DE3789468T2 - Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre nach diesem Herstellungsverfahren. - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre nach diesem Herstellungsverfahren.Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 54
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 42
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 27
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 23
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 8
- ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L magnesium fluoride Chemical compound [F-].[F-].[Mg+2] ORUIBWPALBXDOA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 7
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 7
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N potassium monoxide Inorganic materials [K]O[K] NOTVAPJNGZMVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 4
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 4
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N terbium atom Chemical compound [Tb] GZCRRIHWUXGPOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 europium-activated yttrium oxide phosphor Chemical class 0.000 claims description 2
- VFXKJLJXBCWMLG-UHFFFAOYSA-N silver;zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2].[Ag+] VFXKJLJXBCWMLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 20
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N oxolead Chemical compound [Pb]=O YEXPOXQUZXUXJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- UUHAKLCIDOHVFM-UHFFFAOYSA-M P.[S-2].[SH-].S.[Zn+2].[Ag+] Chemical compound P.[S-2].[SH-].S.[Zn+2].[Ag+] UUHAKLCIDOHVFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003082 TiO2-SiO2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- UFQXGXDIJMBKTC-UHFFFAOYSA-N oxostrontium Chemical compound [Sr]=O UFQXGXDIJMBKTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZCUJQOIQYJWQJ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-) titanium(4+) trihydrate Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4].O.O.O AZCUJQOIQYJWQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/20—Luminescent screens characterised by the luminescent material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/185—Luminescent screens measures against halo-phenomena
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/24—Supports for luminescent material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/10—Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
- H01J29/18—Luminescent screens
- H01J29/28—Luminescent screens with protective, conductive or reflective layers
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Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von Kathodenstrahlröhren sowie Kathodenstrahlröhren nach der Herstellung mit diesem Verfahren, wobei die Kathodenstrahlröhren ein Mehrschicht-Interterenzfilter zwischen dem Kathodolumineszenz-Wiedergabeschirm und der Innenseite der Vorderplatte enthalten. Derartige Kathodenstrahlröhren können Projektionsfernsehröhren umfassen.
- Ein Mehrschicht-Interferenzfilter enthält eine Anzahl von Schichten, die abwechselnd aus einem Material mit einem hohen Brechungsindex und einem Material mit einem niedrigen Brechungsindex hergestellt sind. Projektionswiedergaberöhren mit derartigen Mehrschicht-Interferenzfiltern sind in EP-A-0 170320, EP-A-0 212715 und in EP-A-0 206381 beschrieben. Bei einem Werkstoff mit einem niedrigen Brechungsindex können die abwechselnden Schichten typisch SiO&sub2; (Brechungsindex n = 1,47) oder MgF&sub2; (n = 1,38) und bei einem Werkstoff mit hohem Brechungsindex TiO&sub2; (n = 2,35) oder Ta&sub2;O&sub5; (n = 2,00) enthalten, wobei der genaue Wert von n von der Substrattemperatur beim Aufdampfen und ebenfalls vom Glühzyklus nach dem Aufdampfen abhängig ist. Diese bekannten Mehrschichtfilter enthalten wenigstens sechs, aber typischer wenigstens vierzehn Schichten, die abwechselnd aus Werkstoffen mit hohem und niedrigem Brechungsindex hergestellt sind. Diese Schichten haben eine optische Dicke nd, worin n der Brechungsindex des Schichtwerkstoffs und d die Dicke sind, wobei die optische Dicke nd der einzelnen Schichten zwischen 0,2 λf und 0,3 λf liegt, worin λf gleich p · λ und λ die gewünschte mittlere Wellenlänge sind, die aus dem vom Leuchtstoff des betreffenden Wiedergabeschirms emittierten Spektrum und p eine Zahl zwischen 1,18 und 1,32 für gebogene Vorderplatten und zwischen 1,18 und 1,36 für flache Vorderplatten ist. Die mittlere optische Dicke durch den ganzen Stapel hindurch, möglicherweise unter Ausschluß der äußeren Abschlußschichten 0,125 λf, beträgt 0,25 λf und λf ist die mittlere Wellenlänge des Filters. Obgleich diese bekannten Kurzwellendurchlaß-Mehrschicht-Interferenzfilter zufriedenstellende Arbeit leisten, hat weiteres Studium ergeben, daß die Filter nach dem Beenden der Röhrenbearbeitung brüchig werden können (Bruchbildung). Die Brüchigkeit tritt zutage nach dem Aufdampfen der Filterschichten nach der Röhrenbearbeitung, die Temperaturzyklen bis zu 400 bis 460ºC umfassen. Derartige Brüchigkeit reduziert die Qualität der optischen Leistung des Mehrschicht-Interferenzfilters.
- Der Erfindung liegt eine Aufgabe zugrunde, die Brüchigkeit in Mehrschicht-Interferenzfiltern in Kathodenstrahlröhren zu verringern und vorzugsweise zu beseitigen.
- Der Erfindung liegt zweiter die Aufgabe zugrunde, die Zykluszeit für Filteraufdampfung zu reduzieren.
