DE3890173C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3890173C2 DE3890173C2 DE3890173A DE3890173A DE3890173C2 DE 3890173 C2 DE3890173 C2 DE 3890173C2 DE 3890173 A DE3890173 A DE 3890173A DE 3890173 A DE3890173 A DE 3890173A DE 3890173 C2 DE3890173 C2 DE 3890173C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- fine
- ultrafine
- particles
- powder
- porous body
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 claims description 27
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 26
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 24
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 21
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 12
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims description 8
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims description 4
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 3
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 3
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 16
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 8
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 6
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001562 pearlite Inorganic materials 0.000 description 4
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000003605 opacifier Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940090961 chromium dioxide Drugs 0.000 description 2
- IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N chromium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Cr+4] IAQWMWUKBQPOIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N chromium(IV) oxide Inorganic materials O=[Cr]=O AYTAKQFHWFYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011490 mineral wool Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N Calcium oxide Chemical compound [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N chloro(triphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=1C=CC=CC=1)(Cl)C1=CC=CC=C1 MNKYQPOFRKPUAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N copper monosulfide Chemical compound [Cu]=S BWFPGXWASODCHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-trimethylsilylmethanamine Chemical compound CN(C)[Si](C)(C)C KAHVZNKZQFSBFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B30/00—Compositions for artificial stone, not containing binders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B20/00—Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials
- C04B20/0076—Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials characterised by the grain distribution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B20/00—Use of materials as fillers for mortars, concrete or artificial stone according to more than one of groups C04B14/00 - C04B18/00 and characterised by shape or grain distribution; Treatment of materials according to more than one of the groups C04B14/00 - C04B18/00 specially adapted to enhance their filling properties in mortars, concrete or artificial stone; Expanding or defibrillating materials
- C04B20/10—Coating or impregnating
- C04B20/1051—Organo-metallic compounds; Organo-silicon compounds, e.g. bentone
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S264/00—Plastic and nonmetallic article shaping or treating: processes
- Y10S264/54—Processes in making insulators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
- Y10T428/2995—Silane, siloxane or silicone coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thermal Insulation (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
feinporösen Körpers, der eine weit niedrigere Wärmeleitfähigkeit
als stationäre Luft unter Atmosphärendruck und eine geringe
zeitliche Veränderlichkeit aufweist.
Der feinporöse Körper der genannten Art kann aufgrund seiner
niedrigen Wärmeleitfähigkeit für verschiedene Zwecke als Wärmeisolator
wirksam eingesetzt werden.
Allgemein gesprochen, besitzen die Wärmeisolatoren eine Wärmeleitfähigkeit
im Bereich von etwa 0,03 bis 0,05 kcal/mh°C,
welche höher ist als die Wärmeleitfähigkeit stationärer Luft,
die im Bereich von 0,02 bis 0,024 kcal/mh°C liegt, so daß mit
ihnen keine ausreichende Wärmeisolierung erzielt werden kann.
Es wurde bereits versucht, einen Wärmeisolator mit einer niedrigeren
Wärmeleitfähigkeit als der von stationärer Luft zu
schaffen.
Insbesondere in den US-Patenten 38 69 334 und 45 64 547 wurden
Wärmeisolatoren vorgeschlagen, bei denen ein feinporöser Körper
verwendet wird. In der erstgenannten Patentschrift wird
ein Verfahren beschrieben, bei dem eine integrale Isolatorplatte
aus einem feinporösen Siliciumdioxid-Aerogel, welches
mit einem Glasfasergewebe unter Druck fixiert wird, gebildet
wird, während das letztgenannte Patent ein Verfahren zur Herstellung
eines Wärmeisolators zeigt, gemäß dem versucht wird,
den freien Raum innerhalb einer Wabenstruktur aus metallischem
oder organischem Material, Textilgewebe, Papier oder dergleichen
dadurch zu vermindern, daß feinteiliges Material wie
Siliciumdioxid-Aerogel in die Freiräume gefüllt wird. Bei diesen
Wärmeisolatoren ist es möglich, die Wärmeleitfähigkeit auf
etwa 0,02 kcal/mh°C unter Atmosphärendruck herabzusetzen; die
Wärmeleitfähigkeitseigenschaften können also, verglichen mit
üblichen Wärmeisolatoren, merklich verbessert werden.
Die Wärmeleitfähigkeit dieser bekannten Wärmeisolatoren war
jedoch unter Atmosphärendruck immer noch im wesentlichen auf
dem Niveau der Leitfähigkeit stationärer Luft und es war deshalb
erforderlich, die Wärmeleitfähigkeit der bekannten Wärmeisolatoren
unter Atmosphärendruck beträchtlich unter die Leitfähigkeit
stationärer Luft zu drücken, um den Wärmeisolationseffekt
weiter zu erhöhen. Mit den bekannten Wärmeisolatoren
war es dagegen nicht möglich, eine ausreichende, befriedigende
wärmeisolierende Wirkung zu erzielen. Außerdem adsorbiert der
Wärmeisolator Dampf aus der Luft, wenn er in der Atmosphäre
zurückgelassen wird, so daß seine wärmeisolierenden Eigenschaften
zeitabhängig verschlechtert werden.
Ferner waren Wärmeisolatoren mit niedriger Wärmeleitfähigkeit
in Form poröser Körper aus Calciumsilikat bekannt, die unter
einem verminderten Druck von etwa 0,1 Torr sowie aus geschäumtem
und zerkleinertem Perlit, ebenso in einem evakuierten Zustand
von etwa 0,1 Torr, wie in der japanischen Offenlegungsschrift
60-33 479 beschrieben, und dergleichen, aber sie waren
nachteilig wegen der Notwendigkeit, sie in evakuiertem Zustand
zu halten, und wegen höherer Herstellungskosten. Bei ihrer
Verwendung als Wärmeisolatoren unterliegen sie bezüglich ihrer
äußeren Form und ihres Gebrauches beträchtlichen Beschränkungen,
und zwar wegen der erwähnten Notwendigkeit, unter Vakuum
gehalten zu werden, und ihre praktische Anwendung ist deshalb
problematisch.
