DE3702184A1 - Pruefeinrichtung zur wafer-pruefung - Google Patents
Pruefeinrichtung zur wafer-pruefungInfo
- Publication number
- DE3702184A1 DE3702184A1 DE19873702184 DE3702184A DE3702184A1 DE 3702184 A1 DE3702184 A1 DE 3702184A1 DE 19873702184 DE19873702184 DE 19873702184 DE 3702184 A DE3702184 A DE 3702184A DE 3702184 A1 DE3702184 A1 DE 3702184A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- needles
- guide plate
- pads
- needle
- test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07342—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being at an angle other than perpendicular to test object, e.g. probe card
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Prüfeinrichtung gemäß dem
Oberbegriff des Anspruches 1.
Bisher hat man zur Prüfung der einzelnen Chips auf
einem viele unter sich gleiche Chips aufweisenden
Wafer, der im allgemeinen eine Siliziumplatte mit den
Chips aufweist und nach der Prüfung in die einzelnen
Chips zertrennt wird, ausschließlich sogenannte
Prüfkarten verwendet, die mit winklig gebogenen
Nadeln versehen sind. In Fig. 1 ist ein Teilschnitt
durch eine solche Prüfkarte 10 dargestellt. Sie weist
eine Leiterplatte 12 mit einer meist runden oder
ovalen Öffnung 13 in der Mitte auf, durch die die dem
Kontaktieren der Pads 37 jeweils eines Chips eines
viele solcher Chips aufweisenden Wafers 35 dienenden
Nadeln 17, von denen nur zwei dargestellt sind,
hindurchragen. Die Schäfte der Nadeln 17 sind in
einem auf die Prüfkarte 10 aufgesetzten
Kunststoffring 18 parallel zur Ebene der Leiterplatte
12 gehalten und mit den zugeordneten Leiterbahnen 19
auf der Leiterplatte 12 bspw. durch Lötstellen
elektrisch verbunden. Die Nadeln 17 dieser Prüfkarte
10 können jeweils nur die Pads eines einzigen Chips
gleichzeitig kontaktieren und sind elektrisch an eine
für die Prüfung jeweils eines einzigen Chips
ausgebildete Testvorrichtung angeschlossen. Zu diesem
Zweck enden die Leiterbahnen 19 in der Regel an einer
nicht dargestellten Steckerleiste, die die Verbindung
der Prüfkarte 12 mit der Testvorrichtung dieser
Prüfeinrichtung, die die elektrische Prüfung
durchführt, herstellt. Die Nadeln 17 sind, um alle
Pads 37 des jeweiligen Chips gleichzeitig zu
kontaktieren, an ihren vorderen Enden um etwa 45° bis
60° nach unten abgebogen. Der Kontaktiervorgang läuft
so ab, daß die Prüfkarte 10 auf den Wafer 35
abgesenkt wird, bis die Nadeln 17 sicheren Kontakt
mit den Pads 37 eines Chips haben. Die Nadeln federn
dabei etwas elastisch aus und ihre Nadelspitzen
führen dabei Gleitbewegungen auf den Pads 37 aus, die
die Gefahr von Beschädigungen der Pads in sich
bergen. Die Kraft, mit der die Nadeln 17 auf die Pads
zur Herstellung des elektrischen Kontaktes drücken,
ist aus konstruktiven Gründen auf einige cN begrenzt.
Diese Nadeln 17 bestehen in den meisten Fällen aus
Wolfram, weil sich durch dessen hohen
Elastizitätsmodul auch bei geringem Durchmesser des
Nadelschaftes die erforderlichen Kontaktkräfte noch
erreichen lassen. In Sonderfällen werden auch Nadeln
aus CuBe oder Palladium verwendet, und zwar, wenn der
Kontaktwiderstand besonders klein bleiben muß.
Bekanntlich neigt Wolfram zu Kontamination, so daß
sich auf dieser Oberfläche isolierende Schichten
bilden können. CuBe und Palladium weisen andererseits
eine geringere Härte als Wolfram auf, so daß sich die
Nadelspitzen aus diesen Materialien schnell abnutzen.
Bei den modernen hochintegrierten, durch die Chips
gebildeten Schaltkreisen ist die Anzahl der Pads pro
Chip oft sehr groß. Die Prüfkarte 10 kontaktiert
jeweils die Pads eines Chips gleichzeitig. Auf einem
Wafer sind sehr viele Chips von normalerweise
quadratischer oder rechteckförmiger Gestalt in
geringen Abständen nebeneinander angeordnet und die
Pads befinden sich nahe den Rändern des Chips an
allen vier Seiten des Chips. Es sind schon Prüfkarten
mit 256 Nadeln hergestellt worden. Noch höhere
Nadelanzahlen waren bisher nicht erreichbar, so daß
entsprechend mit Prüfkarten nur Chips mit maximal 256
Pads prüfbar waren. Die Anfertigung derartiger
Prüfkarten ist umso komplizierter und teurer, je
größer die Anzahl der Nadeln ist, da die
Nadelabstände sehr klein sind und die Nadelspitzen
mit höchster Präzision entsprechend der Anordnung der
Pads des Chips ausgerichtet werden müssen. Infolge
des geringen Durchmessers des Nadelschaftes können
diese Nadeln bei unsachgemäßer Handhabung leicht
verbogen werden, insbesondere bei Prüfkarten mit sehr
vielen Nadeln. Aus Platzgründen sind bei solchen
Prüfkarten mit sehr vielen Nadeln die frei über die
Karte überstehenden Längen der Nadeln besonders groß
und sie sind dann besonders empfindlich. Eine
Reparatur derartiger Prüfkarten, z.B. durch
Auswechseln einzelner Nadeln ist nicht möglich. Die
Lebensdauer derartiger Prüfkarten ist somit in der
Regel nur kurz.
Es ist deshalb eine Aufgabe der Erfindung, eine
Prüfeinrichtung für Wafers zu schaffen, bei welcher
die Nadeln sich besser gegen Beschädigungsgefahr
schützen lassen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine
Prüfeinrichtung gemäß Anspruch 1 gelöst.
Diejenigen Enden der Nadeln, die in Kontakt mit den
Pads kommen, seien als freie Kontaktenden bezeichnet.
Diese können bevorzugt leicht abgerundet sein, damit
sie die empfindlichen Pads besonders gut schonen.
Günstig ist auch, daß bei der Erfindung die Nadeln
auf den Pads nicht mehr zu gleiten brauchen, so daß
die bei Prüfkarten vorhandene Beschädigungsgefahr der
Pads behoben ist.
Der Prüfkopf oder die sonstige Tragvorrichtung der
Nadelanordnung weist hohe Betriebssicherheit auf und
läßt auch lange Lebensdauer erreichen und ermöglicht
das Inken von bei der Prüfung als fehlerhaft
ermittelten Chips zu deren Kennzeichnung, so daß sie
später aussortiert oder, falls erwünscht und möglich,
der betreffende Fehler behoben werden kann.
Da die Pads an einem Chip nahe dem äußeren Rand
angeordnet sind, kann für das Inken fehlerhafter
Chips im Zentrum der betreffenden Nadelanordnung in
der ersten Führungsplatine eine Öffnung vorgesehen
sein, durch die eine Vorrichtung zum Inken (mit Tinte
oder dgl. anspritzen) von als Ausschuß ermittelten
Chips hindurch die betreffenden fehlerhaften Chips
kennzeichnen kann. Die Anzahl der Nadeln kann ohne
Probleme wesentlich größer gemacht werden, als bei
Leiterkarten bisher möglich war, so daß nunmehr auch
Wafers mit Chips mit größeren Anzahlen von Pads als
bisher durch die Nadeln des Prüfkopfes oder dgl.
kontaktiert werden können. Dabei läßt sich der
Prüfkopf oder dgl. kostengünstig baulich relativ
einfach realisieren. Die Erfindung ermöglicht also
auch Wafers, deren Chips bisher mit den Leiterkarten
nicht geprüft werden konnten.