- Nach einem ersten Merkmal der Erfindung ist ein Verfahren zum Herstellen einer Kathodenstrahlröhre mit einem Kathodolumineszenzschirm und einem Mehrschicht-Interferenzfilter angegeben, das auf einer der Innenseite zugewandten Oberfläche einer Vorderplatte angebracht ist, wobei das Verfahren den Schritt des Abscheidens abwechselnder Schichten eines Werkstoffs mit einem verhältnismäßig hohen Brechungsindex und einem Werkstoff mit einem verhältnismäßig niedrigen Brechungsindex auf der Vorderplatte umfaßt, wobei der Werkstoff mit einem verhältnismäßig hohen Brechungsindex Niobpentoxid enthält.
- Nach einem zweiten Merkmal der Erfindung wird eine Kathodenstrahlröhre mit einer Vorderplatte, einem Kathodolumineszenzschirm und einem Mehrschicht- Interferenzfilter zwischen der Vorderplatte und dem Schirm geschaffen, wobei das Filter abwechselnde Schichten eines Werkstoffs mit einem verhältnismäßig hohen Brechungsindex und einem Werkstoff mit einem verhältnismäßig niedrigen Brechungsindex auf der Vorderplatte enthält, wobei der Werkstoff mit einem verhältnismäßig hohen Brechungsindex Niobpentoxid enthält.
- Die Vorteile der Verwendung von Niobpentoxid im Vergleich zu Titandioxid sind zunächst, daß es auf einer viel niedrigeren Temperatur aufgedampft werden kann, 80ºC für Niobpentoxid im Vergleich zu 300ºC für Titandioxid, wodurch sich die Zykluszeit um den Faktor zwei verringert, und zweitens, daß die entstehenden Filter mit Niobpentoxid viel bruchfester sind, wenn sie einem Erwärmungszyklus mit Temperaturen bis zu 400 bis 460ºC unterzogen werden, und dieser Erwärmungszyklus ist zum Bearbeiten der fertiggestellten Vorderplatte notwendig.
- Wenn Titandioxid auf niedrigeren Temperaturen aufgedampft wird, wird die Oxidierung stark verlangsamt, wodurch keine vollständige Oxidierung erfolgt und daher lichtabsorbierende Schichten oder unzulässig lange Aufdampfzeiten und niedrigere Brechungsindizes der Schichten entstehen. Niobpentoxid kann bei einer höheren Geschwindigkeit auf 80ºC bereits aufgedampft werden, wodurch Schichten mit einem hohen Brechungsindex erhalten werden. Eine derart hohe Aufdampfgeschwindigkeit des Niobpentoxids verringert die Zykluszeit für Filteraufdampfung bei 80ºC.
- Die Vorteile der Verwendung von Niobpentoxid im Vergleich zu Tantalpentoxid sind zunächst, daß Niobpentoxid einen wesentlich höheren Brechungsindex hat, wodurch Filter mit einem viel breiteren Reflexionsband erhalten werden, und zweitens, daß die Interferenzfilter mit Niobpentoxid bruchfester sind, wenn sie dem Erwärmungszyklus mit Temperaturen bis zu 400 bis 460ºC unterworfen werden.
- Ein Ausführungsbeispiel eines Filters enthielt Niobpentoxid als Werkstoff mit hohem Brechungsindex und Siliziumdioxid als Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex. 2-Schicht-Nb&sub2;O&sub5;/SiO&sub2;-Filter, die mit Substrattemperaturen von 80, 200 und 300ºC aufgedampft wurden, wiesen wenig oder gar keine Brüchigkeit nach dem Erwärmen auf Temperaturen von 460ºC auf, was in sich selbst ein unerwartetes Ergebnis bedeutete. Der Grund für diese Überraschung war, daß Versuche mit (1) 20- Schicht-TiO&sub2;/SiO&sub2;-Filter, die mit Substrattemperaturen von 300 und 400ºC aufgedampft wurden, (2) 2-Schicht-Ta&sub2;O&sub5;-SiO&sub2;-Filter, die mit Substrattemperaturen von 80 und 200ºC aufgedampft wurden, und (3) 10/4)λf-SiO&sub2;-Schichten, d. h. mit Schichten mit einer gleichwertigen Dicke von SiO&sub2; wie in den Filtern in (1) und (2) oben, die ebenfalls mit verschiedenen Substrattemperaturen aufgedampft wurden, alle eine größere und gegenseitig sehr gleichartige Brüchigkeit aufwiesen, wenn sie demselben Temperaturzyklus mit Temperaturen bis zu 460ºC unterworfen wurden. Verschachtelung von Siliziumdioxid mit Niobpentoxid verringert das Auftreten von Brüchigkeit, in manchen Fällen sogar dermaßen, daß sie nicht mehr auftritt. Diese Vergleichsversuche wurden unter Verwendung von Substratmaterial in Form von Projektionsfernsehvorderplattenglas mit einem Ausdehnungskoeffizienten von 95 · 10&supmin;&sup7; durchgeführt.
