Bestrahlen mit ultraviolettem
Licht durchgeführt. Das von außen eingestrahlte ultraviolette
Licht geht durch den Chip-Schutzfilm 60, die Zwischenschicht
isolierschicht 58 und die Isolierfilme um das schwimmende
Gate 55 und erreichen das schwimmende Gate 55. Die in dem
schwimmenden Gate 55 vorhandenen Elektronen werden durch
die Energie des ultravioletten Lichtes angeregt, wodurch
sie in das Halbleitersubstrat 51 oder in das Steuergate 56
über die Energielücke des darum befindlichen Isolierfilmes
entladen werden. Wenn Elektronen in das schwimmende Gate
55 eingeführt werden, wird Schreiben in das schwimmende Gate
durchgeführt, und die Schwellenspannung wird höher. Wenn
die Elektronen in dem schwimmenden Gate entladen werden,
wird das schwimmende Gate gelöscht, und der Schwellenwert
geht auf den ursprünglichen Pegel zurück.
Der Betrieb der EPROM-Speicherzelle wird im einzelnen unter
Bezugnahme auf die Fig. 6B beschrieben. Zuerst wird der
Programmiermodus beschrieben. Wie in Fig. 6B gezeigt ist,
wird das Potential des Steuergates durch V CG dargestellt,
das Potential des schwimmenden Gates wird durch V FG darge
stellt, das Substratpotential wird durch V SUB dargestellt,
das Drainpotential wird durch V D dargestellt, das Source
potential wird durch V S dargestellt, die Kapazität zwischen
dem schwimmenden Gate und der Source sowie dem Substrat wird
als C 1 dargestellt (die Gesamtkapazität beträgt C 1, da V SUB
und V S beide auf Masse liegen), die Kapazität zwischen dem
Steuergate und dem schwimmenden Gate wird als C 2 dargestellt,
und die Kapazität zwischen dem Drain und dem schwimmenden
Gate wird als C D dargestellt. Bei dieser Gegebenheit kann
die folgende Beziehung zwischen V CG, VFG und V D angegeben
werden:
Beim Schreiben werden V FG entsprechende Elektronen in das
schwimmende Gate eingeführt.
Wenn Programmieren des EPROM durchgeführt wird, wird eine
vorgeschriebene Speicherzelle ausgewählt. Wenn die Informa
tion "0" (entsprechend dem Zustand, in dem Elektronen in
das schwimmende Gate eingeführt werden) geschrieben werden
soll, dann werden hohe Spannungen an das Steuergate und an
den Drain angelegt, wie oben beschrieben worden ist. Als
Resultat werden Elektronen in das schwimmende Gate einge
führt. Wenn die Information "1" (entsprechend dem Zustand,
in dem Elektronen nicht in das schwimmende Gate eingeführt
werden) geschrieben werden soll, werden entweder eines oder
gar keines von Steuergate und Drain auf die hohe Spannung
gesetzt. Folglich wird kein Elektron in das schwimmende Gate
eingeführt. Allegemein wird die hohe Spannung nicht an den
Drain angelegt. Durch eine Reihe von Tätigkeiten, wie sie
oben beschrieben worden sind, werden Informationen in dem
EPROM gespeichert.
Die Lesetätigkeit wird im folgenden beschrieben. Fig. 7 zeigt
die Eigenschaften der Beziehung Gatespannung zu Drainstrom.
Das Bezugszeichen b stellt den Zustand dar, in dem Elektronen
nicht in das schwimmende Gate eingeführt sind, das heißt,
den Zustand der Information "1" In dem Zustand, der mit
dem Bezugszeichen a gekennzeichnet ist, sind Elektronen in
dem schwimmenden Gate. Daher überschreitet der von dem
Steuergate gesehene Schwellenwert die Spannung V R beim Lesen.
Selbst wenn diese Speicherzelle ausgewählt ist, wird der
Speichertransistor nichtleitend, so daß die Information "0"
gelesen wird.
Beim Lesen, nachdem das oben beschriebene Programmieren be
endet ist, überträgt der Steuerabschnitt 1 ein Signal zum
Einstellen des EPROMs in den Lesemodus an die periphere
Schaltung 5 zum Auswählen von Speicherzellen. Wie beim Pro
grammieren wird eine vorgeschriebene Speicherzelle 9 durch
Adreßsignale ausgewählt. Der Leseverstärker 10 weist die
Information in der Speicherzelle 9 nach und überträgt diese
an den Eingangs-/Ausgangspuffer 11. Der Eingangs-/Ausgangs
puffer 11 formt die Signalform der Leseinformationsspannung,
verstärkt diese und gibt sie nach außen ab.
Zwei Typen von EPROMs sind gegenwärtig verfügbar, nämlich
EPROMs, die mit einer Programmierspannung von 12,5 V program
miert werden können, und EPROMs, die mit einer Programmier
spannung von 21 V programmiert werden können. Die Lesespan
nung beträgt im allgemeinen 5 V für beide Typen von EPROMs.