Auch sind die Nadeln durch die erste Führungsplatine
gegen Beschädigungsgefahr ihrer empfindlichen freien
Endbereiche, die die freien Kontaktenden aufweisen,
sehr gut geschützt, weil ihre Endbereiche nur wenig
über die erste Führungsplatine überzustehen brauchen
oder bei einer bevorzugten Ausführungsform, bei der
die erste Führungsplatine beweglich gelagert ist,
sogar sich ständig innerhalb der ersten
Führungsplatine befinden können. Die Kontaktnadeln
brauchen deshalb auch nicht aus Wolfram zu bestehen,
obwohl dies auch möglich ist. Es ist besonders
zweckmäßig, die freien Kontaktenden der Nadeln eng
benachbart der ersten Führungsplatine vorzusehen,
bevorzugt den Abstand der freien Nadelkontaktenden
von der ersten Führungsplatine so klein wie nur
möglich vorzusehen.
Auch können die Kräfte, mit der die Nadeln auf die
Pads drücken, höher als bei den erwähnten
Leiterkarten sein, was die Sicherheit der Prüfung
entsprechend verbessert.
Auch läßt sich durch die Erfindung ohne
Schwierigkeiten Anordnung der freien Kontaktenden der
Nadeln kostengünstig mit höchster Präzision
erreichen, wie sie bei Leiterkarten nicht, oder wenn
überhaupt, nur mit hohem Aufwand erreichbar war. Auch
können die Mittenabstände benachbarter Pads besonders
klein sein. Die Erfindung ermöglicht es auch, was mit
Leiterkarten bisher nicht möglich war, daß der
Prüfkopf gleichzeitig nicht nur zur Prüfung eines
einzelnen Chips ausgebildet sein muß, was zwar auch
möglich ist und bei den erwähnten Leiterkarten bisher
unumgänglich der Fall war, sondern auch für die gleich
zeitige Kontaktierung von zwei oder noch mehr
Chips des Wafers ausgebildet werden kann, indem eine
entsprechende Mehrzahl von unter sich gleichen
Nadelanordnungen am Prüfkopf nebeneinander angeordnet
sind, vorzugsweise zwei bis vier Nadelanordnungen,
von denen die einzelne Nadelanordnung dem
Kontaktieren der Pads jeweils eines Chips dient.
Diese Nadelanordnungen können vorzugsweise dem
Kontaktieren benachbarter Chips dienen und
vorzugsweise in einer oder zwei Reihen angeordnet
sein.
Es können so gleichzeitig die Pads mehrerer Chips
durch die Nadelanordnungen kontaktiert werden, und
man kann dann zweckmäßig diese Nadelanordnungen zum
aufeinanderfolgenden Prüfen der von ihnen
kontaktierten Chips aufeinanderfolgend an dieselbe
einzige Testvorrichtung der Prüfeinrichtung
elektrisch anschließen, so daß weiterhin nur eine
Testvorrichtung zum jeweiligen Prüfen eines einzigen
Chips erforderlich ist, jedoch die Prüfung der Chips
des Wafers dennoch erheblich weniger Zeit als bisher
benötigt. Oder, falls es kostenmäßig rentabel ist,
können auch mehrere unter sich gleiche
Testvorrichtungen vorgesehen sein, so daß jeder
Nadelanordnung eine eigene Testvorrichtung zugeordnet
ist oder die Nadelanordnungen in zwei oder mehr
Gruppen unterteilt sind, denen je eine
Testvorrichtung zugeordnet ist, wobei die
Nadelanordnungen der einzelnen Gruppe dann wiederum
bei der Prüfung aufeinanderfolgend an die dieser
Gruppe zugeordnete Testvorrichtung elektrisch
angeschlossen werden.
Im allgemeinen sind die Chips auf den Wafers
quadratisch oder rechteckförmig und die Pads nahe dem
Rand des betreffenden Chips entlang aller seiner
Seiten in jeweils einer Reihe pro Seite angeordnet.
Wenn der Chip also vier gerade Seiten hat, dann sind
vier gerade Reihen von Pads entlang seinen vier
Seiten angeordnet. Die Pads kann man auch als
Kontakt- oder Anschlußflächen bezeichnen. Sie dienen
dem elektrischen Anschluß des Chips. Die
Mittenabstände benachbarter Pads in der jeweiligen
Reihe sind sehr klein. Vorzugsweise kann die
erfindungsgemäße Prüfeinrichtung für die Prüfung von
Wafers vorgegsehen sein, bei deren Chips der genannte
Mittenabstand der Pads in der jeweiligen Reihe max.
0,2 mm beträgt. Die Nadeln können aus elektrisch
leitfähigem, elastisch federndem Metall oder
Metallegierungen bestehen, z.B. zweckmäßig aus einer
aushärtbaren Cu-Legierung, wie CuBe, oder aus einer
elastischen Edelmetallegierung, oder aus Stahl, der
mit einer Oberflächenbeschichtung vorzugsweise aus
Nickel und/oder Edelmetall versehen ist, oder auch
aus Wolfram, wenn die Erhöhung des elektrischen
Widerstandes durch Kontamination oder andere
Eigenschaften des Wolframs nicht stören. Auch andere
metallische elektrische Leitfähigkeit aufweisende
elastische Materialien kommen in Frage.
Die Oberfläche der Nadeln kann mit Ausnahme der
Stellen, die dem Kontaktieren dienen, mit einem
elektrisch isolierenden Überzug versehen sein, was
meist zweckmäßig ist.
Die Nadeln können irgendeine geeignete Bauart haben.
Vorzugsweise kann die Nadel eine separate Nadel oder
ein Längsabschnitt eines Leitungsdrahtes sein, der an
dem der Nadel entgegengesetzten Ende an einen Stecker
oder dgl. angeschlossen sein kann.
Die Länge der Nadeln kann vorzugsweise etwa das 50
bis 300fache, besonders zweckmäßig etwa das 100- bis
200fache ihres Durchmessers betragen. Bevorzugt
können die in Anspruch 8 angegebenen Bemaßungen
vorgesehen sein.
Die Nadel kann zweckmäßig zylindrisch, vorzugsweise
mit abgerundetem oder angespitztem freien
Kontaktende, oder zum freien Kontaktende und/oder zum
rückwärtigen Ende hin schwach konisch sein,
vorzugsweise mit einem von der Längsachse aus
gemessenen Konuswinkel von ungefähr 5°. Der vordere
konische Bereich der Nadel kann zweckmäßig nur ein
Teilabschnitt ihrer Länge sein und bis zu ihrem
freien Kontaktende reichen. Vorzugsweise kann dieser
konische Bereich sich durch die erste Führungsplatine
hindurch erstrecken.
Wenn die einzelne Nadel als separate Nadel
ausgebildet ist, kann zweckmäßig vorgesehen sein, daß
ihr rückwärtiges Ende an einen elektrischen
Gegenkontakt lediglich angedrückt ist, an den ein
weiterführender elektrischer Leiter angeschlossen
ist, oder sie kann mit einem solchen Leiter auf
irgend eine sonstige Weise lösbar oder in manchen
Fällen auch nicht lösbar verbunden sein.
Besonders vorteilhaft ist es, wenn die einzelne Nadel
oder der sie aufweisende Draht am Prüfkopf so
angeordnet ist, daß man die Nadel bzw. den Draht
jederzeit auswechseln kann, so daß, wenn eine Nadel
beschädigt wird, man sie auswechseln kann. Wie
erwähnt, mußten dagegen bei den bekannten Prüfkarten
diese stets dann ausgewechselt werden, wenn nur eine
einzige ihrer Nadeln für die Prüfung unbrauchbar
wurde.
Bei einer bevorzugten Weiterbildung ist vorgesehen,
daß der Prüfkopf eine zweite Führungsplatine
aufweist, in der die Nadeln ebenfalls in Löchern
axial gleitbar geführt sind. Diese zweite
Führungsplatine verbessert zum einen den Schutz der
Nadeln gegen Beschädigung noch weiter, und zum
anderen kann sie auch dazu dienen, die Nadeln schwach
zu biegen, um hierdurch das axiale Federn ihrer
freien Kontaktenden zu erleichtern, wobei diese
Federwirkung durch diese schwache Biegung bewirkt
wird. Es kann jedoch auch vorgesehen sein, daß die
Nadeln bereits im entspannten Zustand solche Gestalt
aufweisen, daß sie axial federn können, also bereits
im entspannten Zustand schwach gebogen sind oder in
manchen Fällen auch stärkere Biegungen, bspw. eine
wellenförmige Biegung oder eine U-förmige Biegung
aufweisen können. Die Tiefe der Wölbung der Nadel
kann sehr gering sein, vorzugsweise einige zehntel
Millimeter betragen.