- In einem anderen Ausführungsbeispiel enthielt das Filter Niobpentoxid als Werkstoff mit hohem Brechungsindex und Magnesiumfluorid als Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex. Diese 20-Schicht-Filter, die mit Substratemperaturen von 200 und 300ºC aufgedampft wurden, zeigten keine Brüchigkeit.
- Die erfindungsgemäß hergestellte Kathodenstrahlröhre kann wenigstens 9 Schichten enthalten, typisch zwischen 14 und 30 Schichten, wobei jede Schicht eine optische Dicke nd hat, worin n der Brechungsindex des Werkstoffs und d die Dicke sind. Die optische Dicke nd wird derart gewählt, daß sie zwischen 0,2 λf und 0,3 λf liegt, insbesondere zwischen 0,23 λf und 0;27 λf, mit einer mittleren optischen Dicke von 0,25 λf, worin λf gleich p · λ ist, worin λ die gewünschte mittlere Wellenlänge ist, die aus dem vom Kathodolumineszenzschirmmaterial emittiert wird, und p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,33 ist.
- Die Vorderplatte kann ein Mischalkaliglas im wesentlichen bleioxidfre mit einem Ausdehnungskoeffizienten im Bereich von 85 · 10&supmin;&sup7; bis 105 · 103w7 je Grad C für Temperaturen zwischen 0 und 400ºC enthalten. Die Hauptbestandteile in Gewichtsprozent eines derartigen Glases können folgende sein
- SiO&sub2; 50 bis 65
- Al&sub2;O&sub3; 0 bis 4
- BaO 0,5 bis 15
- SrO 8 bis 22
- K&sub2;O 3 bis 11
- Na&sub2;O 3 bis 9
- Li&sub2;O 0 bis 4
- unter den Beschränkungen, daß (1) BaO und SrO zusammen zwischen 16 und 24 liegen, und (2) die von Li&sub2;O, Na&sub2;O und K&sub2;O gebildete Kombination zwischen 14 und 17 liegt.
- Ein Aufsatz mit dem Titel "Observation of exceptional temperature humidity stability in multilayer filter coatings" von Peter Martin, Walter Pawlewicz, David Coult und Joseph Jones nach der Veröffentlichung in Applied Optics Vol. 23, Nr. 9, 1. Mai 1984, S. 1307 und 1308, gibt eine Beschreibung von Mehrschichtfilterbedeckungen mittels reaktiv Kathodenzerstäubungstechniken unter Verwendung von Si&sub3;N&sub4;/SiO&sub2; und Nb&sub2;O&sub3;ISiO&sub2; als die Schichten mit hohem und niedrigem Brechungsindex. Der Entwurf des Si&sub3;N&sub4;ISiO&sub2;-Filters war LL(HL)¹&sup4;HLL, worin L und H eine optische Viertelwellendicke des Werkstoffs mit hohem bzw. niedrigem Brechungsindex darstellen, während der Entwurf des Nb&sub2;O&sub5;SiO&sub2;-Filters LL(HL)¹&sup0;LL war. In diesem Aufsatz wird berichtet, daß Temperaturversuche und Relativfeuchtigkeitsversuche mit Temperaturen im Bereich zwischen 75 und 140ºC und mit relativen Feuchtigkeiten zwischen 0 und 85% angaben, daß hinsichtlich der Transmittanz in den Seitenbändern eine Si&sub3;N&sub4;/SiO&sub2;-Beschichtung bemerkenswert stabiler war als eine Nb&sub2;O&sub5;/SiO&sub2;- Beschichtung. In diesem Aufsatz sind keine Einzelheiten darüber gegeben, wie jedes Mehrschichtfilter hergestellt wird, insbesondere über die Art der Substrate, die Abscheidungstemperaturen und das anschließende Behandeln des Filters, welche Angaben alle ihren Einfluß auf die Brüchigkeit, die Qualität der Verbindung zwischen den Schichten und die Härte der Schichten und auf die aktuelle Brechungsindizes des Materials haben. Außerdem haben die Schriftsteller dieses Aufsatzes sich dabei nicht auf das Erzeugen von Interferenzfiltern in Kathodenstrahlröhren bezogen, wobei die Probleme anders sind, u. a.:
- 1. die viel höheren Temperaturen, z. B. 400ºC, bei der Röhrenbearbeitung. Brüchigkeit zeigt ihren Anfang über etwa 330ºC,
- 2. der Elektronenbeschuß im Röhrenbetrieb.
- Die Erfindung bezieht sich ebenfalls auf ein Projektionsfernsehsystem mit drei Kathodenstrahlröhren mit Kathodolumineszenzschirmen, die in verschiedenen Farben leuchten, wobei wenigstens eine der Kathodenstrahlröhren eine auf erfindungsgemäße Weise hergestellte Röhre enthält.
- Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen
- Fig. 1 eine schematische perspektivische Darstellung einer Projektionskathodenstrahlröhre mit einem teilweise ausgebrochenen Kolbenanteil,
- Fig. 2 einen schematischen Querschnitt durch einen Anteil einer flachen Vorderplatte,
- Fig. 3 einen schematischen Querschnitt durch eine gebogene Vorderplatte einer Wiedergaberöhre und einen Anteil der Vorderplatte in der Vergrößerung,
- Fig. 4 einen schematischen Querschnitt durch ein Kurzwellendurchlaß- Mehrschichtinterferenzfilter, und
- Fig. 5 die Kurzwellendurchlaßkennlinien eines bekannten 20-Schicht-TiO&sub2;- SiO&sub2;-Filters (ausgezogene Linie) mit einer 0,125 λf-Abschlußschicht und einem 19- Schicht-Nb&sub2;O&sub5;-SiO&sub2;-Filter (gestrichelte Linie) ohne Abschlußschicht, wobei die Ordinate die Transmittanz und die Abszisse den Winkel XL in Grad darstellen.
- In der Zeichnung sind zum Bezeichnen entsprechender Merkmale dieselben Bezugsziffern verwendet.
- Die Projektionskathodenstrahlröhre 10 nach Fig. 1 enthält einen Glaskolben aus einer Vorderplatte 12, einem Konus 13 und einem Hals 14. Ein Elektronenstrahlerzeuger 15 ist im Hals 14 angebracht und erzeugt ein Elektronenbündel 16, das einen Fleck 18 auf einer Kathodolumineszenzschirmstruktur 17 auf der Vorderplatte 12 erzeugt. Der Fleck 18 wird in gegenseitig senkrecht verlaufenden Richtungen X und Y durch Ablenkspulen 19 an dem Hals-Konusübergang des Kolbens abgelenkt. Elektrische Verbindungen mit dem Inneren des Kolbens verlaufen über Stifte 21 in einem Sockel 20.
- Die Röhre 10 nach Fig. 1 hat eine flache Vorderplatte 12, und ein Anteil der Vorderplatte 12 und der Schirmstruktur 17 sind in Fig. 2 dargestellt. Die Schirmstruktur 17 enthält ein Kurzwellendurchlaß-Mehrschicht-Interferenzfilter 22 auf der Innenfläche der Vorderplatte, wobei ein Kathodolumineszenzschirmmaterial 23 auf dem Filter 22 angebracht ist und ein Aluminiumfilm 24 das Schirmmaterial 23 bedeckt. Der detaillierte Aufbau des Filters 22 wird nachstehend anhand der Fig. 4 näher erläutert.
- In Fig. 3 ist ein anderes Ausführungsbeispiel einer Vorderplatte einer Projektionsfernseh-Kathodenstrahlröhre dargestellt, in der wenigstens die Innenfläche, aber mit größerer Eignung beide Oberflächen der Vorderplatte 12 in bezug auf das Innere des Kolbens konvex sind. Die Konvexflächen können teilsphärisch mit einem Krümmungsradius zwischen 150 mm und 730 mm sein. Der Krümmungswinkel Φ in der Definition als der Winkel zwischen der optischen Achse und einer Senkrechte zur inneren Konvexfläche an einem weiteste von der Mitte des Schirms entfernten Punkt hat einen maximalen Winkel von 18º. Die Struktur 17 des Schirms, wie in Detail angegeben, entspricht der Beschreibung anhand der Fig. 2.
- In Fig. 4 enthält das Mehrschicht-Interferenzfilter 22 wenigstens 9, aber typisch zwischen 14 und 30 Schichten mit abwechselnden Schichten mit hohen (H) und niedrigen (L) Brechungsindizes (n). Die optische Dicke jeder der Schichten ist nd, worin n der Brechungsindex des Werkstoffs und d die wirkliche Schichtdicke sind, wobei die optische Dicke für die einzelnen Schichten zwischen 0,2 λf und 0,3 λf liegt, insbesondere zwischen 0,23 λf und 0,27 λf mit einer mittleren optischen Dicke im ganzen Stapel von 0,25 λf, worin λf gleich p · λ ist, worin p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,33 und λ die gewünschte mittlere Wellenlänge sind, die aus dem vom Kathodolumineszenzschirm 23 emittierten Spektrum gewählt wird. Bei der Herstellung des Filters 22 hat die Schicht 25 mit dem hohen Brechungsindex in größter Entfernung von der Vorderplatte eine optische Dicke im spezifizierten Bereich, aber diese Schicht 25 kann durch eine dünnere, typisch 0,125 λf, Abschlußschicht 26 mit einem niedrigen Brechungsindex (L') bedeckt sein.
- Aus obiger Beschreibung ist klar, daß der Wert der optischen Dicke vom Wert abhängig ist, die p und λ zügewiesen sind. Als Beispiel wenn das Schirmmaterial einen terbiumaktivierten im wesentlichen grünleuchtenden Leuchtstoff mit λ = 545 nm enthält, hat p einen Wert zwischen 1,20 und 1,26. Ein rotleuchtendes Material, wie europiumaktiviertes Yttriumoxid (Y&sub2;O&sub3;:Eu) beträgt λ = 612 nm und p hat einen Wert zwischen 1,20 und 1,26. Schließlich hat ein blauleuchtendes Material wie Zinksulfitsilber (ZnS:Ag) einen Wert λ = 460 nm und p hat einen Wert zwischen 1,24 und 1,33.