Es wurde auch bereits ein Wärmeisolator mit einer niedrigen
Wärmeleitfähigkeit von 0,015 kcal/mh°C in Form eines Urethan-Hartschaums
entwickelt. Bei diesem geschäumten Urethan ist jedoch
die niedrige Wärmeleitfähigkeit allein abhängig von der
Wärmeleitfähigkeit des in den Schäumen eingeschlossenen Fluorkohlenwasserstoffs,
die 0,006 bis 0,01 kcal/mh°C beträgt, so
daß die wärmeisolierenden Eigenschaften sich verschlechtern,
sobald der gasförmige Fluorkohlenwasserstoff während längeren
Gebrauchs durch Luft ersetzt wird, wobei die Verschlechterung
nach einem Jahr ein solches Maß erreicht, daß die Wärmeleitfähigkeit
auf etwa 0,021 bis 0,024 kcal/mh°C steigt.
Aus der EP-A 00 32 176 sind Wärmeisolationsmischungen aus pyrogener
Kieselsäure und 1 bis 20 Gew.-% mindestens einer Organosiliciumverbindung,
welche mindestens eine Estergruppe oder
wenigstens eine Silicium/Kohlenstoff-Bindung im Molekül aufweist,
bekannt. Diese bekannten Wärmeisolationsmischungen können
zusätzlich zu diesen beiden Komponenten sowohl ein Trübungsmittel
wie z. B. Titandioxid als auch anorganische Fasern wie
z. B. Aluminiumsilikatfasern enthalten. Während für die dort
verwendete pyrogene Kieselsäure für die Primärteilchen eine
mittlere Teilchengröße von 7 nm angegeben ist, enthält die
Druckschrift keine Angaben über die Teilchengrößen des verwendeten
Trübungsmittels. Die Zusatzkomponenten Trübungsmittel
und Fasern werden nur gemeinsam, in Kombination, vorgeschlagen.
Eine Oberflächenbehandlung mittels Flüssigphasenreaktion oder
Gasphasenreaktion wird nicht offenbart.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu
schaffen, mit dem es gelingt, einen feinporösen Körper mit
einer Wärmeleitfähigkeit bei Atmosphärendruck zu schaffen, die
deutlich niedriger ist als diejenige von stationärer Luft und
die nur eine geringe zeitabhängige Veränderlichkeit aufweist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das Verfahren gemäß
den Patentansprüchen 1 bis 5 gelöst. Dabei werden dem durch
Formpressen eines feinteiligen Pulvers hergestellten feinporösen
Körper hervorragende wärmeisolierende Eigenschaften dadurch
verliehen, daß das ultrafeine Pulver zuvor entweder mittels
einer Flüssigphasenreaktion oder mittels einer Gasphasenreaktion
derart oberflächenbehandelt wird, daß die Bildung von
Wasserstoffbrückenbindungen mit OH-Gruppen zwischen den unverpreßten
Teilchen vermieden und damit die freien Zwischenräume
innerhalb des porösen Körpers ausreichend fein und klein werden
und das ultrafeinteilige Pulver nach der Oberflächenbehandlung
eine Korngröße im Bereich von 1 bis 20 nm besitzt.
Bei der Flüssigphasenreaktion wird das ultrafeinteilige Pulver
in einem ein Oberflächenbehandlungsmittel enthaltenden Lösemittelbad
dispergiert. Bei der Gasphasenreaktion erfolgt die
Behandlung des Pulvers durch ein Oberflächenbehandlungsmittel
in einer Inertgasatmosphäre bei hoher Temperatur.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung weiter erläutert:
Fig. 1 ist ein schematisches Modell eines Ausschnitts aus einem
erfindungsgemäß hergestellten feinporösen Körper,
bei dem ein Pulver aus ultrafeinen Teilchen verwendet
wurde;
Fig. 2 ist ein schematisches Modell der Struktur der ultrafeinen
Teilchen, bevor sie der Oberflächenbehandlung
unterworfen worden sind;
Fig. 3 ist ein schematisches Modell, bei dem die ultrafeinen
Teilchen in einem Lösemittel zwecks Behandlung ihrer
Oberfläche mittels einer Flüssigphasenreaktion dispergiert
sind;
Fig. 4 ist ein schematisches Modell der Struktur der ultrafeinen
Teilchen, nachdem sie der Oberflächenbehandlung
unterworfen worden sind, und
Fig. 5 ist ein schematisches Modell eines feinporösen Körpers
gemäß einer anderen Ausführungsform der Erfindung, bei
der Pulver feiner und ultrafeiner Teilchen verschiedener
Korngrößen verwendet werden.
Obwohl die Erfindung nachfolgend anhand der zweckmäßigsten
Ausführungsform näher erläutert wird, soll damit nicht etwa
zum Ausdruck gebracht werden, daß die Erfindung auf diese Ausführungsform
beschränkt sei. Vielmehr umfaßt sie im Rahmen der
Patentansprüche auch sämtliche Abwandlungen und äquivalenten
Ausführungsformen.