Auch wenn keine zweite Führungsplatine vorhanden ist,
kann man die rückwärtigen Enden der Nadeln an einer
sie haltenden Halteplatte anordnen, vorzugsweise
derart, daß die Nadeln hierdurch schwach gebogen
werden zwecks leichter axialer Federung der freien
Kontaktenden. Auch wenn mindestens eine zweite
Führungsplatine vorhanden ist, kann eine solche
Halteplatte mit vorgesehen sein und die zweite
Führungsplatine verbessert den Schutz der
empfindlichen Nadeln und kann auch zur der axialen
Federung der freien Kontaktenden dienenden Biegung
der Nadel beitragen oder sie allein oder im
wesentlichen allein bewirken.
Durch die Erfindung lassen sich die Nadeln viel
besser als bei den Prüfkarten gegen Beschädigung
schützen, insbesondere durch die erste
Führungsplatine. Zu diesem Zweck ist die erste
Führungsplatine benachbart den freien Kontaktenden
der Nadeln angeordnet, vorzugsweise nahe oder sehr
nahe bei ihnen oder sie nimmt die freien Kontaktenden
sogar in sich auf.
Wenn die freien Kontaktenden sich in den Stellungen
befinden, in denen auf sie keine axialen Kräfte
ausgeübt werden, kann ihr Abstand von der ersten
Führungsplatine vorzugsweise maximal 5 Millimeter,
besonders vorteilhaft maximal 2 Millimeter betragen.
Noch günstiger für Schutz gegen Beschädigungsgefahr
ist es, wenn dieser Abstand maximal 1 Millimeter,
vorzugsweise maximal 0,6 Millimeter oder noch weniger
beträgt. Die Nadeln können in den sie aufnehmenden
Löchern der ersten Führungsplatine axial gleiten.
Bevorzugt kann die Nadel durch ihre Gestalt
eigenfedernd in Art einer Biegefeder sein. Zu diesem
Zweck kann sie irgendeine Gestalt aufweisen, die es
ermöglicht, daß ihr freies Kontaktende durch gegen
die von der Nadel selbst ausgeübte Federkraft axial
bewegt werden kann. Vorzugsweise weist sie zu diesem
Zweck nur schwache Biegung auf ihrem rückseitig der
ersten Führungsplatine befindlichen Bereich auf, was
durch eine zweite Führungsplatine besonders
zweckmäßig bewirkt werden kann, indem sie die in
völlig entspanntem Zustand vorzugsweise geraden
Nadeln etwas aus ihren geraden Stellungen ausbiegt.
Ein Vorteil ist auch, daß der Überstand der freien
Kontaktenden der Nadeln über die erste
Führungsplatine während des Kontaktierens der Pads
durch die Pads noch weiter verringert wird. Es kann
vorgesehen sein, daß dieser Überstand dabei praktisch
zu Null wird oder nur noch ein bis zwei zehntel
Millimeter oder noch weniger beträgt.
Durch die erste Führungsplatine läßt
sich auch verhindern daß die sehr dünnen Nadeln
seitlich ausweichen und von den Pads abweichen
können, und die empfindlichen freien Kontaktenden
dieser Nadeln werden vor Beschädigung und
Verschmutzung besonders gut geschützt. Auch wird gute
Planarität der geometrischen Ebene gewährleistet, die
die freien Kontaktenden der Nadeln definieren. Auch
läßt sich ohne weiteres erreichen, daß die von den
Nadeln auf die Pads gleichzeitig ausgeübten
Kontaktkräfte unter sich etwa gleich groß sind, was
bei den Nadeln von Prüfkarten nicht oder nur sehr
schwierig erreichbar war.
Die erste Führungsplatine kann am Prüfkopf oder dgl.
unbeweglich angeordnet sein und die Nadeln müssen
dann zumindest so weit über die Führungsplatine in
Richtung auf die zu kontaktierenden Pads überstehen,
daß letztere die freien Kontaktnadelenden so weit in
Richtung auf die erste Führungsplatine zu verschieben
können, daß die dann vorliegenden Kontaktkräfte der
Nadeln ausreichend groß sind. Es ist zweckmäßig,
diesen Überstand der freien Kontaktenden nur so groß
wie unbedingt nötig vorzusehen. Bei einer anderen
Ausführungsform der Erfindung ist die erste
Führungsplatine in Richtung der in ihr geführten
Bereiche der Nadeln beweglich geradegeführt und in
Richtung auf die zu prüfenden Wafers zu belastet,
vorzugsweise durch mechanische Rückstellfedermittel
oder auch durch andere nachgiebige Rückstellmittel,
bspw. durch Gasfedern. Es ist dann möglich, die
freien Kontaktenden der Nadeln besonders wenig oder
überhaupt nicht mehr über die erste Führungsplatine
in Richtung auf die Wafers vorstehen zu lassen. Wenn
die freien Kontaktenden der Nadeln in der ersten
Führungsplatine ganz versenkt sind, sind sie optimal
gegen Beschädigungsgefahr geschützt. Dabei kann
zweckmäßig vorgesehen sein, daß die Kontaktenden
gerade bis zu der geometrischen Ebene reichen, die
durch die den Wafers zugewendete Seite der ersten
Führungsplatine definiert ist. Bei jedem Prüfvorgang
bewegen sich dann praktisch die in der ersten
Führungsplatine befindlichen Bereiche der Nadeln mit
dieser mit, bleiben also ungefähr in Ruhe, und
hierdurch wird der Verschleiß der Nadeln und der
ersten Führungsplatine zu Null oder stark reduziert
und die Lebensdauer weiter erhöht.
Die Führungsplatine kann aus elektrisch isolierendem
Material bestehen, z.B. Kunststoff, Keramik, Glas,
Glaskeramik oder auch aus Metall mit isolierendem
Überzug. Dieser Überzug kann Kunststoff sein. Er kann
auch Oxid sein, z.B. Aluminium-Oxid auf Aluminium.
Zur Herstellung der Löcher in der ersten bzw. zweiten
Führungsplatine für die Nadeln kann jede bekannte
Technik verwendet werden, die sich für das
betreffende Material eignet, wie Bohren, Stanzen,
Laserbohren, Ätzen, elektrolytisches Abtragen usw.
Die erste und/oder die oder jede zweite
Führungsplatine kann in vielen Fällen zweckmäßig
jeweils aus einer einzelnen Platte bestehen oder aus
mehreren Scheiben zusammengesetzt sein. Sie kann sehr
klein und vorzugsweise eben sein.
Besonders vorteilhaft ist es für die Führung der
Nadeln in der ersten und/oder zweiten Führungsplatine
und für deren kostengünstige Herstellung, wenn die
erste bzw. zweite Führungsplatine für die Nadeln
Ausnehmungen aufweist, die jeweils einen kurzen
lochförmigen Abschnitt zur axialen Führung der
betreffenden Nadel und einen außer Kontakt mit der
betreffenden Nadel befindlichen längeren Abschnitt,
welcher ebenfalls lochförmig oder ein zum
benachbarten Rand der Führungsplatine hin offener
Schlitz ist, aufweist. Dies kann bei einstückiger
Führungsplatine durch entsprechendes Bohren erreicht
werden, besonders zweckmäßig dadurch, daß die
Führungsplatine aus zwei Scheiben besteht, von denen
die eine Scheibe als Positionierscheibe dient und die
lochförmigen kürzeren Durchbrüche aufweist und die
andere Scheibe eine die Positionierscheibe gegen
Wölben sichernde starre Stützplatte ist. Die
Positionierscheibe kann vorzugsweise eine
Kunststoff-Folie sein, in die die der Positionierung
der Nadeln dienenden Löcher eingestanzt sein können,
was ein besonders genaues und wirtschaftliches
Herstellungsverfahren ist. Die Positionierscheibe
kann jedoch auch andere Ausbildung aufweisen. Sie
läßt sich aus Material herstellen, das besonders
geringen Gleitreibungskoeffizienten mit den Nadeln
hat, wie bspw. zweckmäßig Polytetrafluoräthylen.