- Die optischen Dicken eines typischen Mehrschicht-(HL)&sup9;H-Filters mit einer möglicherweise angebrachten Abschlußschicht ist gemäß der Darstellung in der nachstehenden Tabelle: Schicht Nr. Leuchtstoff (Abschlußschicht) Vorderplatte
- Das Mehrschichtfilter 22 wird durch Abscheidung, beispielsweise durch Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung der Werkstoffe mit hohem und niedrigem Brechungsindex auf einer geeignet vorbereiteten Vorderplatte 12 hergestellt, die als Substrat dient. In einem Beispiel ist das Material mit dem hohen Brechungsindex Niobpentoxid (Nb&sub2;O&sub5;) und das Material mit dem niedrigen Brechungsindex Siliziumdioxid (SiO&sub2;). In einem anderen Beispiel wird Niobpentoxid mit Magnesiumfluorid (MgF&sub2;) als das Material mit dem niedrigen Brechungsindex verwendet. Früher wurden Interferenzfilter unter Verwendung von Titanpentoxid als dem Material mit dem hohen Brechungsindex und von Siliziumdioxid als dem Material mit dem niedrigen Brechungsindex hergestellt, die bei Temperaturen in der Größenordnung von 300 bis 400ºC auf einem Substrat aufgedampft wurden. Obgleich derartige Filter gute optische Merkmale und Verbindungen zwischen benachbarten Schichten aufwiesen, wurde gefunden, daß Brüchigkeit auftrat, nachdem die anschließenden Röhrenbearbeitungsschritte einschließlich der Ablagerung des Leuchtstoffs, der Lackierung, der Aufdampfung des Aluminiumfilms auf der Leuchtstoff/Lackkombination und der Erwärmung bis über 400ºC zum Aufdampfen der Lackschicht und zum Erhalten eines guten Vakuums in der Röhre durchgeführt wurden. Außerdem ist die erforderliche Zykluszeit für die Abscheidung durch die erforderliche hohe Substrattemperatur für das Aufdampfen von TiO&sub2; ziemlich lange.
- Das Problem der Brüchigkeit wurde fast ganz durch die Verwendung von Niobpentoxid beseitigt, das vorzugsweise auf einem kalten Substrat auf typisch 80ºC aufgedampft wird, obgleich auch Substrate auf höherer Temperatur verwendbar sind. Es wurde getunden, daß abgeschiedenes Niobpentoxid im ganzen Temperaturbereich zwischen 80 und 300ºC einen hohen Brechungsindex hat, und die Verwendung mit Siliziumdioxid der Unterschied in den Brechungsindizes zwischen innen groß genug ist, um ein ausreichend breites Reflexionsband zu erhalten, d. h. einen fast so großen Unterschied, wie bei der Verwendung von Titandioxid nach Fig. 5. In Fig. 5 wird auf das Filter unter XL-Winkeln bis zu 32º auffallendes Licht übertragen, während unter stumpferen Winkel einfallendes Licht reflektiert wird, d. h. seine Transmittanz sinkt auf ungefähr Null. Daher wird ein helles im wesentlichen dunstfreies Bild mit einer verbesserten Leuchtdichte (typisch bei einem Faktor von 1,5 bis 1,9), einer gesättigteren Farbe (insbesondere Kathodenstrahlröhren mit grünen terbiumaktivierten Leuchtstoffen und mit einem blauen Zinksulfidsilberleuchtstoff) erhalten, die im wesentlichen zu weniger chromatischer Aberration bei Verwendung in einem Projektionsfernsehsystem leitet, und mit verbessertem Kontrast erhalten wird.
- Bei der Verwendung von Magnesiumfluorid als dem Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex ist es erforderlich, das Aufdampfen des Niobpentoxids und des Magnesiumfluorids auf Temperaturen in der Größenordnung von 200ºC bis 300ºC durchzuführen, um zu gewahrleisten, daß die Schichten den gewünschten Härtegrad haben und sich gut miteinander und mit dem Substrat verbinden. Auf der Temperatur von 300ºC ist die Härte der Schichten größer als bei einer Temperatur von 200ºC.
