DE3705361C2 - - Google Patents
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- DE3705361C2 DE3705361C2 DE19873705361 DE3705361A DE3705361C2 DE 3705361 C2 DE3705361 C2 DE 3705361C2 DE 19873705361 DE19873705361 DE 19873705361 DE 3705361 A DE3705361 A DE 3705361A DE 3705361 C2 DE3705361 C2 DE 3705361C2
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- DE
- Germany
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- ions
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- atom
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- heavy atom
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/3002—Details
- H01J37/3005—Observing the objects or the point of impact on the object
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873705361 DE3705361A1 (de) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873705361 DE3705361A1 (de) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3705361A1 DE3705361A1 (de) | 1988-08-25 |
| DE3705361C2 true DE3705361C2 (https=) | 1990-07-26 |
Family
ID=6321365
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19873705361 Granted DE3705361A1 (de) | 1987-02-17 | 1987-02-17 | Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE3705361A1 (https=) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4423407A1 (de) * | 1993-07-07 | 1995-01-19 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zum Abtasten mit einem fokussiertem Ionenstrahl, ein Beobachtungsverfahren, das fokussierte Ionenstrahlen verwendet, und ein Bearbeitungsverfahren, das fokussierte Ionenstrahlen verwendet |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19630705A1 (de) | 1995-08-30 | 1997-03-20 | Deutsche Telekom Ag | Verfahren zur Herstellung von 3-dimensional strukturierten Polymerschichten für die integrierte Optik |
| US6232046B1 (en) | 1995-08-30 | 2001-05-15 | Deutsche Telekom Ag | Process for improving the contrast in the structure of 3-dimensional surfaces |
| DE19632563A1 (de) * | 1996-01-04 | 1997-07-10 | Deutsche Telekom Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung strukturierter lambda/4-Plättchen, Spiegel, Gitter und Prismen auf dreidimensionalen Flächen |
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| DE102008020145B4 (de) * | 2007-04-23 | 2012-11-08 | Hitachi High-Technologies Corporation | Ionenstrahlbearbeitungs- und Betrachtungsvorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten und Betrachten einer Probe |
| CN103081054B (zh) * | 2010-08-31 | 2016-04-13 | Fei公司 | 使用包含低质量种类和高质量种类二者的离子源的导航和样本处理 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5856332A (ja) * | 1981-09-30 | 1983-04-04 | Hitachi Ltd | マスクの欠陥修正方法 |
-
1987
- 1987-02-17 DE DE19873705361 patent/DE3705361A1/de active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4423407A1 (de) * | 1993-07-07 | 1995-01-19 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zum Abtasten mit einem fokussiertem Ionenstrahl, ein Beobachtungsverfahren, das fokussierte Ionenstrahlen verwendet, und ein Bearbeitungsverfahren, das fokussierte Ionenstrahlen verwendet |
| DE4423407C2 (de) * | 1993-07-07 | 1998-07-30 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zum Abtasten einer Probe mit fokussierten Ionenstrahlen sowie ein Beobachtungsverfahren und ein Bearbeitungsverfahren unter Verwendung dieser Vorrichtung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3705361A1 (de) | 1988-08-25 |
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