DE3688475D1 - Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der korrektur der fokussierung in einer lithographischen vorrichtung. - Google Patents
Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der korrektur der fokussierung in einer lithographischen vorrichtung.Info
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/727,644 US4645338A (en) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | Optical system for focus correction for a lithographic tool |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3688475D1 true DE3688475D1 (de) | 1993-07-01 |
Family
ID=24923439
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE8686102278T Expired - Lifetime DE3688475D1 (de) | 1985-04-26 | 1986-02-21 | Vorrichtung und verfahren zur bestimmung der korrektur der fokussierung in einer lithographischen vorrichtung. |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4645338A (de) |
EP (1) | EP0199014B1 (de) |
JP (1) | JPS61250506A (de) |
DE (1) | DE3688475D1 (de) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5898479A (en) * | 1997-07-10 | 1999-04-27 | Vlsi Technology, Inc. | System for monitoring optical properties of photolithography equipment |
US8032460B2 (en) * | 2000-07-27 | 2011-10-04 | Daita Frontier Fund, Llc | Authentication managing apparatus, and shop communication terminal |
JP2002277967A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | ピント調整検査器及びピント調整方法 |
JP2005505929A (ja) * | 2001-10-10 | 2005-02-24 | アクセント オプティカル テクノロジーズ,インク. | 断面解析による焦点中心の決定 |
US6885429B2 (en) * | 2002-06-28 | 2005-04-26 | Asml Holding N.V. | System and method for automated focus measuring of a lithography tool |
US20060136717A1 (en) * | 2004-12-20 | 2006-06-22 | Mark Buer | System and method for authentication via a proximate device |
US8295484B2 (en) | 2004-12-21 | 2012-10-23 | Broadcom Corporation | System and method for securing data from a remote input device |
JP2007317960A (ja) * | 2006-05-26 | 2007-12-06 | Canon Inc | 露光条件の検出方法及び装置、並びに、露光装置 |
TWI383273B (zh) * | 2007-11-20 | 2013-01-21 | Asml Netherlands Bv | 微影投射裝置之焦點測量方法及微影投射裝置之校準方法 |
US9798225B2 (en) | 2013-11-05 | 2017-10-24 | Asml Netherlands B.V. | Method of characterizing, method of forming a model, method of simulating, mask manufacturing method and device manufacturing method |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1447450A1 (de) * | 1963-06-14 | 1968-10-31 | Agfa Ag | Entfernungsmess- oder Steuervorrichtung |
US3945023A (en) * | 1974-03-29 | 1976-03-16 | Honeywell Inc. | Auto-focus camera with solid state range finder |
US4201456A (en) * | 1976-04-22 | 1980-05-06 | Wolbarsht Myron L | Method and apparatus for detecting the focusing condition of an optical system |
DE2622283A1 (de) * | 1976-05-19 | 1977-12-08 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur lokalisierung eines festkoerperplaettchens und festkoerperplaettchen zur durchfuehrung des verfahrens |
JPS5413330A (en) * | 1977-07-01 | 1979-01-31 | Olympus Optical Co Ltd | Automatic focus adjusting system |
US4211489A (en) * | 1978-01-16 | 1980-07-08 | Rca Corporation | Photomask alignment system |
JPS5576310A (en) * | 1978-12-05 | 1980-06-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Automatic focusing device |
US4327292A (en) * | 1980-05-13 | 1982-04-27 | Hughes Aircraft Company | Alignment process using serial detection of repetitively patterned alignment marks |
JPS57192929A (en) * | 1981-05-25 | 1982-11-27 | Hitachi Ltd | Projector provided with automatic focusing function |
JPS5897009A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-09 | Olympus Optical Co Ltd | 自動焦点調節方法 |
US4549084A (en) * | 1982-12-21 | 1985-10-22 | The Perkin-Elmer Corporation | Alignment and focusing system for a scanning mask aligner |
JPS59121932A (ja) * | 1982-12-28 | 1984-07-14 | Fujitsu Ltd | 自動焦点制御装置 |
US4583852A (en) * | 1983-03-31 | 1986-04-22 | The Perkin-Elmer Corporation | Attitude transfer system |
US4585337A (en) * | 1985-01-14 | 1986-04-29 | Phillips Edward H | Step-and-repeat alignment and exposure system |
-
1985
- 1985-04-26 US US06/727,644 patent/US4645338A/en not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-01-29 JP JP61015981A patent/JPS61250506A/ja active Granted
- 1986-02-21 DE DE8686102278T patent/DE3688475D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-02-21 EP EP86102278A patent/EP0199014B1/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4645338A (en) | 1987-02-24 |
JPH0588835B2 (de) | 1993-12-24 |
EP0199014B1 (de) | 1993-05-26 |
JPS61250506A (ja) | 1986-11-07 |
EP0199014A3 (en) | 1988-12-07 |
EP0199014A2 (de) | 1986-10-29 |
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---|---|---|---|
8332 | No legal effect for de |