- Faktoren, die als Beiträge zur Brüchigkeit gehalten werden, sind: (1) die Tatsache, daß die Substrate, d. h. die Vorderplatten, einen großen Ausdehnungskoeffizienten haben, d. h. einen im Bereich von 85 · 10&supmin;&sup7; bis 105 · 10&supmin;&sup7; je Grad C für Temperaturen zwischen 0ºC und 400ºC gegenüber insbesondere Siliziumdioxid mit einem niedrigen Ausdehnungskoeffizienten. Es wird davon ausgegangen, daß Niobpentoxid die Gesamtelastizität der Mehrschichtfilter einigermaßen fördert und damit die Brüchigkeit reduziert; (2) die Tatsache, daß eine große Anzahl von Schichten, typisch in der Größenordnung von 20 Schichten verwendet wurde. Die Brüchigkeit wird gefördert, wenn die Schichtzahl größer wird, und nimmt ab, wenn die Schichtzahl verringert wird; (3) die Tatsache, daß die Filter üblicherweise einige Zeit geglüht werden (einen oder mehrere Tage) nach dem Aufdampfen. Das Abkühlen des Substrats auf die Umgebungstemperatur vor dem Glühen und also das Durchdringen des Wasserdampfes in die Poren des Filters wurden als brüchigkeitsfördernd festgestellt. In kürzlich durchgeführten Versuchen wurden Nb&sub2;O&sub5;-SiO&sub2;-Filter, die auf Substrattemperaturen zwischen 80 und 300ºC aufgedampft wurden, und Nb&sub2;O&sub5;-MgF&sub2;-Filter, die auf Temperaturen zwischen 200 und 300ºC aufgedampft wurden, auf 460ºC im wesentlichen direkt nach dem Aufdampfen ohne Abkühlen des Substrats geglüht. Dies beseitigte das Eintreten von Brüchigkeit für diese Filter vollständig.
- Ein geeignetes Glas für ein Substrat für eine Kathodenstrahlröhre, insbesondere für Projektionsfernsehen, ist ein Mischalkaliglas frei oder nahezu frei von Bleioxid (PbO) und mit Bariumoxid (BaO) und Strontiumoxid (SrO) als Röntgenstrahlhauptabsorbierer.
- Die Zusammensetzungen in Gewichtsprozent geeigneter bestehender Gläser zur Verwendung als Substrate sind folgende: Komponente Hersteller/Typ Schott Nippon Electric Glass Asahi Spurenelemente
Claims (30)
1. Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre mit einem
Kathodolumineszenzschirm und einem Mehr- schicht-Interterenzfilter auf einer der Innenseite
zugewandten Oberfläche einer Vorderplatte, wobei das Verfahren den Schritt zum
Abscheiden abwechselnder Schichten aus einem Werkstoff mit verhältnismäßig hohem
Brechnungsindex und einem Werkstoff mit verhältnismäßig niedrigem Index auf der
Vorderplatte umfaßt, und der Werkstoff mit einem verhältnismäßig hohen
Brechungsindex Niobpentoxid enthält.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens 9
abwechselnde Schichten abgeschieden werden, wobei die Schichten eine optische Dicke
nd haben, worin n der Brechungsindex der Werkstoffe und d die Dicke sind, und die
optische Dicke nd der einzelnen Schichten zwischen 0,2 λf und 0,3 λf liegt, die mittlere
optische Dicke der Schichten 0,25 λf beträgt, worin λf gleich p · λ ist, λ die
gewünschte zentrale Wellenlänge ist, die aus dem vom Kathodolumineszenzmaterialschirm
ausgesandten Spektrum gewahlt wird, und p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,33 ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex Siliziumdioxid enthält, und die abwechselnden
Schichten bei einer Temperatur im Bereich von im wesentlichen 80ºC bis zu im
wesentlichen 300ºC abgeschieden werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der
Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex Magnesiumfluorid enthält, und die
abwechselnden Schichten bei einer Temperatur im Bereich von im wesentlichen 200ºC bis zu
im wesentlichen 300ºC abgeschieden werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß das Mehrschicht-Interferenzfilter geglüht wird, während die Vorderplatte auf
Überraumtemperatur ist.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Vorderplatte ein im wesentlichen bleioxidfreies (PbO) Mischalkaliglas enthält.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die
Vorderplatte
einen Ausdehnungskoeffizienten im Bereich von 85 · 10&supmin;&sup7; bis zu 105 · 10&supmin;&sup7; pro
ºC für Temperaturen zwischen 0 und 400ºC hat.
8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Glaszusammensetzung in Gewichtsprozent als Hauptbestandteile folgendes enthält:
SiO&sub2; 50 bis 65
M&sub2;O&sub3; 0 bis 4
BaO 0,5 bis 15
SrO 8 bis 22
K&sub2;O 3 bis 11
Na&sub2;O 3 bis 9
Li&sub2;O 0 bis 4
mit den Einschränkungen, daß (1) BaO und SrO zusammen zwischen 16 bis 24 liegen,
und daß (2) die aus Li&sub2;O, Na&sub2;O und K&sub2;O gebildete Kombination zwischen 14 und 17
liegt.
9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Kathodolumineszenzschirm auf dem Interferenzfilter angebracht
ist.
10. Verfahren nach Anspruch 2 oder einem der Ansprüche 3 bis 8, wenn
abhängig vom Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die letzte Schicht mit mittlerer
optischer Dicke von 0,25 λf des Filters einen Werkstoff mit einem hohen
Brechnungsindex enthält, eine Abschlußschicht auf der letzten Schicht angebracht ist, die
Abschlußschicht einen niedrigeren Brechungsindex als der der letzten Schicht ist und eine im
wesentlichen geringere Dicke als eine mittlere optische Dicke von 0,25 λf hat und wobei
ein Kathodoluminszenzschirm auf der Abschlußschicht angebracht ist.
