DE3923686A1 - Verfahren zur vorbehandlung eines substratrohres fuer lichtwellenleiter - Google Patents

Verfahren zur vorbehandlung eines substratrohres fuer lichtwellenleiter

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DE3923686A1
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Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vorbehandlung eines Substratrohres für Lichtwellenleiter vor dem Be­ schichten eines Substratrohres.
Zur Herstellung von Lichtwellenleitern geht man bekannt­ lich von einer sogenannten Vorform bzw. Substratrohr aus, welches aus Mantelglas besteht. Das Substratrohr wird zunächst mit Mantelglas und anschließend mit Kern­ glas innenbeschichtet. Das innenbeschichtete Substrat­ rohr wird kollabiert und zu einer Faser ausgezogen.
Bei diesem Verfahren besteht die Gefahr, daß unerwünsch­ te Verunreinigungen aus dem Substratrohr (Mantelrohr) in die aufgebrachten Schichten eindringen. Der Erfin­ dung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzuge­ ben, welches das Eindringen von unerwünschten Verunrei­ nigungen aus dem Substratrohr in die aufgebrachten Schichten verhindert. Diese Aufgabe wird erfindungsge­ mäß durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Die Erfindung wird im folgenden an einem Ausführungs­ beispiel erläutert.
Die Fig. 1 zeigt ein Quarzglasrohr 1, welches als Vor­ form für die Herstellung einer Lichtwellenleiterfaser dient. Das Quarzglasrohr 1 besteht aus Mantelglas. Zur Herstellung einer Lichtwellenleiterfaser wird das Quarz­ glasrohr 1 innenbeschichtet, und zwar mit Mantel- und Kernglasschichten. Vor dieser Innenbeschichtung wird jedoch erfindungsgemäß eine Vorbehandlung durchgeführt, die im Quarzglasrohr 1 eine Barriere erzeugt, die ver­ hindert, daß unerwünschte Verunreinigungen aus dem Quarzglasrohr 1 in die nach der Vorbehandlung aufge­ brachten Schichten eindiffundieren. Das Eindringen von unerwünschten Verunreinigungen in die aufgebrachten Mantel- und Kernglasschichten würde die Dämpfung der Lichtwellenleiterfaser erhöhen.
Die erfindungsgemäße Vorbehandlung erfolgt dadurch, daß vor der Innenbeschichtung ein Gas in das Quarzglasrohr eingeführt und in das Quarzglasrohr 1 eindiffundiert wird. Das Eindiffundieren des eingeführten Gases er­ folgt beispielsweise bei einer Temperatur von 1600°C bis 1800°C. Es besteht auch die Möglichkeit, daß das Gas, welches die Barriere im Quarzglasrohr erzeugt, erst im Quarzglasrohr 1 durch Reaktion erzeugt wird.
Zur Herstellung einer Barriere im Quarzglasrohr 1, die das Eindringen von unerwünschten Verunreinigungen in die aufgebrachten Schichten verhindert, eignen sich Gase, die Wasser zu binden vermögen. Ein solches Gas ist beispielsweise P2O5. Zur Herstellung von P2O5 wird beispielsweise POCl3 und Sauerstoff in das Quarzglas­ rohr 1 eingeleitet und durch Reaktion aus diesen Stof­ fen P2O5 erzeugt. Dies geschieht nach der Gleichung POCl3 + O2 → P2O5. Die genannte Reaktion erfolgt bei­ spielsweise bei einer Temperatur, die dafür sorgt, daß als Reaktionsprodukt gasförmiges P2O5 entsteht. Gasför­ miges P2O5 entsteht bei Verwendung der genannten Aus­ gangsstoffe beispielsweise bei einer Temperatur von 1800°C. Für die erfindungsgemäße Gasbehandlung kann beispielsweise eine Apparatur verwendet werden, die zur Innenbeschichtung des Quarzglasrohres verwendet wird, d. h. eine Apparatur mit einem Ringbrenner oder Wider­ standsofen, der entlang der äußeren Oberfläche des Quarzglasrohres bewegt wird. Anstelle der Verwendung eines bewegbaren Ringbrenners kann natürlich auch das gesamte Quarzglasrohr gleichzeitig erwärmt werden, und zwar beispielsweise mittels einer Widerstandsheizung.
Das in das Quarzglasrohr 1 eingeführte oder im Quarz­ glasrohr erzeugte Gas diffundiert in einen Oberflächen­ bereich des Quarzglasrohres 1 ein, der in der Fig. 1 mit der Bezugsziffer 2 bezeichnet ist. Der Bereich 2 bildet eine Barriere, die verhindert, daß Verunreini­ gungen in die Mantel- und Kernglasschichten eindringen, die nach der erfindungsgemäßen Vorbehandlung auf die innere Oberfläche des Quarzglasrohres 1 aufgebracht werden.
Die Fig. 2 zeigt das Quarzglasrohr nach der Herstel­ lung der Barriere 2 und nach der auf die Barrierenher­ stellung erfolgenden Innenbeschichtung. Die bei der Innenbeschichtung aufgebrachten Mantelschichten sind mit der Bezugsziffer 3 und die bei der Innenbeschich­ tung aufgebrachten Kernglasschichten sind mit der Be­ zugsziffer 4 bezeichnet.
Anstelle von P2O5 können auch andere Gase wie z.B. SF6, CCl2F2, GeCl4, CCl4 und/oder Cl2 zur Herstellung der erfindungsgemäßen Barriere verwendet werden. Das erfindungsgemäße Verfahren kann auch bei der sogenann­ ten Außenbeschichtung Anwendung finden.

Claims (6)

1. Verfahren zur Vorbehandlung eines Substratrohres für Lichtwellenleiter vor dem Beschichten des Substratroh­ res, dadurch gekennzeichnet, daß das Substratrohr mit einem Gas vorbehandelt wird, welches im Substratrohr eine Diffusionssperre bildet, die verhindert, daß uner­ wünschte Stoffe aus dem Substratrohr in die aufgebrach­ te Schicht diffundieren.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Behandlungstemperatur im Bereich von 1600°C bis 1800°C liegt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Gas in das Substratrohr eindiffun­ diert wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas die Eigenschaft hat, daß es Wasser bindet.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Behandlungsgas im Substratrohr erzeugt wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als Behandlungsgas P2O5, SF6, C l2F2, GeCl4, CCl4 und/oder Cl2 verwendet werden.
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WO2000027767A1 (en) * 1998-11-09 2000-05-18 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Quartz glass tube for use in the production of optical fiber preforms

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