Bei der Entwicklung der erfindungsgemäßen feinporösen Körper
haben die Erfinder gefunden, daß die Wärmeleitfähigkeit jedes
porösen Körpers ganz allgemein normalerweise abhängt von der
Wärmeleitfähigkeit des in den freien Zwischenräumen innerhalb
des porösen Körpers enthaltenen Gases, z. B. Luft, und von der
Wärmeleitfähigkeit der festen Anteile des Körpers und daß somit
die Wärmeleitfähigkeit des porösen Körpers unter Atmosphärendruck
merklich geringer als diejenige von stationärer Luft
gemacht werden kann, um die wärmeisolierenden Eigenschaften
dadurch zu verbessern, daß die freien Räume innerhalb des porösen
Körpers fein und klein gemacht werden, um den Einfluß
der Wärmeleitung von Luft zu verringern.
Im Zusammenhang mit der Verkleinerung des freien Raums in dem
porösen Körper, mit der die Wärmeleitfähigkeit unter Atmosphärendruck
deutlich geringer gemacht werden kann als die Leitfähigkeit
stationärer Luft, war es bereits bekannt, daß es wirksam
und zweckmäßig ist, einen feinporösen Körper mittels eines
Pulvers ultrafeiner Teilchen einer Teilchengröße von 1 bis 20 nm,
vorzugsweise von 3 bis 8 nm, herzustellen. Wenn jedoch der
Versuch unternommen wird, das ultrafeine Pulver integral zu
formen und zu verpressen, zeigt das Pulver eine Neigung zur
Bildung großer, aus vielen Einzelteilchen zusammengesetzter
Teilchen, wie in Fig. 2 dargestellt, aufgrund der Kohäsion
der ultrafeinen Pulverteilchen, und es ist deshalb kaum möglich,
den freien Raum innerhalb des porösen Körpers ausreichend
fein und klein zu machen. Deshalb wird erfindungsgemäß
eine Oberflächenbehandlung bei dem Pulver aus ultrafeinen
Teilchen durchgeführt, um deren Kohäsion zu verringern oder zu
beseitigen.
Wenn beispielsweise als ultrafeines Pulver ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
verwendet werden, befindet sich eine größere
Menge an OH-Gruppen der Silanol-Gruppen auf der Oberfläche des
Siliciumdioxids, so daß die Bindungsstärke zwischen den Teilchen
aufgrund von Wasserstoffbrückenbindungen groß ist und die
Teilchen leicht aneinander haften. Die ultrafeinen Siliciumdioxid-Teilchen
adsorbieren auch leicht Wassermoleküle aus der
Luft und verändern sich somit leicht in Abhängigkeit von der
Zeit. Es wird deshalb eine die Kohäsion vermeidende Behandlung
der ultrafeinen Siliciumdioxid-Teilchen durchgeführt, damit
die Siliciumdioxid-Teilchen so lange in einem gegenseitig ungebundenen
Zustand gehalten werden, bis sie zu einem porösen
Körper geformt bzw. formgepreßt werden, und danach werden die
in der Zeichnung mit "FP1" bezeichneten ultrafeinen Teilchen
einer Formpressung unter Bildung eines feinporösen Körpers,
wie in Fig. 1 dargestellt, unterworfen.
Wenn eine Flüssigphasenreaktion zur Oberflächenbehandlung der
ultrafeinen Teilchen, beispielsweise ultrafeiner Siliciumdioxid-Teilchen,
angewandt wird, werden die ultrafeinen Teilchen
FP1, die, wie in Fig. 2 gezeigt, aneinanderhaften, zuerst
in ein Lösemittelbad getaucht, damit sie in dem Bad, wie in
Fig. 3 gezeigt, dispergiert werden. Dann werden die ultrafeinen
Teilchen FP1 mit einem dem Bad zugegebenen Oberflächenbehandlungsmittel
oberflächenbehandelt, wobei das Bad am besten
erwärmt wird, um die Reaktion in Gang zu setzen, und die Teilchen
werden getrocknet, wobei ultrafeine Teilchen FP1 erhalten
werden, die infolge der Oberflächenbehandlung keine Kohäsion
mehr aufweisen, wie in Fig. 4 dargestellt.
Als Oberflächenbehandlungsmittel können organische Silan-Verbindungen,
die mit den Silanol-Gruppen reagieren, verwendet
werden, beispielsweise Alkoxysilan-Verbindungen, einschließlich
Trimethylmethoxysilan, Dimethyldiethoxysilan, Methyltrimethoxysilan
und dergleichen, Chlorsilan-Verbindungen, einschließlich
Dimethyldichlorsilan, Trimethylchlorsilan, Triphenylchlorsilan
und dergleichen, Silazan-Verbindungen, einschließlich
Hexamethyldisilazan, Dimethyltrimethylsilylamin
und dergleichen, wobei aber die Oberflächenbehandlungsmittel
nicht hierauf beschränkt sein müssen.
Als Lösemittel für die Durchführung der Oberflächenbehandlung
in flüssiger Phase kann jedes Lösemittel verwendet werden, in
dem sich die ultrafeinen Teilchen leicht dispergieren lassen,
beispielsweise Benzol, Toluol und dergleichen, obschon die Lösemittel
hierauf nicht beschränkt sind.
Während im Vorstehenden ein Beispiel für die Bildung des feinporösen
Körpers mittels der ultrafeinen Teilchen FP1 beschrieben
wurde, wurde gefunden, daß eine gleichzeitige Verwendung
von feinen Teilchen FP2 gewöhnlicher Korngröße zusammen mit
den ultrafeinen Teilchen FP1, wie in Fig. 5 gezeigt, äußerst
wirksam ist. Hierbei sollten die feinen Teilchen gewöhnlicher
Korngröße eine Größe im Bereich von 20 bis 10 000 nm haben
oder es sollten Teilchen sein, die sich so verhalten, als ob
sie die Größe zusammenhängender, multiplexer Teilchen hätten.