11. Kathodenstrahlröhre mit einer Vorderplatte, einem
Kathodolumineszenzschirm und einem Mehrschicht-Interferenzfilter zwischen der Vorderplatte und dem
Schirm, wobei das Filter abwechselnde Schichten eines Werkstoffs mit einer
verhältnismäßig hohen Brechungsindex und eines Werkstoffs mit einer verhältnismäßig niedrigen
Brechungsindex auf der Vorderplatte enthält, und der Werkstoff mit einem
verhältnismäßig hohen Brechungsindex Niobpentoxid enthält.
12. Röhre nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Filter
wenigstens 9 Schichten enthält, die eine optische Dicke nd haben, worin n der
Brechungsindex der Werkstoffe und d die Dicke ist, wobei die optische Dicke nd der
einzelnen Schichten zwischen 0,2 λf und 0,3 λf liegt, die mittlere optische Dicke der
Schichten 0,25 λf beträgt, worin λf gleich p · λ ist, λ die gewünschte zentrale
Wellenlänge ist, die aus dem vom Kathodolumineszenzmaterialschirm ausgesandten Spektrum
gewählt wird, und p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,33 ist.
13. Röhre nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Filter
zwischen 14 bis 30 Schichten enthält.
14. Röhre nach Anspruch 12 oder 13, dadurch gekennzeichnet, daß nd
zwischen 0,23 λf und 0,27 λf liegt.
15. Röhre nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß
der Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex Siliziumdioxid enthält.
16. Röhre nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß
der Werkstoff mit niedrigem Brechungsindex Magnesiumfluorid enthält.
17. Röhre nach einem der Ansprüche 11 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß
das Filter im wesentlichen direkt nach dem Abscheiden der Schichten geglüht wird.
18. Röhre nach einem der Ansprüche 11 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß
die Vorderplatte ein im wesentlichen bleioxidfreies (PbO) Mischalkaliglas enthält.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß die
Vorderplatte einen Ausdehnungskoeffizienten im Bereich von 85 · 10&supmin;&sup7; bis zu 105 · 10&supmin;&sup7; pro
ºC für Temperaturen zwischen 0 und 400ºC hat.
20. Verfahren nach Anspruch 18 oder 19, dadurch gekennzeichnet, daß die
Glaszusammensetzung in Gewichtsprozent als Hauptbestandteile folgendes enthält:
SiO&sub2; 50 bis 65
Al&sub2;O&sub3; 0 bis 4
BaO 0,5 bis 15
SrO 8 bis 22
K&sub2;O 3 bis 11
Na&sub2;O 3 bis 9
Li&sub2;O 0 bis 4
mit den Einschränkungen, daß (1) BaO und SrO zusammen zwischen 16 bis 24 liegen,
und daß (2) die aus Li&sub2;O, Na&sub2;O und K&sub2;O gebildete Kombination zwischen 14 und 17
liegt.
21. Röhre nach einem der Ansprüche 11 bis 20, dadurch gekennzeichnet, daß
die Innenseite der Vorderplatte mit einem größten Biegungswinkel (φ = 180 konvex ist,
worin φ der Winkel zwischen der optischen Achse und der Senkrechte auf die konvexe
Oberfläche an einem weitest von der Mitte des Schirms befindlichen Punkt ist.
22. Röhre nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß die konvexe
Vorderplatte im wesentlichen sphärisch ist und einen Krümmungsradius zwischen 150
und 730 mm hat.
23. Röhre nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kathodolumineszenzschirm einen mit Terbium aktivierten grünleuchtenden Leuchtstoff
ist, wobei λ = 545 nm beträgt und p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,26 ist.
24. Röhre nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kathodolumineszenzschirm einen mit Europium aktivierten Yttriumoxid-Leuchtstoff
(Y&sub2;O&sub3;:Eu) ist, wobei = 612 nm beträgt und p eine Zahl zwischen 1,20 und 1,26 ist.
25. Röhre nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der
Kathodolumineszenzschirm ein Zinksulphid-Silber (ZnS:Ag) ist, wobei λ = 460 nm
beträgt und p eine Zahl zwischen 1,24 und 1,33 ist.
26. Röhre nach Anspruch 12 oder nach einem der Ansprüche 13 bis 15, wenn
vom Anspruch 12 abhängig, dadurch gekennzeichnet, daß die mittlere optische Dicke
der Schichten 0,25 λf beträgt, die weitest von der Vorderplatte entfernte Schicht mit
einer Dicke von im wesentlichen 0,25 λf einen Werkstoff mit einem hohen
Brechungsindex enthält, und daß die weitest von der Vorderplatte entfernte Schicht mit dem
Kathodolumineszenzmaterial bedeckt ist.
