DE3731624A1 - Ausgleichsronde fuer leistungshalbleitermodule - Google Patents

Ausgleichsronde fuer leistungshalbleitermodule

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Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Ausgleichsronde für die Montage eines Silizium-Halbleiterbauelements auf ein metallisches oder metallisiertes Substrat gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
In der Halbleitertechnik, insbesondere bei der Herstel­ lung von Leistungshalbleitermodulen werden häufig Aus­ gleichsronden z. B. aus Molybdän verwendet, die zwischen einem Siliziumleistungshalbleiterbauelement (Halbleiter­ chip) und einem Substrat mit metallischer Oberfläche oder einem Kühlkörper angeordnet werden. Auf solche Aus­ gleichsronden werden die Halbleiterchips aufgelötet. Die Ausgleichsronden dienen dabei mitunter auch als Ab­ standsstücke, aber vor allem zum Ausgleich von thermi­ schen Ausdehnungsunterschieden zwischen dem Siliziumchip und dem metallischen Träger, also z. B. einem Kühlkörper aus Kupfer oder der Kupferschicht auf einem Substrat, das z. B. aus direkt gebondetem Kupfer mit Keramik be­ steht. Diese Aufbautechniken für hybride Leistungshalb­ leitermodule und die eutektische Direct-Bonding-Methode sind beschrieben in J. Gobrecht "Metallurgische Verbin­ dungstechnik für Hybridschaltungssubstrate der Lei­ stungselektronik", DVS-Berichte, Bd. 102, Seite 65 bis 68.
Bei nach einem Direkt-Bonding-Verfahren hergestellten Keramik-Kupfer-Substraten ist der Ausdehnungskoeffizient bereits besser als bei reinem Kupfer an denjenigen des Siliziumchips angepaßt, da auch die Ausdehnungseigen­ schaften der Keramik zur Wirkung kommen. Halbleiterchips geringer Leistung und mit daraus resultierenden kleinen Abmessungen (max. 15 mm) können deshalb sogar direkt auf das Substrat aufgelötet werden, wobei die Weichlot­ schicht verbleibende Ausdehnungsunterschiede ausgleichen kann. Mit dieser Anordnung wird ein besonders niedriger Wärmewiderstand erreicht.
In Modulen größerer Leistung müssen Ausgleichsronden vorgesehen werden, da die Lotschicht sonst keine ausrei­ chende Lastwechselfestigkeit gewährleisten könnte. Al­ lerdings wird damit der Wärmewiderstand zwischen dem Halbleiterchip (Wärmequelle) und einer Wärmesenke (Kühl­ körper) größer. Das Material für die Ausgleichsronde ist somit nicht allein nach dem Gesichtspunkt einer guten Anpassung des Ausdehnungskoeffizienten, sondern auch im Hinblick auf die Wärmeleitfähigkeit und auch der elek­ trischen Leitfähigkeit zu wählen. Deshalb wurde in M. Weickhmann, G. W. Reppel, G. Hansch, "Copper-Molybde­ num based powder composite as support material for power semiconductors and integrated circuits" Firmenmitteilung 12-10 der Vakuumschmelze Hanau, Seite 1333 bis 1336 vor­ geschlagen, eine Ausgleichsronde vorzusehen, die aus einem Gemisch aus Molybdän und Kupferpulver gesintert ist. In dem genannten Aufsatz ist auch angegeben, wie solche gesinterten Formteile hergestellt werden können.
Aus der DE-OS 35 04 992 ist ein Leistungshalbleitermodul bekannt, bei dem zur Verringerung des Wärmewiderstandes ein Wärmerohr in das Modul integriert ist. Auch dort wird eine Ausgleichsronde benötigt, die in diesem Anwen­ dungsfall auf der dem Wärmerohr zugewandten Seite in einem mittleren Bereich mit Finnen versehen sein soll. Diese Rondenausführung wird zweckmäßig als gesintertes Formteil hergestellt.
Aus dem dargestellten Stand der Technik ist zu entneh­ men, daß mit zunehmender Leistung der Leistungshalblei­ termodule die Probleme der Lastwechselfestigkeit, verur­ sacht durch unterschiedliche Ausdehnungskoeffizienten der zu verbindenden Teile, sowie Probleme der Wärmeab­ fuhr größer werden.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, eine Ausgleichsronde anzugeben, die den beschriebenen Erfor­ dernissen noch besser entsprechen kann.
Diese Aufgabe wird bei einer Ausgleichsronde nach dem Oberbegriff des Anspuchs 1 durch dessen kennzeichnende Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind in Unteransprüchen angegeben.
Vorteile der erfindungsgemäßen Lösung bestehen darin, daß die Lastwechselfestigkeit von Leistungshalbleitermo­ dulen, die die erfindungsgemäßen Ausgleichsronden ent­ halten, wesentlich gesteigert wird, weil neben guter Wärmeleitfähigkeit eine besonders gute Anpassung an die Ausdehnungskoeffizienten der Komponenten gegeben ist, mit denen die Ausgleichsronde über Lotschichten verbun­ den ist. Im Betrieb auftretende Wärmespannungen sind insbesondere innerhalb der Lotschicht wesentlich redu­ ziert. Die Herstellung der Ausgleichsronden kann auf einfache Weise nach bekannten Verfahren zur Herstellung gesinterter Formteile erfolgen.
In der Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel mit einer typischen Anordnung von Ausgleichsronden in einem Lei­ stungshalbleitermodul gezeigt. Dabei ist schematisch eine Schichtenfolge dargestellt, ausgehend von einem Keramiksubstrat 9, z. B. aus Al2O3, das auf der Oberseite und Unterseite jeweils mit einer Metallschicht 8, z. B. einer Kupferfolie mit etwa 0,3 mm Dicke nach einem Di­ rekt-Bonding-Verfahren direkt verbunden ist. Darüber ist eine Ausgleichsronde 3 angeordnet, die mit Weichlotmate­ rial 2 angelötet ist und die als gesintertes Formteil hergestellt ist. Auf die Ausgleichsronde 3 ist ein Sili­ ziumleistungshalbleiterchip 4 gelötet. Der Chip 4 ist über eine zweite Ronde 3 mit einem Anschlußelement 1 verlötet, das z. B. aus Kupfer besteht.
Die Ronden 3 bestehen aus einer Mischung aus Molybdän und Kupferpulver, wobei in einem an einer ersten Haupt­ fläche angrenzenden Bereich 5 eine relativ hohe Molyb­ dänkonzentration vorgesehen ist zur Anpassung an den Ausdehnungskoeffizienten des Siliziumchips. Ein an eine zweite Hauptfläche angrenzender Bereich 7 enthält eine höhere Kupferkonzentration zur Anpassung an die Kupfer­ folie 8 auf dem Substrat 9 oder an das Kupferanschluß­ element 1. In einem mittleren Bereich 6 der Ausgleichs­ ronde 3 kann eine Mischung vorgesehen werden, die bezüg­ lich des Kupferanteils zwischen den Werten der äußeren Schichten 5 und 7 liegt.
Die Herstellung kann z. B. durch schichtweises Einfüllen der unterschiedlichen Pulvergemische in eine Sinter- Preßform erfolgen, wobei verschiedene Variationen mög­ lich sind. So können z. B. nur zwei unterschiedliche Mi­ schungen vorgesehen werden und somit auf den mittleren Bereich 6 verzichtet werden oder es kann ein nahezu stu­ fenloser Übergang von einer Konzentration zur anderen Konzentration geschaffen werden. Außerdem können andere Materialien zur Anwendung kommen, z. B. Aluminium statt Kupfer oder Wolfram statt Molybdän, oder es können mehr als zwei Stoffe gemischt werden.
Einer Verformung der Ronde (Bi-Metall-Effekt) wird durch den sich einstellenden Temperaturgradienten inhärent entgegen gewirkt. Der Bereich z. B. hoher Mo-Konzentrati­ on (niedriger Ausdehnungskoeffizient) ist heißer als der Bereich mit der hohen Cu-Konzentration, der einen höhe­ ren Ausdehnungskoeffizienten aufweist.

Claims (3)

1. Ausgleichsronde für die Verbindung eines Sili­ ziumleistungshalbleiterbauelements mit metallischen oder metallisierten Teilen eines Moduls, wobei die Aus­ gleichsronde aus einem aus wenigstens zwei Materialien gesinterten Formteil besteht, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis der verwendeten Materialien in der Ausgleichsronde (3) örtlich unterschiedlich ist, wobei die Ausgleichsronde (3) in einem an eine erste Hauptfläche angrenzenden Bereich (5) eine gegenüber an­ deren Teilen des Formteils höhere Konzentration eines an den Ausdehnungskoeffizienten des Siliziumhalbleiterbau­ elements (4) angepaßten Materials aufweist und in einem an eine zweite Hauptfläche angrenzenden Bereich (7) der Ronde (3) eine höhere Konzentration eines an den Ausdeh­ nungskoeffizienten von Metallteilen (1) oder metalli­ sierten Substraten (8, 9) angepaßten Materials.
2. Ausgleichsronde nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Ausgleichsronde für die Montage auf einem Kupfer-Keramik-Substrat (8, 9) vorgesehen ist und aus einer Kupfer-Molybdän-Mischung besteht, wobei der Bereich (5) an der ersten Hauptfläche eine höhere Molyb­ dänkonzentration aufweist und der Bereich (7) an der zweiten Hauptfläche eine höhere Kupferkonzentration.
3. Ausgleichsronde nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß die Ausgleichsronde mindestens Aluminium und Wolfram enthält, wobei der Bereich an der ersten Hauptfläche eine höhere Wolframkonzentration aufweist und der Bereich (7) an der zweiten Hauptfläche eine höhere Aluminiumkonzentration.
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