Die meisten EPROM-Programmer sind für EPROMs, die mit 12,5 V
programmiert werden können, als auch für EPROMs, die mit
21 V programmiert werden können, anwendbar.
Der Grund für die zwei verschiedenen Typen von EPROMs ist
der folgende. Üblicherweise wurde Schreiben bei einer Span
nung von 21 V im allgemeinen durchgeführt. Die Zuverlässig
keit nimmt jedoch ab, wenn eine hohe Spannung zum Program
mieren verwendet wird. Zusätzlich wird ein geringer Lei
stungsverbrauch der Speicherzelle gewünscht. Im Hinblick
auf das zuvor Gesagte wurden EPROMs, bei denen das Schreiben
bei einer niedrigeren Spannung durchgeführt werden kann,
gewünscht. Folglich sind EPROMs, bei denen Schreiben mit
einer Spannung von 12,5 V durchgeführt werden kann, auf den
Markt gekommen. Einige Benutzer benutzen jedoch immer noch
herkömmliche EPROM-Programmer zum Schreiben bei 21 V. Daher
kann es vorkommen, daß eine hohe Spannung von 21 V fehler
hafterweise an EPROMs angelegt wird, bei denen Schreiben
mit einer Spannung von 12,5 V durchgeführt wird.
Üblicherweise sind EPROMs so strukturiert, wie oben beschrie
ben worden ist. Damit der EPROM miniaturisiert werden kann,
damit der Leistungsverbrauch verbessert werden kann und damit
die Zuverlässigkeit sichergestellt wird, ist die Programmier
spannung des EPROMs gesenkt worden. Da es verschiedene EPROMs
gibt, die verschiedene Programmierspannungen benötigen, be
steht die Möglichkeit, daß eine Überspannung an einen EPROM
aufgrund fehlerhafter Einstellung des EPROM-Programmers beim
Programmieren auftritt, was zu einem Zusammenbruch des EPROMs
führen kann.
Der Mechanismus eines Transistordurchbruches oder -durch
schlages wird unter Bezugnahme auf die Fig. 8 beschrieben.
Wie in Fig. 8 gezeigt ist, stellt eine Schnittstelle zwischen
der N⁺-Diffusionsschicht (Drain) 63 und dem Halbleitersub
strat 51 eine PN-Diode dar. Wenn die Schreibspannung von
21 V an einen EPROM angelegt wird, dessen Schreibspannung
12,5 V beträgt, wird eine hohe Spannung von der N⁺-Diffu
sionsschicht (Drain) 63 zu dem Halbleitersubstrat 51 ange
legt. Es wird nämlich eine hohe Spannung in Rückwärtsrichtung
an die PN-Diode angelegt. Wenn diese Spannung die Durch
schlagsspannung der PN-Diode überschreitet, fließt ein Puls
strom zu dem Halbleitersubstrat 51. Folglich wird Joulesche
Wärme erzeugt, und eine Temperatur an dem Kontaktabschnitt
zwischen der Aℓ-Verdrahtung 66 und der N⁺-Diffusionsschicht
(Drain) 63 wird erhöht, so daß das Aℓ schmilzt und von der
N⁺-Diffusionsschicht (Drain) 63 zu dem Halbleitersubstrat
51 übergeht. Die Durchbruchsspannung in dem EPROM mit einer
Schreibspannung von 12,5 V ist ungefähr 15 V. Die Durch
bruchsspannung des EPROMs mit einer Schreibspannung von 21 V
ist 26 V.
Der Durchbruch bzw. Durchschlag des Transistors wird wie
oben beschrieben verursacht. Damit der Durchschlag verhindert
wird, ist ein Verfahren zum Festhalten der Schreibspannung
auf 12,5 V vorgeschlagen, selbst wenn 21 V an den EPROM mit
einer Schreibspannung von 12,5 V von dem EPROM-Programmer
angelegt wird. In diesem Fall ist das Schreiben in den EPROM
möglich. In solchen Fällen jedoch, wenn der externe EPROM-
Programmer die Versorgungsmöglichkeit von 21 V hat, ist es
in der tatsächlichen Praxis schwierig, die 21 V auf einen
konstanten Wert von 12,5 V zu beschränken.
Zum Lösen des oben beschriebenen Problems wird eine Program
mierspannungserfassungsschaltung in dem Steuerabschnitt eines
verbesserten EPROMs vorgesehen. Genauer gesagt, wenn es von
der Programmierspannungserfassungsschaltung erfaßt wird,
daß die Programmierspannung, die höher als ein logisch be
stimmter Wert ist, an den EPROM angelegt wird, wird der Pro
grammiermodus nicht eingestellt. Die Spannung V CC wird als
Versorgungsspannung an die interne periphere Schaltung an
gelegt, die V PP/VCC als Versorgungsspannung verwendet, so
daß der Durchbruch der Einrichtung durch eine überhöhte Span
nungsversorgung oberhalb der Durchschlagsspannung der inter
nen Einrichtungen verhindert wird.