27. Röhre nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, daß eine
Abschlußschicht zwischen der weitest von der Vorderplatte entfernten Schicht mit einem
Werkstoff mit hohem Brechungsindex und der Schicht aus
Kathodolumineszenzschirmmaterial angebracht ist, wobei die Abschlußschicht eine optische Dicke im wesentlichen
von 0,125 λf hat und aus einem Werkstoff mit einem niedrigerem Brechungsindex als
der der benachbarten Filterschicht besteht.
28. Projektionsfernsehsystem mit drei Kathodenstrahlröhren mit
Kathodolumineszenzschirmen, die in verschiedenen Farben leuchten, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens eine der Kathodenstrahlröhren eine Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 23
ist.
29. Projektionsfernsehsystem mit drei Kathodenstrahlröhren mit
Kathodolumineszenzschirmen, die in verschiedenen Farben leuchten, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens eine der Kathodenstrahlröhren eine Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 24
ist.
30. Projektionsfernsehsystem mit drei Kathodenstrahlröhren mit
Kathodolumineszenzschirmen, die in verschiedenen Farben leuchten, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens eine der Kathodenstrahlröhren eine Kathodenstrahlröhre nach Anspruch 25
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB868612358A GB8612358D0 (en) | 1986-05-21 | 1986-05-21 | Cathode ray tube |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3789468D1 DE3789468D1 (de) | 1994-05-05 |
DE3789468T2 true DE3789468T2 (de) | 1994-10-20 |
Family
ID=10598202
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3789468T Expired - Fee Related DE3789468T2 (de) | 1986-05-21 | 1987-05-12 | Verfahren zur Herstellung einer Kathodenstrahlröhre und Kathodenstrahlröhre nach diesem Herstellungsverfahren. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5068568A (de) |
EP (1) | EP0246696B1 (de) |
JP (1) | JPH07101600B2 (de) |
DE (1) | DE3789468T2 (de) |
GB (1) | GB8612358D0 (de) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8707975D0 (en) * | 1987-04-03 | 1987-05-07 | Philips Nv | Colour cathode ray tube |
JPH0218841A (ja) * | 1988-07-06 | 1990-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | 陰極線管 |
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FR2640425A1 (fr) * | 1988-12-09 | 1990-06-15 | Malifaud Pierre | Procede pour la selection spectrale d'un rayonnement et dispositif de mise en oeuvre, notamment teleprojecteur d'image video |
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JP3368110B2 (ja) | 1995-08-01 | 2003-01-20 | キヤノン株式会社 | 光源装置及び光学機器 |
KR100453188B1 (ko) | 1999-05-31 | 2004-10-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 콘트라스트가 향상된 음극선관 및 그 제조방법 |
KR100615154B1 (ko) | 1999-08-19 | 2006-08-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 콘트라스트가 향상된 음극선관 |
JP4345158B2 (ja) * | 1999-10-15 | 2009-10-14 | ソニー株式会社 | 光学部品の製造装置及び製造方法 |
JP2002075227A (ja) * | 2000-06-14 | 2002-03-15 | Sharp Corp | 気体放電表示装置およびプラズマアドレス液晶表示装置ならびにその製造方法 |
KR100786854B1 (ko) * | 2001-02-06 | 2007-12-20 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레용 필터막, 그 제조방법 및 이를 포함하는 표시장치 |
US7019452B2 (en) * | 2003-05-29 | 2006-03-28 | General Electric Company | Boron-containing red light-emitting phosphors and light sources incorporating the same |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4065697A (en) * | 1969-02-17 | 1977-12-27 | Owens-Illinois, Inc. | Cathode-ray tube |
NL6907310A (de) * | 1969-05-13 | 1970-11-17 | ||
US3805107A (en) * | 1972-02-17 | 1974-04-16 | Corning Glass Works | Faceplate for television picture tube |
US4310783A (en) * | 1979-05-07 | 1982-01-12 | Temple Michael D | Cathode ray tube face plate construction for suppressing the halo having a low reflection and method |
NL8301824A (nl) * | 1983-05-24 | 1984-12-17 | Philips Nv | Optisch element bestaande uit een doorzichtig substraat en een antireflectieve bekleding voor het golflengtegebied in het nabije infrarood. |
NL8402304A (nl) * | 1984-07-20 | 1986-02-17 | Philips Nv | Beeldbuis. |
GB2176048B (en) * | 1985-05-29 | 1989-07-05 | Philips Nv | Projection television display tube and projection television device comprising at least one such tube |
-
1986
- 1986-05-21 GB GB868612358A patent/GB8612358D0/en active Pending
-
1987
- 1987-05-12 DE DE3789468T patent/DE3789468T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-05-12 EP EP87200874A patent/EP0246696B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-05-21 JP JP62122674A patent/JPH07101600B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-05-15 US US07/524,718 patent/US5068568A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0246696A2 (de) | 1987-11-25 |
EP0246696B1 (de) | 1994-03-30 |
GB8612358D0 (en) | 1986-06-25 |
EP0246696A3 (en) | 1990-04-18 |
US5068568A (en) | 1991-11-26 |
JPH07101600B2 (ja) | 1995-11-01 |
DE3789468D1 (de) | 1994-05-05 |
JPS62283535A (ja) | 1987-12-09 |
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