Wenn der feinporöse Körper nur aus den feinen Teilchen FP2 gebildet
wird, entsteht freier Raum, der 15% der durchschnittlichen
Korngröße der feinen Teilchen FP2 erreicht, selbst wenn
ein Zustand erreicht wird, der nahe an die dichteste Beladung
bzw. Packung herankommt.
Die gleichzeitige Verwendung ultrafeiner Teilchen FP1, die
oberflächenbehandelt sind und eine Korngröße von 1 bis 20 nm,
vorzugsweise 3 bis 8 nm, aufweisen, führt jedoch dazu, daß,
wie in Fig. 5 gezeigt, die ultrafeinen Teilchen FP1 zwischen
die nur "feinen" Teilchen FP2 mit vergleichsweise größerer
Korngröße während der Herstellung des porösen Körpers treten,
so daß der freie Raum innerhalb des porösen Körpers sehr fein
und klein gemacht werden kann und weniger als einige nm beträgt.
Der Anteil des Gemischs an feinen Teilchen FP2 sollte
vorzugsweise weniger als 75 Gew.-% betragen, wobei es als noch
besser angesehen wird, wenn er weniger als 50 Gew.-% beträgt.
Als feine Teilchen FP2 mit größerer Korngröße können die feinen
Teilchen von Stoffen aufgezählt werden wie zerkleinerter
Perlit oder kugelförmige Sila-Verbindungen,
Cordierit, anorganische Schichtstoffe wie Ton oder dergleichen,
Diatomeenerde, Calciumsilikat, Ruß, Siliciumkarbid (SiC),
Titanoxid (TiO₂), Zirconiumoxid (ZrO₂), Chromdioxid (CrO₂),
Eisen(II, III)oxid (Fe₃O₄), Kupfer(II)sulfid (CuS), Kupfer(II)oxid
(CuO), Mangandioxid (MnO₂), Siliciumdioxid (SiO₂), Aluminiumoxid
(Al₂O₃), Kobaltoxid (CoO), Lithiumoxid (Li₂O), Calciumoxid
(CaO) und dergleichen. Diese Materialien besitzen ein
hohes spezifisches Emissionsvermögen und diejenigen mit einem
Emissionsgrad von mehr als 0,8 im Infrarotbereich einer Wellenlänge
von mehr als 3 µm werden bevorzugt verwendet. Bei Verwendung
solcher feiner Teilchen mit hohem Emissionsgrad kann
die Strahlungsenergie in den feinteiligen Teilchen in Wärmeenergie
in Form einer durch Strahlung übertragenen bzw. geleiteten
Wärme umgewandelt werden. Und diese Wärme ist andererseits
nur permeabel und kann im Falle ultrafeiner Teilchen
nicht zurückgehalten werden. Deshalb wird die in Wärme umgewandelte
Energie durch die feinen Teilchen undurchlässig gemacht.
Wenn die Strahlungsenergie in Wärmeenergie umgewandelt
ist, kann jede Wärmeleitung wegen der Strahlung unterbunden
werden, und es wird angenommen, daß die Wärmeisolation
bei höherer Temperatur dadurch weiter verbessert wird. Es ist
natürlich nicht erforderlich, daß die feinen Teilchen FP2 auf
diejenigen mit dem hohen Emissionsgrad beschränkt werden, doch
genügen diejenigen einer Korngröße von etwa 20 bis 10 000 nm
den erfindungsgemäß angestrebten Zwecken wie z. B. das ultrafeinteilige,
nicht oberflächenbehandelte Siliciumdioxid.
Schließlich kann ein Fasermaterial mit den vorgenannten ultrafeinen
oder feinen Teilchen vermischt werden, um die Handhabbarkeit
des feinporösen Körpers zu verbessern. Als zuzumischendes
Fasermaterial können anorganische oder organische Fasermaterialien
wie Keramikfasern, Glasfasern, Steinwollefasern,
Asbestfasern, Karbonfasern, Aramidfasern und dergleichen genannt
werden. Das Fasermaterial sollte vorzugsweise in einer
Menge von weniger als 20%, bezogen auf das Gewicht der Teilchen,
zugegeben werden. Was die Größe des Fasermaterials betrifft,
so wird ein Faserdurchmesser von weniger als 30 µm bevorzugt,
während ein solcher von 5 µm besonders bevorzugt wird,
sowie eine Faserlänge von weniger als 50 mm.
Bei der Herstellung des feinporösen Körpers können Verfahren
angewandt werden wie die Bildung des feinporösen Körpers durch
bekanntes Formpressen oder das Einfüllen der pulverförmigen
Teilchen in den Raum, der wärmeisoliert werden soll, wobei aber
auch hier die Möglichkeiten nicht allein hierauf beschränkt
sind.
Wie bereits erwähnt, ist die Verwendung ultrafeiner Siliciumdioxid-Teilchen
als ultrafeine Teilchen im Hinblick auf deren
leichte Verfügbarkeit und ihren niedrigen Preis bevorzugt, obwohl
die Erfindung nicht auf deren Verwendung beschränkt ist.
Als ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen können diejenigen aufgezählt
werden, die durch ein Trockenverfahren mittels Hydrolyse
bei hoher Temperatur in der Dampfphase einer flüchtigen
Siliciumverbindung, insbesondere ihrer Halogenverbindung, oder
mittels eines Naßverfahrens erhältlich sind, wobei die Teilchen
mittels einer Säure aus einer Lösung eines Alkalimetallsilicats,
insbesondere von Natriumsilicat, ausgefällt werden,
wobei aber auch durch andere Verfahren hergestellte Teilchen
verwendet werden können. In jedem Falle können diejenigen, deren
Korngröße nach der Oberflächenbehandlung im Bereich von 1
bis 20 nm, vorzugsweise im Bereich von 3 bis 8 nm liegt, wirksam
eingesetzt werden.