Fig. 9 ist eine schematische Darstellung eines V CC/VPP-Span
nungsversorgungsschaltkreises (entsprechend dem Bezugszeichen
15 in Fig. 5A) eines verbesserten EPROMs. Wie in Fig. 9 ge
zeigt ist, weist der V CC/VPP-Spannungsversorgungsschaltkreis
15 des verbesserten EPROMs folgende Bestandteile auf: einen
N-Kanal-Transistor 37, der zwischen einem Programmierspan
nungsanschluß (V PP) und einem Knotenpunkt N vorgesehen ist
und als Reaktion auf einen Ausgang einer NOT-Schaltung 35
tätig wird, einen N-Kanal-Transistor 39, der zwischen dem
Knotenpunkt N und einem Spannungsversorgungsanschluß (V CC)
vorgesehen ist und als Reaktion auf ein Steuersignal einer
peripheren Schaltung, das von dem Steuerabschnitt 1 ausge
geben ist, tätig wird, und eine NOT-Schaltung 35, die zwi
schen dem Steuersignal der peripheren Schaltung und dem Gate
des N-Kanal-Transistors 37 vorgesehen ist. Eine in dem
Steuerabschnitt 1 und in der peripheren Schaltung 5 zum Aus
wählen der Speicherzellen benutzte interne Versorgungsspan
nung wird von dem Knotenpunkt N an Schaltungen abgegeben,
die intern V CC/VPP benutzen (die peripheren Schaltungen zum
Auswählen der Speicherzelle, die Steuerschaltung und ähn
liches).
Wenn bei dem EPROM durch die Programmierspannungserfassungs
schaltung nachgewiesen wird, daß eine Programmierspannung
höher als ein logisch bestimmter Wert angelegt ist, wird
der Programmiermodus nicht gesetzt. Bei dem verbesserten
EPROM wird jedoch die von außen angelegte Programmierspannung
V PP direkt an den V CC/VPP-Spannungsversorgungsschaltkreis
15 angelegt, wie in Fig. 7 gezeigt ist. In diesem Fall kann
der Grenzschichtdurchbruch der Vorrichtung, der durch eine
Überspannung verursacht wird, nicht verhindert werden, wenn
die Programmierspannung V PP höher als die vorgeschriebene
programmierbare Spannung ist. In anderen Worten, eine Über
spannung kann möglicherweise an den V CC/VPP-Spannungsversor
gungsschaltkreis 15 angelegt werden, wodurch der V CC/VPP-
Spannungsversorgungsschaltkreis zerstört werden kann.
Daher ist es Aufgabe der Erfindung, den Zusammenbruch der
eingangs genannten Einrichtung zu verhindern, der durch eine
Überspannung verursacht wird, selbst wenn diese Überspannung
von einem EPROM-Programmer an den EPROM angelegt wird, dabei
soll, falls eine Spannung höher als ein vorgeschriebenes
Potential angelegt ist, diese Spannung auf eine Spannung
niedriger als das vorgeschriebene Potential in einem EPROM
fixiert werden, dies soll bei einer einfachen Struktur des
EPROMs erzielt werden, wobei das Schreiben von Daten in eine
Speicherzelle in Abhängigkeit von dem Potential des Ausgangs
signales in einem EPROM verhindert werden soll, selbst wenn
ein Programmiersignal von einem EPROM-Programmer ausgegeben
wird, und der Durchbruch eines Spannungsversorgungsschalt
stromes in einem EPROM ohne Verriegelung oder übermäßigen
Energieverbrauch verhindert werden soll. Des weiteren ist
es Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zum Verhindern eines
Durchbruchs in der eingangs beschriebenen Einrichtung
vorzusehen, der durch eine Überspannung verursacht wird,
selbst wenn die Überspannung angelegt wird.
Die oben beschriebene Aufgabe kann erfindungsgemäß durch
einen EPROM gelöst werden, der eine nichtflüchtige Halblei
terspeichereinrichtung darstellt, die ein Feld von Speicher
zellen zum Speichern von Information darstellenden Ladungen
mit schwimmenden bzw. schwebenden Gates bzw. floating Gates
darstellt. Der erfindungsgemäße EPROM weist ebenfalls fol
gende Bestandteile auf: einen Speicherzellenauswahlschal
tungsabschnitt zum Auswählen einer Speicherzelle; einen
Steuerabschnitt zum Steuern der Speicherzelle und des Spei
cherzellenauswahlschaltungsabschnittes; und eine interne
Spannungsversorgungserzeugeranlage zum Anlegen einer Be
triebsspannung an den Steuerabschnitt, die Speicherzellen
und den Speicherzellenauswahlschaltungsabschnitt. Die Pro
grammierspannung zum Schreiben wird an den Speicherzellen
auswahlschaltungsabschnitt, den Steuerabschnitt und die
interne Spannungsversorgungserzeugerschaltung beim Schreiben
angelegt.
Der EPROM weist weiter folgende Bestandteile auf: eine Pro
grammspannungsbestimmungsschaltung zum Bestimmen, ob oder
ob nicht die Programmierspannung ein zweites Potential höher
als ein vorgeschriebenes erstes Potential ist; und eine Pro
grammierspannungssenkungsschaltung zum Senken der Program
mierspannung auf ein Potential niedriger als das erste
Potential, wenn durch die Programmierspannungsbestimmungs
schaltung bestimmt ist, daß die Programmierspannung auf dem
zweiten Potential ist.
Die Programmierspannungssenkungsschaltung senkt die Program
mierspannung V PP, die von dem EPROM-Programmer angelegt ist,
auf ein Potential niedriger als das vorgeschriebene erste
Potential, wenn die Programmierspannung V PP höher als ein
vorgeschriebenes Potential ist. Daher gibt es keine Möglich
keit, eine Spannung mit einem höheren Potential als das vor
geschriebene erste Potential an die entsprechenden Schal
tungsabschnitte anzulegen, an die die Programmierspannung
V PP angelegt ist.