In den Fig. 2-9 sind Ausführungsbeispiele der
Erfindung dargestellt. Es zeigen:
Fig. 2 eine Seitenansicht eines Prüfkopfes gemäß
einem ersten Ausführungsbeispiel der
Erfindung einer nicht in weiteren
Einzelheiten dargestellten Prüfeinrichtung
zum Prüfen von Wafers in im wesentlichen
schematischer Darstellung, wobei von den
insgesamt vorhandenen Nadeln nur einige
dargestellt sind,
Fig. 3 eine Seitenansicht eines Prüfkopfes gemäß
einem zweiten Ausführungsbeispiel der
Erfindung,
Fig. 4, 6 und 8 jeweils eine gebrochene, ausschnittsweise
Draufsicht auf eine Führungsplatine,
Fig. 5, 7 und 9 Teilschnitte durch die Führungsplatinen
nach den Fig. 4, 6 und 8, gesehen entlang
den Schnittlinien 5-5 bzw. 7-7 bzw. 9-9,
Fig. 10 eine Draufsicht auf eine vollständige erste
Führungsplatine.
In den Fig. 2 und 3 ist je ein jeweils eine
Kontaktiervorrichtung zum Kontaktieren von Chips auf
Wafers 35 bildender Prüfkopf 29 einer Prüfeinrichtung
zum Prüfen von jeweils eine Vielzahl von Chips
aufweisenden Wafers 35 dargestellt, die dem Wafer 35
der Fig. 1 entsprechen können. Die jeweilige
Prüfeinrichtung weist außer dem Prüfkopf 29 noch eine
Testvorrichtung 32 auf, an die der Prüfkopf 29
mittels eines Kabels 26 und des am Kabel 26
angeordneten Steckers 31 angeschlossen werden kann.
Die Testvorrichtung 32 kann die Chips des jeweiligen
Wafers 35 einzeln nacheinander prüfen. Bei jeder
solchen Prüfung eines Chips sind dessen Pads 37 zur
Herstellung der elektrischen Verbindungen zur
Testvorrichtung 32 durch Nadeln 39 des betreffenden
Prüfkopfes 29 gleichzeitig kontaktiert. Diese
Testvorrichtung 32 kann bspw. ein Gerät bilden. Der
Wafer 35 kann ein Silizium-Wafer oder ein sonstiger,
Chips aufweisender Wafer sein.
Bei den in den Fig. 4 bis 9 dargestellten
Führungsplatinen kann es sich sowohl um erste
Führungsplatinen 30 als auch um zweite
Führungsplatinen 40 der in den Fig. 2 und 3
dargestellten Prüfköpfe 29 handeln.
Der in Fig. 2 dargestellte Prüfkopf 29 weist einen
starren Rahmen 33 auf, auf dem obenseitig eine ebene,
horizontale Halteplatte 34 befestigt ist, die bspw.
an einem Vertikalschlitten der Prüfeinrichtung fest
angeordnet sein kann, mittels welchem dieser Prüfkopf
29 zum Prüfen der Chips von Wafers, wie dem
ausschnittsweise angedeuteten Wafer 35, auf- und
abbewegt werden kann. Dieser Prüfkopf prüft alle
Chips des jeweils unter ihn gebrachten Wafers 35
aufeinanderfolgend durch und fehlerhafte Chips werden
durch Inken mittels einer Kanüle 62 gekennzeichnet.
Nach erfolgtem Prüfen wird der scheibenförmige Wafer
in die einzelnen Chips zerschnitten.
Im Boden 45 des Rahmens 33 ist ein Durchbruch 67
vorhanden, der untenseitig durch eine ebene, starre,
dünne, plattenförmige erste Führungsplatine 30
überdeckt ist. Im Abstand von vorzugsweise etwa 0,5
bis 1,5 cm ist oberhalb dieser ersten Führungsplatine
30 im Rahmen eine zweite ebene, starre, dünne,
plattenförmige Führungsplatine 40 unbeweglich
angeordnet.
In der horizontalen ersten Führungsplatine 30 sind
Durchgangslöcher für vertikal angeordnete Nadeln 39
exakt gemäß der Anordnung der Mitten der Pads 37
eines Chips von durch diesen Prüfkopf 29 mittels der
Nadeln 39 zu kontaktierenden Chips von Wafers, wie
35, angeordnet. Ein Wafer weist im allgemeinen eine
sehr große Anzahl solcher Chips in Reihen und Spalten
auf, die unter sich gleich ausgebildet sind und
integrierte Schaltkreise oder Schaltungen bilden.
Meist weist der Chip rechteckförmigen oder
quadratischen Umriß auf und die Pads sind entlang
seinen vier Seiten in geringen Abständen voneinander
in jeweils einer Reihe angeordnet. Die Zahl der
Nadeln 39 des Prüfkopfes 29 und die Anordnung der von
ihnen durchdrungenen Löcher der ersten
Führungsplatine 30 entspricht der Anzahl der
gleichzeitig zu kontaktierenden Pads 37 eines Chips
35, bei denen es sich normalerweise um sämtliche Pads
des Chips 35 handeln kann und der Anordnung der
Zentren der Pads. Die Chips eines Wafers sind unter
sich gleich.
Die Nadeln 39 sind in den von ihnen durchdrungenen
Löchern der ersten Führungsplatine 30 und darunter
bis zu ihren freien Kontaktenden genau parallel
zueinander und senkrecht zur Ebene des Wafers 35 und
darüber auch parallel oder ungefähr parallel
zueinander und ungefähr senkrecht zur Ebene des
Wafers 35 gerichtet. Sie sind in den Löchern der
ersten und der zweiten Führungsplatine 30, 40 mit
geringem Gleitlagerspiel in vertikaler Richtung axial
gleitbar gelagert. Die Nadeln sind mit Ausnahme ihrer
dem Kontaktieren von Pads 37 dienenden freien
Kontaktenden 41 elektrisch isoliert und bilden in
diesem Ausführungsbeispiel im wesentlichen gerade
vertikal angeordnete Längsabschnitte elastischer
Drähte 42, deren rückwärtige Enden an den
elektrischen Stecker 31 angeschlossen sind. Die
Drähte können bspw. 10 bis 20 cm lang sein, wogegen
ihre vertikal angeordneten Längsbereiche, die die
Nadeln bilden, relativ kurz sind, vorzugsweise
ungefähr 0,5 bis 3 cm, besonders zweckmäßig etwa 1
bis 2 cm lang sein können. Und zwar reicht der eine
einzelne Nadel 39 bildende Bereich des betreffenden
Drahtes 42 von der oberen Oberseite der Halteplatte
34 bis zum freien Kontaktende 41. Jede Nadel
durchdringt in der Halteplatte 34 ein nur ihr
zugeordnetes Loch, so daß diese Lochanordnung in der
Halteplatte 34 für die Nadeln ungefähr der
Lochanordnung in der ersten Führungsplatine 30
zweckmäßig entsprechen kann. An der Halteplatte
können die Drähte 42 bspw. dadurch gehalten sein,
indem man sie an der Oberseite und der Unterseite der
Halteplatte 34 etwas zusammendrückt, so daß sie hier
verbreitert sind, oder man kann auch andere Mittel
vorsehen, bspw. sie an die Halteplatte 34 anzukleben.
Es ist zweckmäßig, diese Drähte 42 mit Ausnahme der
freien Kontaktenden 41 elektrisch zu isolieren, so
daß sie oberhalb der Halteplatte 34 zu einem Kabel
zusammengefaßt werden können.
Die erste Führungsplatine 30 kann sehr klein sein, da
sie nicht oder nicht viel größer als ein Chip zu sein
braucht.
Die von den Nadeln 39 durchdrungenen Löcher der
zweiten Führungsplatine 40 können exakt dieselbe
geometrische Anordnung wie die entsprechenden Löcher
der ersten Führungsplatine 30 aufweisen. Um in diesem
Falle die Nadeln im Bereich zwischen der ersten
Führungsplatine 30 und der Halteplatte 34 zwecks
axialer Federung ihrer freien Kontaktenden schwach zu
biegen, kann diese Lochanordnung der zweiten
Führungsplatine 40 relativ zu der Lochanordnung der
ersten Führungsplatine 30 horizontal etwas versetzt
sein. Zu demselben Zweck des schwachen Biegens der
Nadeln 39 kann auch vorgesehen sein, daß die
Lochanordnung für die Nadeln der zweiten
Führungsplatine 40 relativ zur Lochanordnung der
ersten Führungsplatine 30 etwas größer oder kleiner
vorgesehen ist. Und zwar ist im Ausführungsbeispiel
nach Fig. 2 der Fall dargestellt, daß die
Lochanordnung der zweiten Führungsplatine 40 kleiner
und im Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 größer als die
Lochanordnung der ersten Führungsplatine 30 ist. Die
Lochanordnung in der ersten Führungsplatine 30 ist so
vorgesehen, daß die Längsachsen ihrer Löcher auf die
Zentren der Pads 37 eines von den Nadeln 39
kontaktierten Chips 35 gerichtet sind. Die Löcher für
die Nadeln verlaufen in der ersten Führungsplatine
ungefähr oder genau parallel zueinander. Auch die
Löcher für die Nadeln 39 in der zweiten
Führungsplatine 40 können ungefähr oder genau
parallel zueinander sein, desgleichen die Löcher in
der Halteplatte 34.