Zur Oberflächenbehandlung kann entweder eine Flüssigphasenbehandlung
angewandt werden, bei der die ultrafeinen Teilchen
in einem Lösemittel dispergiert werden, um sie mit einem
zugegebenen Oberflächenbehandlungsmittel, beschleunigt durch
Erwärmen, Rückfluß oder dergleichen, reagieren zu lassen, oder
es kann eine Behandlung in der Gasphase angewandt werden, bei
der das Oberflächenbehandlungsmittel in einer Inertgasatmosphäre
und bei hoher Temperatur zum Zwecke der Reaktion auf
die ultrafeinen Teilchen aufgebracht wird.
Feine, mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung
etwa 8 nm, spezifische Oberfläche 280 m²/g) wurden unter einem
Preßdruck von 1961 kPa formgepreßt, und es wurde ein Muster
des feinporösen Körpers erhalten.
Die gleichen oberflächenbehandelten, feinen Siliciumdioxid-Teilchen
wie in Beispiel 1 und Keramikfasern
(Durchmesser: 2,8 µm, Länge: 50 mm) wurden in einem Gewichtsverhältnis
von 20 : 1 mittels eines Hochgeschwindigkeitsmischers
bei etwa 3000 U/min miteinander vermischt und danach unter
einem Preßdruck von 1961 kPa formgepreßt, worauf wiederum ein
Exemplar des feinporösen Körpers erhalten wurde.
Die Teilchen von Beispiel 1 als erste Teilchen und TiO₂-Rutil-Pulver
als zweite Teilchen
wurden in einem
Gewichtsverhältnis von 3 : 1 mittels eines Hochgeschwindigkeitsmischers
bei etwa 3000 U/min miteinander vermischt und danach
unter einem Preßdruck von 1961 kPa formgepreßt, worauf ein
Exemplar des feinporösen Körpers erhalten wurde.
Ein feinporöser Körper wurde in gleicher Weise, wie in Beispiel
1 beschrieben, hergestellt, wobei jedoch anstelle der
oberflächenbehandelten feinen Siliciumdioxid-Teilchen des Beispiels
1 im Trockenverfahren hergestellte feine Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße: etwa 7 nm) verwendet
wurden.
In gleicher Weise, wie in Beispiel 2 beschrieben, wurde ein
feinporöser Körper erhalten, wobei jedoch anstelle der oberflächenbehandelten
feinen Siliciumdioxid-Teilchen im Trockenverfahren
hergestellte feine Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße: etwa 7 nm) verwendet wurden.
In gleicher Weise, wie in Beispiel 3 beschrieben, wurde ein
feinporöser Körper erhalten, wobei jedoch anstelle der oberflächenbehandelten
feinen Siliciumdioxid-Teilchen im Trockenverfahren
hergestellte feine Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße: etwa 7 nm) verwendet wurden.
Die gemäß den Beispielen 1 bis 3 und den Vergleichsbeispielen
1 bis 3 hergestellten feinporösen Körper und zusätzlich die
auf dem Markt erhältlichen Wärmeisolatoren, bei denen poröses
Silikagel verwendet wird
(Vergleichsbeispiel
4), wurden Messungen der Wärmeleitfähigkeit
λ1 unter Standardbedingungen (Temperatur: 25°C, Feuchtigkeit:
65%) und der Wärmeleitfähigkeit λ2 nach einem Befeuchtungstest
(48 Stunden bei einer Temperatur von 60°C und einer
Feuchtigkeit von 90%) unterworfen, und zwar gemäß ASTM-C518
unter Verwendung einer stationären Wärmeleitfähigkeits-Meßeinrichtung.
Die Ergebnisse der Messungen sind in der folgenden
Tabelle I aufgeführt:
Aus den in Tabelle I aufgeführten Daten ergibt sich, daß bei
Verwendung einer Silanverbindung und Durchführung der die
Kohäsion verhütenden Behandlung der Oberfläche der ultrafeinen
Teilchen die Wärmeleitfähigkeit der ultrafeinen Teilchen herabgesetzt
wurde, während ihre Widerstandsfähigkeit gegenüber
Wasserdampf durch Feuchtigkeit erhöht wurde.
Weitere erfindungsgemäße Beispiele wurden wie folgt durchgeführt:
Im Trockenverfahren hergestellte ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
mit einer mittleren Korngröße von etwa 7 nm wurden in Benzol
verrührt und dispergiert, worauf eine Lösung von Hexamethyldisilazan
in Benzol zu der dispergierten Lösung während 30 Minuten hinzugegeben
wurde. Das Gemisch wurde unter Rühren etwa zwei Stunden
unter Benzol-Rückfluß bei einer Temperatur von 80°C gehalten,
um eine Reaktion ablaufen zu lassen. Die genannten Komponenten
wurden im Gewichtsverhältnis ultrafeine Siliciumdioxidteilchen
zu Hexamethyldisilazan zu Benzol=1 : 0,15 : 23 eingesetzt.
Die Reaktionslösung wurde bei Raumtemperatur unter
Vakuum getrocknet, und der Rückstand unter Bildung eines feinporösen
Körpers formgepreßt.
In gleicher Weise, wie in Beispiel 4 beschrieben, wurde ein
feinporöser Körper erhalten, wobei jedoch im Trockenverfahren
hergestellte Siliciumdioxid-Teilchen
mit einer spezifischen Oberfläche von 480 m²/g und
mit einer mittleren Korngröße von 5 nm im Gewichtsverhältnis
ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen zu Hexamethyldisilazan zu
Benzol=1 : 0,18 : 32 für die Reaktion eingesetzt wurden.