Selbst wenn folglich eine Überspannung von dem EPROM-Pro
grammer angelegt ist, kann der Durchbruch der Einrichtung
wegen der Überspannung in dem EPROM verhindert werden.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung weist
die Programmierspannungssenkungsschaltung die folgenden Be
standteile auf: eine Erzeugerschaltung für ein vorgeschrie
benes Potential, das auf ein Ausgangssignal von der Program
mierspannungsbestimmungsschaltung zum Ausgeben eines vorge
schriebenen Potentiales reagiert; und eine Programmierspan
nungseinstellschaltung, die auf ein vorgeschriebenes viertes
Potential zum Fixieren der Programmierspannung auf einem
niedrigeren Potential als das erste Potential reagiert.
Da die Programmierspannungssenkungsschaltung die oben be
schriebenen Komponenten aufweist, wird die Spannung auf einem
Potential niedriger als das erste Potential fixiert, wenn
die von dem EPROM-Programmer angelegte Programmierspannung
höher als das vorgeschriebene erste Potential ist. Wenn daher
eine Spannung höher als ein vorgeschriebenes Potential in
einem EPROM angelegt wird, wird die Spannung auf ein Poten
tial niedriger als das vorgeschriebene Potential fixiert.
Bevorzugterweise weist die nichtflüchtige Halbleiterspeicher
einrichtung weiterhin eine Programmverbieterschaltung auf,
die das Schreiben von Daten in die Speicherzelle verbietet,
wenn die Programmierspannungsbestimmungsschaltung bestimmt,
daß die Programmierspannung auf dem zweiten Potential liegt;
der Steuerabschnitt weist eine Programmiersteuerschaltung
auf, die die Programmierspannung zum Ausgeben eines Signales
zum Durchführen des Schreibens von Daten in die Speicherzelle
empfängt; und die Programmierverbieterschaltung weist eine
Programmschreibsteuerschaltung auf, die mit der Programmier
steuerschaltung und der Programmierspannungsbestimmungsschal
tung verbunden ist zum Verbieten des Schreibens von Daten,
selbst wenn die Programmiersteuerschaltung ein Signal aus
gibt, das das Schreiben von Daten anweist.
Da die Programmverbieterschaltung die oben beschriebenen
Komponenten aufweist, wird das Schreiben von Daten in die
Speicherzelle nicht ausgeführt, wenn nicht vorgeschriebene
Bedingungen erfüllt sind, selbst wenn ein Signal, das das
Datenschreiben anweist, von der Programmiersteuerschaltung
ausgegeben wird. Selbst wenn daher ein Programmiersignal
von dem EPROM-Programmer ausgegeben wird, wird das Schreiben
von Daten in die Speicherzelle in Abhängigkeit von dem Poten
tial des Ausgangssignales nicht in dem EPROM durchgeführt.
Weitere Merkmale und Zweckmäßigkeiten der Erfindung ergeben
sich aus der Beschreibung eines Ausführungsbeispiels anhand
der Figuren. Von den Figuren zeigt:
Fig. 1 ein Blockschaltbild der gesamten Struktur
eines Ausführungsbeispieles des erfindungs
gemäßen EPROMs, der mit ultraviolettem Licht
löschbar ist;
Fig. 2 ein schematisches Diagramm eines Ausfüh
rungsbeispieles der erfindungsgemäßen Pro
grammierspannungserfassungsschaltung;
Fig. 3 ein schematisches Diagramm einer Ausfüh
rungsform einer erfindungsgemäßen Program
mierschaltung;
Fig. 4 eine Grafik, die die Spannungsabhängigkeit
an jedem in Fig. 2 gegebenen Punkt zeigt;
Fig. 5A ein Blockschaltbild der gesamten Struktur
eines durch ultraviolettes Licht löschbaren
EPROMs;
Fig. 5B ein schematisches Diagramm der Ausgangsan
schlüsse eines EPROM-Programmers zum Schrei
ben von Daten in den in Fig. 5A gezeigten
EPROM;
Fig. 6A und 6B Querschnittsansichten der Struktur einer
Speicherzelle;
Fig. 7 eine Grafik der Abhängigkeit des Drain
stromes von der Gatespannung, wenn Informa
tion darstellende Ladungen eingeschrieben
werden und in der Speicherzelle gelöscht
werden;
Fig. 8 eine Querschnittsansicht zum Darstellen
des Durchbruchmechanismusses des Transi
stors; und
Fig. 9 eine schematische Darstellung eines V CC/VPP-
Spannungsversorgungsschaltkreises.
Wie in Fig. 1 gezeigt ist, weist eine Ausführungsform des
erfindungsgemäßen EPROMs folgende Bestandteile auf: einen
Steuerabschnitt 1 zum Steuern des EPROMs; einen V CC/VPP-
Spannungsversorgungsschaltkreis 15, der auf eine von einem
EPROM-Programmer angelegte Programmierspannung V PP und ein
von dem Steuerabschnitt 1 ausgegebenes Steuersignal einer
peripheren Schaltung reagiert zum Anlegen einer Betriebsspan
nungsversorgung des Steuerabschnittes 1 und einer peripheren
Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle; die periphere
Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle, die an die
von dem EPROM-Programmer angelegte Programmierspannung und
an das von dem Steuerabschnitt 1 ausgegebene Steuersignal
der peripheren Schaltung zum Auswählen der Speicherzelle
usw. angeschlossen ist; und ein Speicherzellenfeld 12 mit
einem Feld von Speicherzellen zum Speichern von Information
darstellenden Ladungen, das mit der peripheren Schaltung
5 zum Auswählen einer Speicherzelle verbunden ist.