Die Nadeln 39 sind gleich lang und haben konstanten
Überstand über die erste Führungsplatine 30 nach
unten, so daß ihre freien Kontaktenden eine
gemeinsame, zum Wafer 35 parallele geometrische Ebene
definieren, zu der die Längsachsen der die Nadeln 39
in der ersten Führungsplatine 30 axial gleitbar
führenden Löcher senkrecht gerichtet sind.
Die Nadeln 39 stehen über die erste Führungsplatine
30 nach unten nur wenig vor, vorzugsweise nur einige
zehntel Millimeter und die Eigenelastizität dieser
Nadeln 39 ist so getroffen, daß beim axialen
Verschieben ihrer freien Kontaktenden 41 durch die
von ihnen kontaktierten Pads 37 auf einer Strecke,
die gleich oder etwas kleiner als der genannte
Überstand der Nadeln über die erste Führungsplatine
ist, bereits die für die Prüfung vorgesehenen
Kontaktkräfte, die bevorzugt erheblich größer als bei
den vorbekannten Prüfkarten sein können, durch ihre
Eigenelastizität bewirkt werden, so daß der Überstand
der freien Kontaktenden 41 der Nadeln 39 über die
erste Führungsplatine 30 dem bei der Prüfung
auftretenden Federungsweg oder Hub der freien
Kontaktenden 41 im wesentlichen entspricht oder
gleich groß wie dieser Federungsweg ist. Die Nadeln
39 können wegen der beschriebenen Eigenfederung
unbeweglich in der Halteplatte 34 gehalten sein. In
diesem Ausführungsbeispiel sind die Nadeln
einstückige Abschnitte der Drähte 42. Die Nadeln
reichen von ihren freien Kontaktenden 41 bis zur
oberen Stirnseite der Halteplatte 34 und sind im
wesentlichen gerade, da sie zwischen der ersten
Führungsplatine 30 und der Halteplatte 34 nur
geringfügig gebogen sind. Wie dargestellt, sind die
erste Führungsplatine 30 und die zweite
Führungsplatine 40 jeweils dünne Platten, deren Dicke
viel kleiner als die Länge der Nadeln 39 ist. Die
freien Kontaktenden 41 dieser Nadeln 39 können durch
seitliches, zumindest im wesentlichen außerhalb der
Führungsplatinen 30, 40 erfolgendes Ausbiegen der
Nadeln 39 axial federn. Dies ist besonders
zweckmäßig.
Zweckmäßig können die Nadeln runde Querschnitte
aufweisen und zylindrisch sein. Oder sie können ggf.
auf ihre freien Kontaktenden 41 zu bis zu ihnen sich
schwach konisch verjüngen, vorzugsweise jedoch nur
auf kurzen Endbereichen, die vorzugsweise kurz
oberhalb der ersten Führungsplatine beginnen und wie
erwähnt bis zu den freien Kontaktenden 41 reichen
können, wodurch das Gleiten der Nadeln in den Löchern
der ersten Führungsplatine 30 erleichtert und auch
die Präzision des Kontaktierens der Pads durch die
freien Kontaktenden erhöht wird, da sie, wenn sie auf
die Pads auftreffen, in den Löchern der ersten
Führungsplatine dann kein Seitenspiel mehr zu haben
brauchen, oder nur sehr geringes Seitenspiel.
Dieses Seitenspiel vergrößert sich dann zur leichten
Beweglichkeit der Nadeln in der ersten
Führungsplatine, wenn die freien Kontaktenden der
Nadeln durch die Pads axial nach oben gedrückt
werden. Dann ist jedoch bereits die Stellung der
freien Kontaktenden auf den Pads durch die
Kontaktkräfte fixiert.
Zum Kontaktieren der Pads eines Chips ist es
lediglich erforderlich, den Prüfkopf und/oder den
betreffenden Wafer in zur ersten Führungsplatine
paralleler Anordnung bis zum Inkontaktkommen der
freien Kontaktenden mit den Pads vertikal zu bewegen
und dann wird diese Bewegung noch so lange
fortgesetzt, bis die Pads nur noch sehr geringen
Abstand von vorzugsweise nur einigen hundertstel
Millimetern oder gar keinen Abstand mehr von der
ersten Führungsplatine 30 haben. Die Halteplatte 34
und die beiden Führungsplatinen 30, 40 sind parallel
zueinander angeordnet.
In der ersten Führungsplatine 30 ist innerhalb der
Nadelanordnung 49 eine Durchbrechung 36 (Fig. 10)
vorgesehen, durch die hindurch eine Kanüle 62 bei der
Prüfung als fehlerhaft befundene Chips inken, d.h.
mit Tinte oder dgl. zu ihrer Kenntlichmachung
anspritzen kann.
Dieser Prüfkopf 29 ist äußerst betriebssicher, hat
hohe Lebensdauer und der Verschleiß seiner Nadeln 39
ist minimal. Die Beschädigungsgefahr der Nadeln 39
ist außerordentlich gering. Falls dennoch einmal eine
Nadel aus irgendwelchen Gründen ausgewechselt werden
muß, ist es nur notwendig, den betreffenden Draht 42
gegen einen anderen Draht auszuwechseln. Auch können
die Nadeln ohne weiteres so ausgebildet sein, daß sie
besonders hohe Kontaktkräfte ausüben können. Die
zylindrischen Bereiche der Nadeln 39 können
vorzugsweise Durchmesser von 0,03 bis 0,3 mm,
besonders günstig von ca. 0,05 bis 0,15 mm, aber je
nach Wafer auch noch kleiner oder größer sein.
Die Dicke der ersten Führungsplatine 30 und/oder der
zweiten Führungsplatine 40 kann bspw. zweckmäßig
0,5 bis 4 mm betragen. Da sie sehr klein ist, ergeben
solche Dicken schon ausreichende Festigkeit.
Der Prüfkopf 29 nach Fig. 3 unterscheidet sich von
dem nach Fig. 2 im wesentlichen in folgenden
Einzelheiten. Die Nadeln 39 sind hier separate,
einstückige Nadeln, die von ihren freien Kontaktenden
41 bis etwas über die Halteplatte 34 nach oben hinaus
reichen, und ihre oberen, rückwärtigen Enden sind an
Kontakte 44 angedrückt, die in einer
Kontaktträgerplatte 45′ gegeneinander elektrisch
isoliert angeordnet sind. An diese Kontakte 44 sind
Anschlußdrähte 60 angeschlossen, die ihrerseits an
den Stecker 31 angeschlossen sind.
Jede Nadel 39 ist wiederum im wesentlichen gerade und
durchdringt je ein zugeordnetes Loch in der
Halteplatte 34. In diesem Loch kann sie bspw. wie bei
Fig. 2 beschrieben, gehalten sein, so daß sie leicht
ausgewechselt werden kann. Die zweite Führungsplatine
40 weist in diesem Ausführungsbeispiel eine
Lochanordnung für die Nadeln 39 auf, die etwas größer
als die entsprechende Lochanordnung in der ersten
Führungsplatine 30 ist, so daß die Nadeln zwischen
der ersten Führungsplatine 30 und der Halteplatte 34
schwach nach außen gebogen sind und hierdurch ihre
axiale Eigenelastizität erhalten, die das axiale
Federn ihrer freien Kontaktenden 41 ermöglicht. In
den Löchern der ersten und der zweiten
Führungsplatine 30 bzw. 40 können diese Nadeln 39 mit
geringem Gleitlagerspiel axial gleiten. Die
Lochanordnung für die Nadeln 39 in der Halteplatte 34
kann der der ersten Führungsplatine 30 ungefähr
entsprechen.