Ultrafeine, mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte
Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm, spezifische Oberfläche: 340 m²/g) wurden unter
einem Preßdruck von 1961 kPa formgepreßt unter Bildung eines
feinporösen Körpers.
Ultrafeine Teilchen, die durch Vakuumtrocknen der Reaktionslösung
gemäß Beispiel 4 bei Raumtemperatur erhalten wurden, wurden
mit feinen Teilchen einer mittleren Korngröße von 100 nm
vermischt, welche durch Zerkleinern von Perlit
während 24 Stunden in einer
Kugelmühle erhalten wurden; das Gemisch im Gewichtsverhältnis
1 : 1 wurde formgepreßt, und es wurde ein Exemplar des feinporösen
Körpers erhalten.
Mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte ultrafeine
Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm) und TiO₂-Rutil-Pulver
wurden unter einem Druck von 1961 kPa formgepreßt,
und es wurde ein feinporöser Körper erhalten.
Mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte ultrafeine
Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm) und ein Kupferoxidpulver
wurden im Gewichtsverhältnis von 3 : 1
vermischt und danach unter einem Druck von 1961 kPa unter
Bildung eines feinporösen Körpers formgepreßt.
Mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm), Eisen(II,III)oxid
und Ruß
wurden im Gewichtsverhältnis von 8 : 1 : 1 in einem Hochgeschwindigkeitsmischer
(etwa 3000 U/min) vermischt und dann unter
einem Druck von 1961 kPa unter Bildung eines feinporösen
Körpers formgepreßt.
Zu ultrafeinen, mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelten
Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm) wurden 5 Gew.-% eines Keramikfasermaterials
(Durchmesser:
2,8 µm, Länge: 50 mm) als Verstärkungsmaterial zugegeben;
die Materialien wurden mit einem Hochgeschwindigkeitsmischer
bei etwa 3000 U/min vermischt und danach unter einem
Druck von 1961 kPa unter Bildung eines feinporösen Körpers
formgepreßt.
Ein feinporöser Körper wurde in gleicher Weise hergestellt,
wie in Beispiel 11 beschrieben, wobei jedoch ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
(mittlerer Durchmesser: 5 nm) verwendet
wurden, die mit Dimethyldichlorsilan in der Gasphase oberflächenbehandelt worden
waren
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung: 6 nm).
In gleicher Weise, wie in Beispiel 11 beschrieben, wurde ein
feinporöser Körper hergestellt, wobei jedoch mit Dimethyldichlorsilan
in der Gasphase oberflächenbehandelte, ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
(mittlere Korngröße: 5 nm) verwendet wurden
(Korngröße
nach der Oberflächenbehandlung: 8 nm).
Ultrafeine, mit Hexamethyldisilazan in der Gasphase oberflächenbehandelte Siliciumdioxid-Teilchen
(Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 7 nm), Ruß und Keramikfasern
(Durchmesser: 2,8 µm, Länge: 50 mm) wurden in einem Gewichtsverhältnis
von 3 : 1 : 0,5 mit einem Hochgeschwindigkeitsmischer
bei etwa 3000 U/min vermischt und danach unter
einem Druck von 1961 kPa unter Bildung eines feinporösen Körpers
formgepreßt.
In gleicher Weise, wie in Beispiel 14 beschrieben, wurde ein
feinporöser Körper hergestellt, wobei jedoch anstelle von Ruß
ein anorganischer Schichtstoff aus Na-montmorillonit
und anstelle
der Keramikfasern Steinwollefasern
mit einem Durchmesser
von 4 µm und einer Länge von 30 bis 40 mm verwendet
wurden.
Mit Dimethyldichlorsilan in der Gasphase oberflächenbehandelte, ultrafeine
Siliciumdioxid-Teilchen
(mittlere Korngröße nach der Oberflächenbehandlung:
etwa 6 nm), TiO₂-Rutil-Pulver
und Karbonfasern
mit einem Durchmesser von 15 µm und einer Länge von 20 mm
wurden im Gewichtsverhältnis von 3 : 1 : 0,2 miteinander
vermischt und danach unter einem Druck von 1961 kPa unter
Bildung eines feinporösen Körpers formgepreßt.
Ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen mit einer
mittleren Korngröße von etwa 7 nm und fein zerkleinerter Perlit
wurden im Gewichtsverhältnis von 3 : 1 miteinander vermischt
und danach unter einem Druck von 1961 kPa unter Bildung
eines feinporösen Körpers formgepreßt.
Ultrafeine Siliciumdioxid-Teilchen
mit einer mittleren Korngröße von
5 nm, TiO₂-Rutil-Pulver und Keramikfasern
wurden im
Gewichtsverhältnis von 3 : 1 : 0,2 miteinander vermischt und
unter einem Druck von 1961 kPa unter Bildung eines feinporösen
Körpers einer Dicke von etwa 5 mm formgepreßt.