Der Steuerabschnitt 1 weist folgende Bestandteile auf: eine
Programmierspannungserfassungsschaltung 3, die an die von
dem EPROM-Programmer angelegte Programmierspannung zum Er
fassen des Potentiales der Programmierspannung V PP ange
schlossen ist; einen Programmier-/Lesesteuerabschnitt 2 zum
Steuern des Programmierens und Lesens; und eine Programmier
schaltung 4, die mit der Programmierspannungserfassungsschal
tung 3 und mit dem Programmier-/Lesesteuerabschnitt 2 ver
bunden ist zum Ausgeben des Steuersignales der peripheren
Schaltung zum Steuern des Speichers und der peripheren Schal
tung zum Auswählen einer Speicherzelle.
Da die Strukturen der peripheren Schaltung 5 zum Auswählen
einer Speicherzelle und des Speicherfeldes 12 die gleichen
sind wie die der in Fig. 5A gezeigten, sind die gleichen
Abschnitte durch die gleichen Bezugszeichen bezeichnet, und
deren Beschreibung wird fortgelassen.
Die Beziehung zwischen dem EPROM und dem EPROM-Programmer
ist ebenfalls die gleiche wie unter Bezugnahme auf die
Fig. 5A und 5B beschrieben worden ist. Daher sind die
gleichen Abschnitte ebenfalls mit gleichen Bezugszeichen
versehen, und deren Beschreibung wird fortgelassen.
Der Betrieb des Steuerabschnittes 1 der Ausführungsform des
erfindungsgemäßen EPROMs wird im folgenden beschrieben. Wie
in Fig. 1 gezeigt ist, wird beim Programmieren der EPROM-
Programmer benutzt, und ein Signal von dem EPROM-Programmer
wird von der Programmier-/Lesesteuerschaltung 2 empfangen.
Ein Steuersignal zum Einstellen des EPROMs in einen Program
miermodus wird an die Programmierschaltung 4 übertragen.
Die Programmierspannungserfassungsschaltung 3 weist nach,
ob die von dem EPROM-Programmer zugeführte Programmierspan
nung V PP eine angemessene Spannung zum Programmieren ist
oder nicht, und sie führt das Resultat dieses Nachweises
der Programmierschaltung 4 zu.
Die Programmierschaltung 4 empfängt ein Programmiersignal
von der Programmier-/Lesesteuerschaltung 2 und ein Program
miersignal von der Programmierspannungserfassungsschaltung
3 und gibt die von dem EPROM-Programmer zugeführte Program
mierspannung an die periphere Schaltung 5 zum Auswählen einer
Speicherzelle nur weiter, wenn beide Signale die Programmier
bedingungen erfüllen, wodurch der EPROM in einen Programmier
freigabezustand gesetzt wird.
Der Adreßpuffer 6 legt Adreßsignale an den Zeilendecoder
7 und den Spaltendecoder 8 zum Auswählen einer vorgeschrie
benen Speicherzelle 9 auf der Grundlage des Signales von
dem EPROM-Programmer an. Der Zeilendecoder 7 und der Spalten
decoder 8 wählen eine Wortleitung und eine Bitleitung aus,
die mit dem Steuergate bzw. dem Drain der Speicherzelle 9
verbunden sind. Zur gleichen Zeit wird von dem EPROM-Pro
grammer vorgeschriebene Information in die Speicherzelle
9 geschrieben.
Beim Lesen, nachdem das Programmieren beendet ist, überträgt
der Programmier-/Lesesteuerabschnitt 2 ein Signal zum Ein
stellen des EPROMs in den Lesemodus an die periphere Schal
tung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle. Folglich wird eine
vorgeschriebene Speicherzelle 5 durch das Adreßsignal aus
gewählt wie beim Programmieren. Der Leseverstärker 10 liest
die Information in der Speicherzelle 9, wie unter Bezugnahme
auf die Fig. 5 und 6 beschrieben worden ist, und überträgt
den Inhalt zu dem Eingangs-/Ausgangspuffer 11. Der Eingangs-/
Ausgangspuffer 11 formt die Wellenform der Informationssi
gnale, verstärkt diese und gibt die Informationssignale nach
außen ab.
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung eines Beispieles
einer Programmierspannungserfassungsschaltung 3. Wie in Fig.
2 gezeigt ist, weist die Ausführungsform der erfindungsge
mäßen Programmierspannungserfassungsschaltung 3 die folgen
den Bestandteile auf: einen N-Kanal-Transistor 22, der mit
dem Programmierspannungsanschluß (V PP) und einem Knotenpunkt
M verbunden ist und als Reaktion auf die Programmierspannung
V PP betätigt wird; einen Inverter 21, der zwischen dem Knoten
punkt M und einem Massepotentialanschluß geschaltet ist und
als Reaktion auf die Versorgungsspannung V CC tätig ist; und
einen N-Kanal-Transistor 25, der zwischen dem Programmier
spannungsanschluß (V PP) und dem Massepotentialanschluß ge
schaltet ist und als Reaktion auf einen Ausgang von dem In
verter 21 tätig wird. Die Programmierspannungsleitung (V PP),
mit der der N-Kanal-Transistor 25 verbunden ist, ist mit
dem Steuerabschnitt 1, dem V CC/VPP-Spannungsversorgungs
schaltkreis 15 zum Ausgeben einer internen Spannungsversor
gung der peripheren Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicher
zelle und mit der peripheren Schaltung 5 zum Auswählen einer
Speicherzelle verbunden, wie in Fig. 1 gezeigt ist.