Die Nadeln 39 können vorzugsweise vor dem Einsetzen
in den Prüfkopf 29 völlig gerade gewesen sein und
ihre geringe Biegung, die der axialen Eigenfederung
dient, durch die zweite Führungsplatine 40 erhalten
haben.
In diesem Ausführungsbeispiel ist die erste
Führungsplatine 30 in vertikaler Richtung d.h.
senkrecht zur Ebene des jeweils zu prüfenden Wafers
35 vertikal gleitbar geradegeführt, indem sie an im
Boden 45 des Rahmens 33 vertikal geradegeführten
Bolzen 46 untenseitig befestigt ist. Auf diesem
Bolzen 46 angeordnete, vorgespannte Druckfedern 47
drücken die erste Führungsplatine 30 in die
dargestellte untere Grenzstellung, in der
verbreiterte Köpfe 47′ der Bolzen auf dem Boden 45
aufliegen.
Die erste Führungsplatine 30 ist in diesem
Ausführungsbeispiel also am Prüfkopf 29 in
Längsrichtung der in ihrem Bereich befindlichen
Abschnitte der Nadeln 39 geradegeführt federnd
beweglich angeordnet.
Die Nadeln 39 stehen über die von ihnen durchdrungene
erste Führungsplatine 30 nur äußerst wenig nach unten
über, vorzugsweise nur wenige Zehntel Millimeter oder
wenige hundertstel Millimeter, oder es kann sogar
vorgesehen sein, daß sie über diese erste
Führungsplatine nach unten überhaupt nicht vorstehen,
sondern vorzugsweise nur bis zu den unteren Enden der
sie aufnehmenden Löcher dieser ersten Führungsplatine
30 reichen.
In beiden Ausführungsbeispielen nach den Fig. 2 und 3
sind jeweils nur vier Nadeln 39 dargestellt. In
Wirklichkeit ist die Anzahl der Nadeln 39 größer,
meist sogar sehr viel größer. Es können bspw. zwanzig
bis fünfhundert Nadeln oder auch noch mehr oder auch
ggf. noch weniger Nadeln vorgesehen sein. Die Anzahl
der Nadeln entspricht der Anzahl der durch die
Nadelanordnung gleichzeitig zu kontaktierenden Pads
37 des jeweils zu kontaktierenden Chips. Diese Chips
haben meist quadratische oder rechteckförmige Gestalt
und entlang aller vier Seiten ist je eine Reihe von
Pads angeordnet und die Mittenabstände a (Fig. 5)
benachbarter Pads 37, d.h. die Abstände der
Mittelpunkte benachbarter Pads 37, in der jeweiligen
Reihe sind sehr klein, bspw. ca. 0,14 mm. Schon
deshalb müssen die Durchmesser der Nadeln 39 sehr
klein sein. Bei einem Lochdurchmesser von 0,14 mm
kann ihr Durchmesser bspw. 0,07 mm betragen.
Wenn die Pads 37 eines Chips eines Wafers 35 durch
die Nadeln 39 dieses Prüfkopfes 29 kontaktiert werden
sollen, wird dieser Prüfkopf 29 bzw. der betreffende
Wafer 35 in zur ersten Führungsplatine 30 paralleler
Lage vertikal bewegt, bis die freien Kontaktenden 41
der Nadeln 39 die Pads 37 kontaktieren und die
Bewegung wird fortgesetzt, bis die Nadeln unter
elastischem weiteren Biegen ihrer zwischen der ersten
Führungsplatine 30 und der Halteplatte 34 befindlichen
Bereiche genügend große Kontaktkräfte auf die Pads 37
zur Herstellung sicherer elektrischer Verbindungen mit
ihnen ausüben. Diese genügend großen Kontaktkräfte
treten jedoch bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3
erst dann auf, wenn die erste Führungsplatine 30
durch den Wafer 35 bereits etwas nach oben gedrückt
ist, vorzugsweise einige zehntel Millimeter. Bei
diesem Ausführungsbeispiel der Erfindung ist es also
moglich, die Nadeln 39 nur minimal oder überhaupt
nicht über die erste Führungsplatine 30 nach unten
überstehen zu lassen, wodurch die hochempfindlichen
Nadeln besonders gut geschützt werden und auch der
Verschleiß der Nadeln in der ersten Führungsplatine
und deren Verschleiß durch diese Nadeln 39 ist
praktisch Null oder jedenfalls äußerst gering.
Anstatt die erste Führungsplatine 30 durch den Wafer
35 zu bewegen, kann auch vorgesehen sein, sie durch
einen Antrieb zu bewegen oder ihr Bewegen zu
unterstützen, vorzugsweise derart, daß bei der
Prüfung ein vorbestimmter sehr geringer Abstand von
vorzugsweise weniger als 1/10 mm zwischen dem Wafer
und der ersten Führungsplatine nicht unterschritten
wird. Bspw. kann ein vorbestimmter Mindestabstand
geregelt werden.
In diesen Ausführungsbeispielen sind die Nadeln 39 in
entspanntem Zustand gerade und durch die zweite
Führungsplatine 40 schwach gebogen, also im
wesentlichen gerade. Es ist jedoch auch möglich,
diese Nadeln in entspanntem Zustand nicht gerade
auszubilden, so daß sie durch ihre Gestalt axiale
Eigenfederung als Biegefeder erhalten, sie bspw.
zwischen der Halteplatte 34 und der ersten
Führungsplatine 30 in einem Bogen schwach zu krümmen.
Die in den Fig. 4 und 5 dargestellte Führungsplatine
kann die erste Führungsplatine 30 des Prüfkopfes nach
Fig. 2 bzw. 3 sein. Sie weist pro Nadel ein
zylindrisches Loch 50 auf, dessen Längsachse 90
senkrecht zur Ebene der Führungsplatine 30 verläuft.
Ein Wafer 35 ist ausschnittsweise strichzweipunktiert
angedeutet. Die Mittelpunkte oder Mitten der bei 37
angedeuteten Pads einer ausschnittsweise
eingezeichneten Padreihe eines Chips fallen in die
zueinander parallelen, auf der Ebene des Wafers
senkrecht stehenden Längsachsen 90 der Löcher 50, so
daß die benachbarten Längsachsen 90 und damit die
Mitten der in der Padreihe benachbarten Pads 37 die
konstanten Abstände a haben, die vorzugsweise max.
0,15 mm oder in manchen Fällen auch größer sein
können. Die zweite Führungsplatine 40 kann ggf.
dieselbe Ausbildung wie die erste Führungsplatine 30
aufweisen.
Die Führungsplatine nach den Fig. 6 und 7 kann
ebenfalls eine erste Führungsplatine 30 oder eine
zweite Führungsplatine 40 bilden. Diese eine dünne
Platte bildende Führungsplatine besteht aus zwei
Scheiben 51, 52, von denen die untere eine dickere
Stützplatte 51 ist und die andere eine dünnere,
vorzugsweise nur folienartige Positionierscheibe 52,
die auf der dickeren Stützplatte 51 flach aufliegt
oder an ihr befestigt ist, bspw. mittels Haftkleber
angeklebt ist. Die Stützplatte 51 verhindert, daß die
dünnere Positionierscheibe 52 sich durchbiegen kann.
Die Stützplatte 51 weist für jede Nadel 39 ein Loch
50′ solch großen Durchmessers auf, daß die Nadel
diese Stützplatte nicht kontaktieren kann. Diese
Löcher 50′ sind deshalb trotz der Starrheit der
Stützplatte 51 kostengünstig herzustellen, bspw. zu
bohren. In die viel dünnere, als Positionierscheibe
52 dienende Folie aus Kunststoff oder dgl. sind
Locher 50′′ wesentlich kleineren Durchmessers
eingestanzt und jedes Loch 50′′ ist koaxial zu dem
unter ihm befindlichen Loch 50′ der Stützplatte 51.
Diese Löcher 50′′ führen so infolge ihrer Kürze die
Nadeln besonders schonend. Auch kann diese
Positionierscheibe 52 aus einem Material mit
besonders geringem Gleitreibungskoeffizienten zu den
Nadeln ausgeführt werden, bspw. aus
Polytetrafluoräthylen. Hierdurch werden die Nadeln
besonders geschont und auch der Verschleiß dieser
Positionierscheibe herabgesetzt.