Die gemäß den Beispielen 4 bis 16 und gemäß den Vergleichsbeispielen
5 und 6 hergestellten feinporösen Körper wurden Messungen
der Wärmeleitfähigkeit unterworfen, und zwar unter den
gleichen Bedingungen wie bei den Beispielen 1 bis 3 und den
Vergleichsbeispielen 1 bis 4, wobei die in der folgenden Tabelle
II aufgeführten Ergebnisse gewonnen wurden:
Wie aus der Tabelle II klar ersichtlich, wurde gefunden, daß
die erfindungsgemäß nach den Beispielen 4 bis 16 hergestellten
feinporösen Körper eine geringere Wärmeleitfähigkeit besitzen
als diejenigen der Vergleichsbeispiele 5 und 6, daß also günstige
Ergebnisse erzielt werden konnten.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines feinporösen Körpers mit
hoch wärmeisolierenden Eigenschaften, bei dem der Körper unter
Verwendung eines ultrafeinteiligen Siliciumdioxidpulvers
sowie gegebenenfalls eines feinteiligen Pulvers durch Formpressen
hergestellt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das
ultrafeinteilige Pulver zuvor entweder mittels einer Flüssigphasenreaktion
durch Dispergieren in einem ein Oberflächenbehandlungsmittel
enthaltenden Lösemittelbad oder mittels einer
Gasphasenreaktion durch ein Oberflächenbehandlungsmittel in
einer Inertgasatmosphäre bei hoher Temperatur derart oberflächenbehandelt
wird, daß die Bildung von Wasserstoffbrückenbindungen
mit OH-Gruppen zwischen den unverpreßten Teilchen
vermieden und damit die freien Zwischenräume innerhalb des
porösen Körpers ausreichend fein und klein werden und das
ultrafeinteilige Pulver nach der Oberflächenbehandlung eine
Korngröße im Bereich von 1 bis 20 nm besitzt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei
Verwendung eines feinteiligen Pulvers dieses mit einer mittleren
Teilchengröße von 20 bis 10 000 nm eingesetzt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
feinteilige Pulver in einem Anteil von weniger als 75 Gew.-%
eingesetzt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Oberflächenbehandlung des ultrafeinteiligen
Pulvers mit einer Silanverbindung durchgeführt wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß als
Silanverbindung Hexamethyldisilazan und/oder Dimethyldichlorsilan
eingesetzt wird.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7245387A JPH0816035B2 (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 微細多孔体 |
JP10233787A JPS63303877A (ja) | 1986-12-23 | 1987-04-24 | 微細多孔体 |
JP10231287A JPS63270367A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | 微細多孔体 |
JP63012826A JPH01208376A (ja) | 1987-10-09 | 1988-01-23 | 微細多孔体の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3890173C2 true DE3890173C2 (de) | 1992-11-19 |
Family
ID=27455876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3890173A Expired - Lifetime DE3890173C2 (de) | 1987-03-26 | 1988-03-25 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5124101A (de) |
DE (1) | DE3890173C2 (de) |
GB (1) | GB2210036B (de) |
WO (1) | WO1988007503A1 (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB9200683D0 (en) * | 1992-01-14 | 1992-03-11 | Univ Manchester | Improvements relating to materials |
US5314520A (en) * | 1992-02-12 | 1994-05-24 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing optical fiber preform |
DE4407026A1 (de) * | 1994-03-04 | 1995-09-07 | Heraeus Industrietechnik Gmbh | Thermische Isolierung, Verfahren zur thermischen Isolierung, thermisch isolierendes Gehäuse und dessen Verwendung |
US5877100A (en) * | 1996-09-27 | 1999-03-02 | Cabot Corporation | Compositions and insulation bodies having low thermal conductivity |
US7226243B2 (en) * | 2003-05-06 | 2007-06-05 | Aspen Aerogels, Inc. | Load-bearing, lightweight, and compact super-insulation system |
US20060264133A1 (en) * | 2005-04-15 | 2006-11-23 | Aspen Aerogels,Inc. | Coated Aerogel Composites |
US20060269734A1 (en) * | 2005-04-15 | 2006-11-30 | Aspen Aerogels Inc. | Coated Insulation Articles and Their Manufacture |
US9476123B2 (en) | 2005-05-31 | 2016-10-25 | Aspen Aerogels, Inc. | Solvent management methods for gel production |
WO2007140293A2 (en) | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Aspen Aerogels, Inc. | Aerogel compositions with enhanced performance |
CA2573711A1 (en) * | 2007-01-10 | 2008-07-10 | Hydro Quebec | Gamma monitoring of snow water equivalent and soil moisture content |
US8753447B2 (en) * | 2009-06-10 | 2014-06-17 | Novellus Systems, Inc. | Heat shield for heater in semiconductor processing apparatus |
SI24001A (sl) | 2012-02-10 | 2013-08-30 | Aerogel Card D.O.O. | Kriogena naprava za transport in skladiščenje utekočinjenih plinov |
US9302247B2 (en) | 2012-04-28 | 2016-04-05 | Aspen Aerogels, Inc. | Aerogel sorbents |
US11053369B2 (en) | 2012-08-10 | 2021-07-06 | Aspen Aerogels, Inc. | Segmented flexible gel composites and rigid panels manufactured therefrom |
FR3007025B1 (fr) | 2013-06-14 | 2015-06-19 | Enersens | Materiaux composites isolants comprenant un aerogel inorganique et une mousse de melamine |
KR101485784B1 (ko) | 2013-07-24 | 2015-01-26 | 주식회사 지오스에어로젤 | 단열 및 방음 기능 향상을 위한 에어로겔이 포함된 단열성 조성물 및 이를 이용한 단열원단의 제조방법 |
US11380953B2 (en) | 2014-06-23 | 2022-07-05 | Aspen Aerogels, Inc. | Thin aerogel materials |
KR101562552B1 (ko) * | 2014-07-30 | 2015-10-23 | 주식회사 지오스에어로젤 | 에어로젤이 함유된 알루미늄 복합패널 및 그 제조방법 |
MX2017003836A (es) | 2014-10-03 | 2017-06-28 | Aspen Aerogels Inc | Materiales de aerogel hidrofobos mejorados. |