Der Inverter 21 weist einen P-Kanal-Transistor 23 und einen
N-Kanal-Transistor 24 auf, die in Reihe zwischen dem Knoten
punkt M und der Masse geschaltet sind und als Reaktion auf
die Versorgungsspannung V CC tätig werden. Der Aufbau in der
Schwellenspannung des N-Kanal-Transistors 22 ist so gewählt,
daß sie 15 V beträgt, welches ein Zwischenwert zwischen den
zwei Programmspannungen darstellt, nämlich 12,5 V und 21 V.
Der Betrieb der Programmierspannungserfassungsschaltung 3
wird im folgenden unter Bezugnahme auf die Fig. 2 beschrie
ben. Zuerst wird die Beschreibung für den Fall gegeben, in
dem die von dem EPROM-Programmer ausgegebene Programmierspan
nung V PP und die Programmierspannung V PP des EPROMs beide
gleich 12,5 V sind. Die Versorgungsspannung V CC ist zu 5 V
angenommen. Wenn die Programmierspannung V PP 12,5 V ist,
wird der N-Kanal-Transistor 22 in dem Aus-Zustand gehalten,
da dessen Schwellenspannung 15 V beträgt. Da die Versorgungs
spannung V CC 5 V beträgt, wird der N-Kanal-Transistor 24
in dem Inverter 21 so eingeschaltet, daß die Ausgangsspannung
des Inverters 21 auf dem "L"-Pegel liegt. Folglich wird der
N-Kanal-Transistor 25, der als Reaktion auf die Ausgangs
spannung des Inverters 21 betrieben wird, nicht eingeschal
tet. Daher wird das Potential auf der Programmierspannungs
leitung (V PP) auf 12,5 V gehalten, welche Spannung an den
V CC/VPP-Spannungsversorgungsschaltkreis 15 und an die peri
phere Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle angelegt
wird.
Es folgt jetzt die Beschreibung für den Fall, in dem die
Programmierspannung V PP von dem EPROM-Programmer fälschli
cherweise auf 21 V gesetzt ist, obwohl die Programmierspan
nung V PP des EPROMs 12,5 V beträgt. In diesem Fall wird der
N-Kanal-Transistor 22 als erstes eingeschaltet. Folglich
wird die Programmierspannung V PP von 21 V an die Source des
P-Kanal-Transistors 23 in dem Inverter 21 angelegt. Da die
Versorgungsspannung V CC auf 5 V gesetzt ist, wird bei dieser
Gelegenheit der P-Kanal-Transistor 23 eingeschaltet, und
der Ausgang von dem Inverter 21 geht auf den "H"-Pegel. Da
der N-Kanal-Transistor 25 als Reaktion auf das Ausgangssignal
von dem Inverter 21 tätig wird, wird der N-Kanal-Transistor
25 bei dieser Gelegenheit eingeschaltet.
Folglich wird, obwohl die von dem EPROM-Programmer angelegte
Programmierspannung V PP 21 V beträgt, das Potential durch
den N-Kanal-Transistor 25 auf Masse gelegt, so daß das
Potential auf der Programmierspannungsleitung (V PP) auf das
Massepotential gebracht wird. Das Massepotential wird an
den V CC/VPP-Spannungsversorgungsschaltkreis 15 und an die
periphere Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle an
gelegt, die mit der Programmierspannungsleitung (V PP) ver
bunden sind. Zum besseren Verständnis wird die zeitliche
Änderung der Spannungen an den entsprechenden Punkten A,
M und C in Fig. 2 in Fig. 4 gezeigt.
Wie oben beschrieben worden ist, wird die Überspannung nicht
an die entsprechenden Schaltungen in dem EPROM angelegt,
selbst wenn eine Programmierspannung von dem EPROM-Programmer
angelegt wird, die höher als die vorgeschriebene Programmier
spannung des EPROMs ist. Daher kann das Problem des Grenz
schichtdurchbruches des EPROMs gelöst werden, das durch das
Anlegen einer Überspannung an den EPROM verursacht wird,
wenn der EPROM-Programmer falsch eingestellt wird.
Indem der Schwellenwert des P-Kanal-Transistors 23 und des
N-Kanal-Transistors 24, die den Inverter 21 darstellen,
geeignet eingestellt wird, kann die Betriebsspannung des
N-Kanal-Transistors geeigneterweise verändert werden.
Im folgenden wird die Programmierschaltung 4 beschrieben.
Die Programmierschaltung 5 dient zum Verhindern des Aus
führens eines Programmes, wenn die Programmierspannung V PP
höher als ein vorgeschriebenes Potential ist, als Reaktion
auf Ausgangssignale von der Programmierspannungserfassungs
schaltung 3 und dem Programmier-/Lesesteuerabschnitt 2.
Wie in Fig. 3 gezeigt ist, weist die Ausführungsform der
erfindungsgemäßen Programmierschaltung 4 folgende Bestand
teile auf: eine NOR-Schaltung 28, die mit dem Programmier-/
Lesesteuerabschnitt 2 und der Programmierspannungserfassungs
schaltung 3 verbunden ist; und eine NOT-Schaltung 29, die
mit der NOR-Schaltung 28 verbunden ist, wobei das Ausgangs
signal der NOT-Schaltung 29 an die periphere Schaltung 5
zum Auswählen einer Speicherzelle abgegeben wird. Die Ver
hältnisse zwischen den Ausgangssignalen von dem Program
mier-/Lesesteuerabschnitt 2 und der Programmierspannungser
fassungsschaltung 3 sowie der Ausgangssignale der Program
mierschaltung 4 für die entsprechenden Fälle sind in der
folgenden Tabelle gezeigt:
Wie in der Tabelle gezeigt ist, wird der EPROM nur in den
Programm-Modus gesetzt, wenn der Ausgang von dem Program
mer-/Lesesteuerabschnitt 2 und der Programmierspannungser
fassungsschaltung 3 beide auf dem "L"-Pegel sind. In anderen
Worten, wenn die Programmierspannung V PP höher als das vor
schriebene Potential ist, wird der EPROM nicht program
miert. Daher gibt es keine Möglichkeit, daß eine Programmier
spannung V PP höher als ein vorgeschriebener Wert an die peri
phere Schaltung 5 zum Auswählen einer Speicherzelle in dem
EPROM angelegt wird. Daher kann der Grenzschichtdurchbruch,
der durch das Anlegen einer hohen Spannung in dem EPROM ver
ursacht wird, verhindert werden.
Obwohl ein EPROM von dem Typ, der durch ultraviolettes Licht
löschbar ist, im vorhergehenden beschrieben worden ist, kann
die Erfindung auch auf andere nichtflüchtige Halbleiterspei
chereinrichtungen angewandt werden, die externe Programmspan
nungsversorgung benötigen.
Wie oben beschrieben worden ist, weist erfindungsgemäß der
EPROM eine Programmierspannungsbestimmungsschaltung zum Be
stimmen, ob die Programmierspannung höher als ein vorge
schriebener Wert ist oder nicht, und eine Programmierspan
nungsabsenkungsschaltung zum Absenken der Programmierspannung
auf eine Spannung niedriger als der vorgeschriebene Wert,
wenn die Programmierspannung höher als die vorgeschriebene
Spannung ist, auf. Selbst wenn daher die Programmierspannung
höher ist als ein vorgeschriebener Wert, wird sie auf eine
niedrigere Spannung abgesenkt, und die Ausführung des Pro
grammierens ist verboten, so daß keine Programmierspannung,
die höher als das vorgeschriebene Potential ist, an irgend
einem Abschnitt der nichtflüchtigen Halbleiterspeicherein
richtung angelegt wird. Folglich kann eine nichtflüchtige
Halbleiterspeichereinrichtung vorgesehen werden, die nicht
zerstört wird, selbst wenn eine Programmierspannung höher
als ein vorgeschriebener Wert angelegt wird.
Claims (18)
1. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung, die eine
von extern angelegte Programmierspannung (V PP) zum Schreiben
von Daten in Speicherzellen (9) empfängt, mit:
- - einem Feld (12) der Speicherzellen (9), von denen jede ein schwimmendes Gate (55) zum Speichern von Information darstellenden Ladungen aufweist;
- einem Speicherzellenauswahlabschnitt (5), der mit dem Feld (12) zum Auswählen der Speicherzellen (9) verbunden ist;
- - einem Steuerabschnitt (1), der mit dem Speicherzellenaus wahlabschnitt (5) zum Steuern der Speicherzellen (9) und des Speicherzellenauswahlabschnittes (5) verbunden ist;
- - einer internen Spannungsversorgungserzeugereinrichtung (15), die mit dem Steuerabschnitt (1), den Speicherzellen (9) und dem Speicherzellenauswahlabschnitt (5) zum Anlegen einer Betriebsspannung daran verbunden ist;
- - wobei die Programmierspannung (V PP) zum Schreiben an den Speicherzellenauswahlabschnitt (5), an den Steuerabschnitt (1) und an die interne Spannungsversorgungserzeugereinrich tung (15) angelegt ist, wenn das Schreiben von Daten durch zuführen ist;
gekennzeichnet durch:
- - eine Programmierspannungsbestimmungseinrichtung (21, 22) zum Bestimmen, ob oder ob nicht die Programmierspannung (V PP) auf einem zweiten Pegel höher als ein vorgeschrie bener erster Pegel liegt; und
- - eine Programmierspannungsabsenkeinrichtung (21, 25) zum Absenken der Programmierspannung (V PP) auf ein Potential niedriger als das erste Potential, wenn die Programmier spannungsbestimmungseinrichtung (21, 22) bestimmt, daß die Programmierspannung (V PP) auf dem zweiten Potential liegt.
2. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Steuerabschnitt (1) eine Programmierspannungsein gangseinrichtung zum Eingeben der Programmierspannung (V PP) aufweist und
- - daß die Programmierspannungsbestimmungseinrichtung (21, 22) eine erste Schalteinrichtung (22) aufweist, die mit der Programmierspannungseingangseinrichtung verbunden ist zum Betrieb als Reaktion auf die Programmierspannung (V PP).
3. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schalteinrichtung (22)
auf einem dritten Potential betrieben wird, welches einen
mittleren Wert zwischen dem ersten und zweiten Potential
darstellt.
4. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schalteinrichtung (22)
ein Feldeffektelement aufweist.
5. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß das Feldeffektelement einen Feldeffekttransistor auf weist und
- - daß ein Schwellenwert des Feldeffekttransistors so gewählt wird, daß er das dritte Potential darstellt.
6. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach einem
der Ansprüche 2 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Programmierspannungsabsenkeinrichtung (21, 25) eine Potentialerzeugereinrichtung (21) zum Ausgeben eines vorgeschriebenen vierten Potentiales, wenn die erste Schalteinrichtung (22) eingeschaltet ist und eine Programmierspannungseinstelleinrichtung (25), die auf das vorgeschriebene Potential zum Einstellen der Pro grammierspannung (V PP) auf ein Potential niedriger als das erste Potential aufweist.
7. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 6,
gekennzeichnet durch:
- - eine Spannungsversorgungseingangseinrichtung zum Eingeben eines vorgeschriebenen Spannungsversorgungspotentiales zu dem Steuerabschnitt (1),
- - wobei die Potentialerzeugereinrichtung (21) eine Inverter einrichtung (21) aufweist, die zwischen der ersten Schalt einrichtung (22) und dem Massepotential geschaltet ist und als Reaktion auf das Spannungsversorgungspotential tätig wird.
8. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß die Invertereinrichtung (21)
eine Reihenverbindung eines ersten Feldeffekttransistors
(23) eines bestimmten Leitfähigkeitstyps und einen zweiten
Feldeffekttransistor (24) des entgegengesetzten Leitfähig
keitstyps aufweist.
9. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach einem
der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die Programmierspannungseinstell
einrichtung (25) eine zweite Schalteinrichtung (25) aufweist,
die zwischen der Programmierspannung (V PP) und dem Masse
potential geschaltet ist und als Reaktion auf das vierte
Potential betrieben wird.
10. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Schalteinrichtung
(25) einen Feldeffekttransistor aufweist.
11. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach einem
der Ansprüche 1 bis 10,
gekennzeichnet durch eine Programmverbietungseinrichtung
(2, 3, 4) zum Verbieten des Schreibens von Daten in die Spei
cherzelle (9), wenn die Programmierspannungsbestimmungsein
richtung (22) bestimmt, daß die Programmierspannung (V PP)
das zweite Potential aufweist.
12. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 11,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Steuerabschnitt (1) eine Programmsteuereinrichtung (2) aufweist, die die Programmierspannung (V PP) zum Aus geben eines Signales zum Schreiben von Daten in die Spei cherzelle (9) empfängt, und
- - daß die Programmverbietungseinrichtung (4) eine Programm schreibsteuereinrichtung (4) aufweist, die mit der Pro grammsteuereinrichtung (2) und der Programmspannungsbe stimmungseinrichtung (22, 23) zum Verbieten des Schreibens der Daten, selbst wenn die Programmsteuereinrichtung (2) ein Signal zum Datenschreiben ausgibt, verbunden ist.
3. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
spruch 12,
dadurch gekennzeichnet, daß die Programmschreibsteuereinrich
tung (4) logische Verarbeitungseinrichtungen aufweist.
4. Nichtflüchtige Halbleiterspeichereinrichtung nach An
pruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß die logische Verarbeitungsein
einrichtung eine Reihenverbindung einer NOR-Schaltung (28)
und einer NOT-Schaltung (29) aufweist.
15. Verfahren zum Verhindern des Durchschlages in einer
nichtflüchtigen Halbleiterspeichereinrichtung, wobei der
Durchschlag als Resultat einer daran angelegten überhöhten
Programmierspannung (V PP) auftritt, mit den Schritten:
- - Überwachen der an die Einrichtung angelegten Programmier spannung (V PP);
- - Bestimmen, daß die Größe der Programmierspannung (V PP) größer als die einer vorbestimmten Programmierspannung ist, und als Reaktion
- - Reduzieren der Größe der Programmierspannung (V PP) auf eine vorbestimmte Größe, bei der Schäden an der Einrichtung nicht auftreten.
16. Verfahren nach Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, daß die vorbestimmte Größe einen
Massepegel aufweist.
17. Verfahren zum Schützen gegen einen Durchschlag in einer
nichtflüchtigen Halbleiterspeichereinrichtung als Resultat
einer überhöhten Programmierspannung (V PP), die daran ange
legt ist, mit den Schritten:
- - Überwachen der an die Einrichtung angelegten Programmier spannung (V PP);
- - Bestimmen, daß die Größe der Programmierspannung (V PP) größer als eine vorbestimmte Programmierspannung ist, und als Reaktion
- - Verringern der Programmierspannung (V PP) auf ein vorbe stimmtes Potential geringer als diese Programmierspannung.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP1001621A JPH02183496A (ja) | 1989-01-07 | 1989-01-07 | 不揮発性半導体記憶装置 |
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DE4000219A Ceased DE4000219A1 (de) | 1989-01-07 | 1990-01-05 | Nichtfluechtige halbleiterspeichereinrichtung und verfahren zum verhindern des durchschlages in einer derartigen einrichtung |
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