Anstatt die Ausnehmungen der Stützplatte 51 für die
Nadeln 39 als Löcher, hier zylindrische Bohrungen,
auszubilden, kann auch vorgesehen sein, sie als von
der Seite der Stützplatte 51 aus in sie eindringende,
bspw. eingesägte oder eingeschliffene Schlitze 50′′′
auszubilden, wie es in den Fig. 8 und 9 an einem
Ausführungsbeispiel dargestellt ist.
Anstatt einer einzigen zweiten Führungsplatine 40
können ggf. auch mehrere solche zweiten
Führungsplatinen in Abständen übereinander angeordnet
sein, wenn dies für noch stärkeren Schutz der Nadeln
39 erwünscht ist.
In vielen Fällen, besonders wenn die Nadeln nicht
sehr dünn sind, ist es auch möglich, die zweite
Führungsplatine 40 wegzulassen und sie dann von der
ersten Führungsplatine 30 aus direkt zur Halteplatte
34 zu führen.
Anstatt im Ausführungsbeispiel nach den Fig. 6 und 7
die Positionierscheibe 52 auf der Oberseite der
Stützplatte 51 anzuordnen, kann sie besonders
zweckmäßig auch an ihrer Unterseite, also benachbart
den freien Kontaktenden 41 der Nadeln 39 angeordnet
sein, da hierdurch die Kontaktnadeln bis zu den Pads
oder bis sehr nahe zu ihnen geführt werden, wie es in
Fig. 9 dargestellt ist.
In der ersten Führungsplatine 30 des Prüfkopfes 29
nach Fig. 3 befindet sich innerhalb der
Nadelanordnung 49 ebenfalls eine größere
Durchbrechung, wie es bspw. Fig. 10 bei 36 zeigt,
durch die hindurch eine Kanüle 62 bei der Prüfung als
fehlerhaft befundene Chips ebenfalls inken kann.
Die Kanüle 62 ragt in diesem Ausführungsbeispiel
zwischen zwei benachbarten Nadeln 39 hindurch in den
Innenraum der durch die Nadeln 39 gebildeten
Nadelanordnung 49 zwischen der ersten und der zweiten Füh
rungsplatine 30, 40 wie dargestellt hinein. Doch kann
ggf. auch vorgesehen sein, daß die Kanüle 62 von
außerhalb der Nadelanordnung 49 aus zwischen zwei
benachbarten Nadeln 39 hindurch die dem Inken
dienende Flüssigkeit auf den jeweiligen, als
fehlerhaft befundenen Chip durch die Durchbrechung,
wie 36 (Fig. 10), der ersten Führungsplatine 30
hindurch in entsprechend dünnem Strahl spritzen kann.
Oder die Kanüle 62 kann bspw. von oben durch die
Kontaktträgerplatte 45′ und die Halteplatte 34
(Fig. 3) hindurch direkt in den Innenraum der
Nadelanordnung 49 vertikal hineinragen und auch noch
vertikal durch ein Loch in der zweiten
Führungsplatine 40 hindurch bis nahe an die
Durchbrechung 36 der ersten Führungsplatine 30 oder
in diese Durchbrechung 36 hinein oder in Sonderfällen
sogar durch sie hindurch für das Inken geführt sein.
Dies ist auch bei seitlicher Einführung der Kanüle 62
in die Nadelanordnung 49 möglich.
Der Kanüle 62 wird die aus ihr jeweils
auszuspritzende Flüssigkeit von einem nicht
dargestellten Vorratsbehälter aus zugeführt. Bspw.
kann dieser Vorratsbehälter unter Druck stehen, so
daß für das Inken eines Chips kurzzeitiges Öffnen
eines Ventiles genügt. Auch andere Möglichkeiten
bestehen. Bspw. kann kurzzeitiges Pumpen der jeweils
auszuspritzenden Flüssigkeit vorgesehen sein.
Auch bei dem Prüfkopf 29 nach Fig. 3 sind die erste
Führungsplatine 30 wie auch die zweite
Führungsplatine 40 dünne Platten, deren Dicken viel
kleiner als die Länge der Nadeln 39 ist. Auch erfolgt
hier die axiale Federung der freien Kontaktenden 41
der Nadeln 39 ebenfalls zumindest im wesentlichen
durch seitliches Ausbiegen der Nadeln zwischen der
ersten Führungsplatine 30 und der ihre rückwärtigen
Enden haltenden Platten 34, 45′.
Claims (17)
1. Prüfeinrichtung zum Prüfen von Chips aufweisende
Wafers auf elektrische Fehlerfreiheit der Chips,
welche Prüfeinrichtung eine Nadelanordnung
aufweist, deren Nadeln elastisch sind und
metallische elektrische Leitfähigkeit aufweisen
und dem gleichzeitigen Kontaktieren von an einem
jeweils zu prüfenden Chip angeordneten Pads
dienen, dadurch gekennzeichnet, daß die Nadeln
(39) der Nadelanordnung ungefähr senkrecht zur
Ebene des jeweils zu prüfenden Wafers (35)
gerichtet sind, daß diese Nadeln (39) in
entsprechend den von ihnen jeweils gleichzeitig zu
kontaktierenden Pads (37) angeordneten Löchern
einer ersten Führungsplatine (30) eines Prüfkopfes
(29) oder dgl. axial gleitbar geführt sind, welche
erste Führungsplatine (30) den dem Kontaktieren
von Pads (37) dienenden freien Kontaktenden (41)
der Nadeln (39) benachbart angeordnet ist, und daß
die erste Führungsplatine (30) innerhalb der dem
Kontaktieren jeweils eines Chips dienenden
Nadelanordung (49) einen Durchbruch (36) aufweist,
welchem eine Vorrichtung (62) zum Inken
fehlerhafter Chips zugeordnet ist.
2. Prüfeinrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Abstand der ersten
Führungsplatine (30) von den freien Kontaktenden
(41) der Nadeln (39) in deren Normalstellungen, in
denen sie keine Pads (37) kontaktieren, im
wesentlichen dem beim Prüfen auftretenden
Federungsweg der freien Nadelkontaktenden
entspricht oder diesem Federungsweg entspricht,
vorzugsweise dieser Abstand max. 2 mm, besonders
zweckmäßig max. 1 mm beträgt.
3. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der
Prüfkopf (29) oder dgl. eine einzige
Kontaktnadelanordnung zum gleichzeitigen
Kontaktieren der Pads eines einzigen Chips
aufweist.
4. Prüfeinrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Prüfkopf oder dgl.
mindestens zwei unter sich gleiche
Kontaktnadelanordnungen zum gleichzeitigen
Kontaktieren einer entsprechenden Mehrzahl von
Chips eines Wafers aufweist, wobei vorzugsweise
vorgesehen sein kann, daß diese Nadelanordnungen
aufeinanderfolgend an ein für die Prüfung eines
einzelnen Chips ausgebildetes Testgerät der
Prüfeinrichtung elektrisch anschließbar sind.
5. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der
Prüfkopf (29) oder dgl. mindestens eine zweite
Führungsplatine (40) aufweist, in der die Nadeln
(39) ebenfalls in Löchern axial gleitbar geführt
sind.
6. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Nadeln
(39) an einer Halteplatte (34) gehalten sind, die
im Abstand von der ersten Führungsplatine (30)
und, falls vorhanden, auch im Abstand von der
mindestens einen zweiten Führungsplatine (40)
angeordnet ist.
7. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Nadeln
(39) im entspannten Zustand ungefähr gerade sind.
8. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Länge
der Nadeln max. 40 mm, vorzugsweise ungefähr 8 bis
25 mm und ihr Durchmesser max. 0,3 mm,
vorzugsweise max. 0,15 mm beträgt.
9. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Nadeln
separate Nadeln (39) oder Bereiche (39) von viel
längeren Drähten (42) sind.
10. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Führungsplatine (30) am Prüfkopf (29) unbeweglich
angeordnet ist.
11. Prüfeinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Führungsplatine (30) am Prüfkopf oder dgl. in
Längsrichtung der in ihrem Bereich befindlichen
Abschnitte der Nadeln (39) beweglich angeordnet
ist, vorzugsweise geradegeführt und vorzugsweise
federnd beweglich.