SG11202011338TA (en) | 2018-05-31 | 2020-12-30 | Aspen Aerogels Inc | Fire-class reinforced aerogel compositions |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3869334A (en) * | 1971-06-10 | 1975-03-04 | Micropore Insulation Limited | Insulating materials |
EP0032176A1 (de) * | 1980-01-09 | 1981-07-22 | Degussa Aktiengesellschaft | Wärmeisolationsmischung und Verfahren zu deren Herstellung |
US4564547A (en) * | 1983-08-04 | 1986-01-14 | Micropore International Limited | Handleable shapes of thermal insulation material |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB655677A (en) * | 1945-05-07 | 1951-08-01 | Minnesota Mining & Mfg | Improvements in or relating to hydrophobic surface treated inorganic particles and materials |
GB682574A (en) * | 1950-05-04 | 1952-11-12 | Dow Corning Ltd | Improvements in or relating to silica compositions |
FR1234245A (fr) * | 1959-05-13 | 1960-10-14 | Rhone Poulenc Sa | Procédé de traitement de charges minérales par des dérivés organosiliciques |
US3169927A (en) * | 1961-05-04 | 1965-02-16 | Union Carbide Corp | Thermal insulation |
US3055831A (en) * | 1961-09-25 | 1962-09-25 | Johns Manville | Handleable heat insulation shapes |
JPS5328934B2 (de) * | 1973-02-03 | 1978-08-17 | ||
FR2360536A1 (fr) * | 1976-08-05 | 1978-03-03 | Air Liquide | Materiau isolant a faible conductibilite thermique constitue d'une structure granulaire compactee |
US4183980A (en) * | 1976-10-21 | 1980-01-15 | Grefco, Inc. | Perlite filler coated with polydimethylsiloxane |
DE2754517A1 (de) * | 1977-12-07 | 1979-06-13 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum verbessern von waermeschutzgegenstaenden |
US4208388A (en) * | 1978-09-28 | 1980-06-17 | Dow Corning Corporation | Flow aid |
JPS61148284A (ja) * | 1984-12-21 | 1986-07-05 | Toray Silicone Co Ltd | 固体材料処理剤 |
JPS636062A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-12 | Toray Silicone Co Ltd | シリカ微粉末の表面改質方法 |
-
1988
- 1988-03-25 DE DE3890173A patent/DE3890173C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-03-25 WO PCT/JP1988/000305 patent/WO1988007503A1/en active Application Filing
- 1988-03-25 GB GB8817247A patent/GB2210036B/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-20 US US07/540,690 patent/US5124101A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3869334A (en) * | 1971-06-10 | 1975-03-04 | Micropore Insulation Limited | Insulating materials |
EP0032176A1 (de) * | 1980-01-09 | 1981-07-22 | Degussa Aktiengesellschaft | Wärmeisolationsmischung und Verfahren zu deren Herstellung |
US4564547A (en) * | 1983-08-04 | 1986-01-14 | Micropore International Limited | Handleable shapes of thermal insulation material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2210036A (en) | 1989-06-01 |
US5124101A (en) | 1992-06-23 |
GB2210036B (en) | 1992-01-29 |
WO1988007503A1 (en) | 1988-10-06 |
GB8817247D0 (en) | 1988-12-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3890173C2 (de) | ||
EP0778814B1 (de) | Aerogelverbundstoffe, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung | |
DE1925009C3 (de) | Faserverstärkter Verbundwerkstoff und seine Verwendung | |
EP0778815A1 (de) | Verfahren zur herstellung von faserverstärkten xerogelen, sowie ihre verwendung | |
DE69028360T2 (de) | Verbundmaterial sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
EP0023587A1 (de) | Temperaturstabilisiertes Siliciumdioxid-Mischoxid, das Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendung | |
DE2612296A1 (de) | Flexibles graphitmaterial und verfahren zu seiner herstellung | |
EP0954438A1 (de) | Mehrschichtige verbundmaterialien, die mindestens eine aerogelhaltige schicht und mindestens eine schicht, die polyethylenterephthalat-fasern enthält, aufweisen, verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung | |
EP0029227B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Wärmedämmformkörpers | |
EP0013387B1 (de) | Agglomerierte Teilchen aus hochdispersen Metalloxiden und Trübungsstoffen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
DE4026828C2 (de) | ||
EP0032176B1 (de) | Wärmeisolationsmischung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE3510753A1 (de) | Hochtemperaturbestaendiges siliciumdioxidfasermaterial | |
EP0119382B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von bindemittelfreien Wärmedämmformkörpern | |
DE19618968A1 (de) | Mischung und Verfahren zur Herstellung wärmedämmender Formkörper | |
DE1912628B2 (de) | Hochtemperaturbeständiger Faservliesstoff und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69416506T2 (de) | Vakuum-wärmeisoliermaterial | |
DE3718482A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines gesinterten magnesia-formkoerpers mit verbessertem hydratisierungswiderstand und mit verbesserter mechanischer festigkeit | |
DE1255629B (de) | Verfahren zur Herstellung von Fasermaterial aus Kohlenstoff oder Graphit | |
EP0068084B1 (de) | Wärmeisolationsmischung | |
DE69109665T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines keramischen Verbundwerkstoffes mit vollständig keramisierter Glaskeramikmatrix. | |
DE19810133A1 (de) | Kieselglasmonolith-Herstellungsverfahren unter Verwendung eines Sol-Gel-Prozesses | |
DE602004004286T2 (de) | Mikroporöses wärme- isolierendes material | |
DE69810155T2 (de) | Verfahren zur Behandlung von faserverstärkten durchtränkten Zementplatten | |
DE3144006C2 (de) | Elektrisch isolierendes Glimmerband sowie seine Verwendung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |