DE3705361A1 - Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen - Google Patents

Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen

Info

Publication number
DE3705361A1
DE3705361A1 DE19873705361 DE3705361A DE3705361A1 DE 3705361 A1 DE3705361 A1 DE 3705361A1 DE 19873705361 DE19873705361 DE 19873705361 DE 3705361 A DE3705361 A DE 3705361A DE 3705361 A1 DE3705361 A1 DE 3705361A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
heavy
ion source
atom
indicates
ion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19873705361
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE3705361C2 (https=
Inventor
Hans Dr Ing Betz
Uwe Dr Rer Nat Weigmann
Helmut Dipl Phys Burghause
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE19873705361 priority Critical patent/DE3705361A1/de
Publication of DE3705361A1 publication Critical patent/DE3705361A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3705361C2 publication Critical patent/DE3705361C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/3002Details
    • H01J37/3005Observing the objects or the point of impact on the object

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
DE19873705361 1987-02-17 1987-02-17 Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen Granted DE3705361A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873705361 DE3705361A1 (de) 1987-02-17 1987-02-17 Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873705361 DE3705361A1 (de) 1987-02-17 1987-02-17 Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3705361A1 true DE3705361A1 (de) 1988-08-25
DE3705361C2 DE3705361C2 (https=) 1990-07-26

Family

ID=6321365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19873705361 Granted DE3705361A1 (de) 1987-02-17 1987-02-17 Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3705361A1 (https=)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19632563A1 (de) * 1996-01-04 1997-07-10 Deutsche Telekom Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung strukturierter lambda/4-Plättchen, Spiegel, Gitter und Prismen auf dreidimensionalen Flächen
US6232046B1 (en) 1995-08-30 2001-05-15 Deutsche Telekom Ag Process for improving the contrast in the structure of 3-dimensional surfaces
US6291139B1 (en) 1995-08-30 2001-09-18 Deutsche Telekom Ag Process for fabricating three-dimensional polymer layer structures
EP1956634A1 (en) * 2007-02-06 2008-08-13 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Method and apparatus for in-situ sample preparation
DE102008020145B4 (de) * 2007-04-23 2012-11-08 Hitachi High-Technologies Corporation Ionenstrahlbearbeitungs- und Betrachtungsvorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten und Betrachten einer Probe
EP2612342A4 (en) * 2010-08-31 2014-04-16 Fei Co NAVIGATION AND SAMPLE PROCESSING USING AN ION SOURCE WITH BOTH MASS AROMAS AND MASSIVE SPECIES

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3153391B2 (ja) * 1993-07-07 2001-04-09 株式会社日立製作所 集束イオンビーム装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0075949A2 (en) * 1981-09-30 1983-04-06 Hitachi, Ltd. Ion beam processing apparatus and method of correcting mask defects

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0075949A2 (en) * 1981-09-30 1983-04-06 Hitachi, Ltd. Ion beam processing apparatus and method of correcting mask defects

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Proceedings of the IEEE Bd. 74, 1986, Nr. 12, S. 1753-1774 *

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6232046B1 (en) 1995-08-30 2001-05-15 Deutsche Telekom Ag Process for improving the contrast in the structure of 3-dimensional surfaces
US6291139B1 (en) 1995-08-30 2001-09-18 Deutsche Telekom Ag Process for fabricating three-dimensional polymer layer structures
DE19632563A1 (de) * 1996-01-04 1997-07-10 Deutsche Telekom Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung strukturierter lambda/4-Plättchen, Spiegel, Gitter und Prismen auf dreidimensionalen Flächen
EP1956634A1 (en) * 2007-02-06 2008-08-13 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Method and apparatus for in-situ sample preparation
US7829870B2 (en) 2007-02-06 2010-11-09 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Method and apparatus for in-situ sample preparation
DE102008020145B4 (de) * 2007-04-23 2012-11-08 Hitachi High-Technologies Corporation Ionenstrahlbearbeitungs- und Betrachtungsvorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten und Betrachten einer Probe
US8481980B2 (en) 2007-04-23 2013-07-09 Hitachi High-Technologies Corporation Ion source, ion beam processing/observation apparatus, charged particle beam apparatus, and method for observing cross section of sample
US8779400B2 (en) 2007-04-23 2014-07-15 Hitachi High-Technologies Corporation Ion source, ion beam processing/observation apparatus, charged particle beam apparatus, and method for observing cross section of sample
EP2612342A4 (en) * 2010-08-31 2014-04-16 Fei Co NAVIGATION AND SAMPLE PROCESSING USING AN ION SOURCE WITH BOTH MASS AROMAS AND MASSIVE SPECIES

Also Published As

Publication number Publication date
DE3705361C2 (https=) 1990-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3034779C2 (https=)
DE3878828T2 (de) Sekundaerelektronen-detektor zur anwendung in einer gasumgebung.
EP0679325B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur handhabung, bearbeitung und beobachtung kleiner teilchen, insbesondere biologischer teilchen
EP0218920B1 (de) Elektronenenergiefilter vom Omega-Typ
DE2436160A1 (de) Rasterelektronenmikroskop
DE2461628A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur plasmateilchentrennung
DE2556291C3 (de) Raster-Ionenmikroskop
EP0840940A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur ionendünnung in einem hochauflösenden transmissionselektronenmikroskop
DE102010024625A1 (de) Verfahren zum Bearbeiten eines Objekts
DE1789019B1 (de) Verfahren zur erzeugung eines stereobildes mittels der elektronenstrahlmikroskopie
DE3705361A1 (de) Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen
DE60132788T2 (de) Verfahren und Vorrichtung für lokale Oberflächenanalyse
EP0216750B1 (de) Ionenstrahlgerät und Verfahren zur Ausführung von Änderungen, insbesondere Reparaturen an Substraten unter Verwendung eines Ionenstrahlgerätes
DE2937136C2 (https=)
EP0539384B1 (de) Verfahren zum anbringen einer die orientierung des kristallgitters einer kristallscheibe angebenden markierung
DE102018131609B3 (de) Partikelstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines Partikelstrahlsystems
DE3020281C2 (de) Vorrichtung zur Doppelablenk-Abtastung eines Partikelstrahls
CH625622A5 (https=)
DE2048862A1 (de) Vorrichtung zur spektralphotometri sehen Analyse
DE2731142B2 (de) Verfahren zur Feststellung der Lage eines Elektronenstrahls in bezug auf auf einem Objekt, angeordnete Ausrichtmarkierungen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE2742264A1 (de) Verfahren zur abbildung eines objektes mit geringer vergroesserung mittels eines korpuskularstrahlgeraets, insbesondere eines elektronen-mikroskops
DE2652273B1 (de) Verfahren zur bildlichen Darstellung eines Beugungsbildes bei einem Durchstrahlungs-Raster-Korpuskularstrahlmikroskop
DE19545721C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen und präzisen Positionieren von optischen Mikrokomponenten auf einer über einer optischen Einrichtung
EP0104593A2 (de) Verfahren zum Hervorheben eines Objektbereichs in einem Rastermikroskop
DE102022113918A1 (de) Verfahren zum Abbilden, Bearbeiten und/oder Analysieren eines Objekts mit einem Teilchenstrahlgerät, Computerprogrammprodukt sowie Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8330 Complete disclaimer