12. Prüfeinrichtung nach Anspruch 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die freien Kontaktenden (41)
der Nadeln (39) sich ständig innerhalb den diesen
Nadeln zugeordneten Löchern der ersten
Führungsplatine (30) befinden.
13. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Führungsplatine (30) und/oder die zweite
Führungsplatine (40) für die Nadeln (39)
Ausnehmungen aufweist, die jeweils einen kurzen
lochförmigen Abschnitt zur axialen Führung der
betreffenden Nadel und einen längeren, außer
Kontakt mit der Nadel befindlichen Abschnitt,
welcher ebenfalls lochförmig oder ein zum
benachbarten Rand der Führungsplatine hin offener
Schlitz (50′′′) ist, aufweist, vorzugsweise
derart, daß die betreffende Führungsplatine
(30; 40) aus zwei Scheiben (51, 52) besteht, von
denen die eine Scheibe (52) als Positionierscheibe
für die Nadeln dient und die lochförmigen kürzeren
Durchbrüche (50′′) aufweist und die andere Scheibe
eine die Positionierscheibe gegen Wölben sichernde
starre Stützplatte (51) ist, die die längeren
Abschnitte der Ausnehmungen aufweist.
14. Prüfeinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß zum schwachen Biegen
der NadeIn (39) zwecks axialer Eigenfederung die
Lochanordnung für sie in der zweiten
Führungsplatine (40) etwas größer oder kleiner als
die Lochanordnung in der ersten Führungsplatine
(30) ist.
15. Prüfeinrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß zum schwachen Biegen
der Nadeln (39) zwecks axialer Eigenfederung die
Lochanordnung für sie in der zweiten
Führungsplatine (40) der Lochanordnung in der
ersten Führungsplatine (30) ungefähr entspricht
und zu ihr etwas seitlich versetzt angeordnet ist.
16. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß sie der
Prüfung von Wafers dient, bei denen die durch die
Nadelanordnung jeweils zu kontaktierenden Pads des
betreffenden Chips in der jeweiligen Padreihe so
angeordnet sind, daß die Mittelpunkte benachbarter
Pads maximal 0,2 mm Abstand voneinander aufweisen.
17. Prüfeinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste Führungsplatine
(30) und, falls vorhanden, die mindestens eine zweite
Führungsplatine (40) jeweils eine dünne Platte ist,
deren Dicke viel kleiner als die Länge der Nadeln (39)
ist, deren freien Kontaktenden (41) durch zumindest im
wesentlichen außerhalb der oder den Führungsplatinen
erfolgendes Ausbiegen der Nadeln axial federn können.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19873702184 DE3702184A1 (de) | 1986-01-27 | 1987-01-26 | Pruefeinrichtung zur wafer-pruefung |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3602334 | 1986-01-27 | ||
DE19873702184 DE3702184A1 (de) | 1986-01-27 | 1987-01-26 | Pruefeinrichtung zur wafer-pruefung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3702184A1 true DE3702184A1 (de) | 1987-07-30 |
Family
ID=25840451
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19873702184 Withdrawn DE3702184A1 (de) | 1986-01-27 | 1987-01-26 | Pruefeinrichtung zur wafer-pruefung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3702184A1 (de) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3802841A1 (de) * | 1988-02-01 | 1989-08-03 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Verfahren zur charakterisierung optischer eigenschaften von halbleiter-lasern und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE4223658A1 (de) * | 1991-07-18 | 1993-01-21 | Gold Star Electronics | Testvorrichtung fuer halbleiter-chips |
WO1995002829A1 (de) * | 1993-07-12 | 1995-01-26 | Mania Gmbh & Co. | Vollmaterialadapter |
DE19522428C1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-10-17 | Feinmetall Gmbh | Prüf- und Stromversorgungsvorrichtung für Prüflinge |
DE19829934C2 (de) * | 1997-11-05 | 2002-02-14 | Feinmetall Gmbh | Prüfkopf für Mikrostrukturen mit Schnittstelle |
DE102006017758A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-18 | Feinmetall Gmbh | Kontaktiervorrichtung |
US8098077B2 (en) | 2005-06-23 | 2012-01-17 | Feinmetall Gmbh | Contact-making apparatus |
RU2778212C1 (ru) * | 2021-12-22 | 2022-08-15 | Общество с ограниченной ответственностью "Остек-Электро" | Контактирующая головка для проведения четырёхзондовых измерений |
-
1987
- 1987-01-26 DE DE19873702184 patent/DE3702184A1/de not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3802841A1 (de) * | 1988-02-01 | 1989-08-03 | Standard Elektrik Lorenz Ag | Verfahren zur charakterisierung optischer eigenschaften von halbleiter-lasern und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
DE4223658A1 (de) * | 1991-07-18 | 1993-01-21 | Gold Star Electronics | Testvorrichtung fuer halbleiter-chips |
DE4223658B4 (de) * | 1991-07-18 | 2005-11-03 | Magnachip Semiconductor, Ltd. | Testvorrichtung für Halbleiter-Chips |
WO1995002829A1 (de) * | 1993-07-12 | 1995-01-26 | Mania Gmbh & Co. | Vollmaterialadapter |
DE19522428C1 (de) * | 1995-03-09 | 1996-10-17 | Feinmetall Gmbh | Prüf- und Stromversorgungsvorrichtung für Prüflinge |
DE19829934C2 (de) * | 1997-11-05 | 2002-02-14 | Feinmetall Gmbh | Prüfkopf für Mikrostrukturen mit Schnittstelle |
US8098077B2 (en) | 2005-06-23 | 2012-01-17 | Feinmetall Gmbh | Contact-making apparatus |
DE102006017758A1 (de) * | 2006-04-15 | 2007-10-18 | Feinmetall Gmbh | Kontaktiervorrichtung |
DE102006017758B4 (de) * | 2006-04-15 | 2021-05-27 | Feinmetall Gmbh | Kontaktiervorrichtung |
RU2778212C1 (ru) * | 2021-12-22 | 2022-08-15 | Общество с ограниченной ответственностью "Остек-Электро" | Контактирующая головка для проведения четырёхзондовых измерений |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0762496B1 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE2933862C2 (de) | ||
DE69421008T2 (de) | Verbindungsanordnung für elektrische Kontakte | |
EP2210115B1 (de) | Vollrasterkassette für einen paralleltester zum testen einer unbestückten leiterplatte, federkontaktstift für eine solche vollrasterkassette sowie adapter für einen paralleltester zum testen einer unbestückten leiterplatte | |
EP0221319A1 (de) | Anschlussstift für lötfreie Anschlusstechniken | |
EP0268969B1 (de) | Adapter für ein Leiterplattenprüfgerät | |
DE3337915A1 (de) | Kontaktiervorrichtung | |
EP0145830A1 (de) | Kontaktfeldanordnung für ein rechnergesteuertes Leiterplattenprüfgerät | |
DE3702184A1 (de) | Pruefeinrichtung zur wafer-pruefung | |
EP0184619B1 (de) | Leiterplatten-Prüfeinrichtung | |
DE3639360A1 (de) | Pruefstift fuer einen adapter zum verbinden von im raster befindlichen pruefkontakten eines leiterplattenpruefgeraetes mit in und/oder ausser raster befindlichen pruefpunkten eines prueflings | |
EP0233511A1 (de) | Prüfeinrichtung zur Wafer-Prüfung | |
DE3832410C2 (de) | Kontaktvorrichtung | |
EP0068493B1 (de) | Kontaktsonden-Anordnung für integrierte Schaltungselemente | |
DE3806792A1 (de) | Vorrichtung zum pruefen von leiterplatten | |
DE8701195U1 (de) | Prüfeinrichtung zur Wafer-Prüfung | |
DE3722485C2 (de) | ||
DE8806064U1 (de) | Testgerät | |
DE3636361C1 (en) | Adapter for testing the performance of electrical components intended for surface mounting | |
EP0265767B1 (de) | Nadelkarte | |
DE3507619C2 (de) | Adapter für ein Leiterplattenprüfgerät | |
DE3734647A1 (de) | Nadelkarte | |
DE3340243A1 (de) | Vorrichtung zum pruefen von leiterplatten | |
DE19511565A1 (de) | Prüfadapter | |
DE2752749C3 (de) | Kontaktiervorrichtung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |