DE3612651C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Erfassen von Rissen beispielsweise an der Oberfläche von
Bauteilen für Kernkraftanlagen, Dampfturbinen, Wasserturbinen
und dergleichen. Ein solches Verfahren und eine entsprechende
Vorrichtung sind aus der DE-Z "Materialprüfung",
Band 18 (1976) Nr. 9 (September), Seiten 342 bis 344 (Dobmann
et al.) bekannt.
In dieser Druckschrift ist beschrieben, wie zweidimensionale
Risse vermittels einer finite-Element-Methode festgestellt
werden. Für das genaue Erfassen des Entwicklungsstadiums von
Rissen ist jedoch deren Erfassung in allen drei Raumdimensionen
unerläßlich. Die Feststellung dreidimensionaler Risse
nach der genannten Druckschrift bedingt jedoch zuerst eine
Festlegung des Ausmaßes des Risses an der Oberfläche und
dann der Tiefe. Damit ist jedoch keine genaue Ermittlung der
dreidimensionalen Rißform oder der exakten Rißtiefe möglich.
Ein dem geschilderten Verfahren bzw. der entsprechenden Vorrichtung
ähnliches Vorgehen wird in der DE-Z "Thyssenforschung",
1. Jahrgang 1969, Heft 3, Seiten 116 bis 121 (M.
Strässer) beschrieben. Dabei wird die Oberfläche eines
Prüflings von Hand abgetastet und die erhaltenen Potentialverteilungen
werden mit empirisch an Modellkörpern ermittelten
Potentialverteilungen verglichen. Wie bei der eingangs
genannten Druckschrift wird dabei der Rißverlauf jeweils
nur zweidimensional festgestellt.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung
zu schaffen, mit dem bzw. mit der die Formen von
sich beispielsweise an Bauteilen entwickelnden Oberflächenrissen
äußerst genau erfaßt werden können.
Ausgehend von dem eingangs genannten Verfahren bzw. der
entsprechenden Vorrichtung wird diese Aufgabe erfindungsgemäß
mit den im Kennzeichen des Verfahrensanspruchs 1 bzw.
des Vorrichtungsanspruchs 3 genannten Merkmalen gelöst.
Erfindungsgemäß wird demnach in folgenden Schritten vorgegangen:
Speichern verschiedener Elemente mit unterschiedlichen
Streckungsverhältnissen in einem Speicher, Aussuchen
des einer gemessenen Potentialverteilung nächsten
Streckungsverhältnisses unter Verwendung der Beziehung
zwischen dem Potentialdifferenzverhältnis und der Tiefe
des Risses bezüglich verschiedener Arten von Streckungsverhältnissen,
Abrufen des Elementes mit dem erhaltenen
Streckungsverhältnis aus dem Speicher und Ändern der Form
des Elementes gemäß der Potentialverteilung, Analysieren des
elektrischen Feldes, Vergleichen der gemessenen Potentialverteilung
mit der analysierten Potentialverteilung, bis
beide Potentialverteilungen zusammenfallen, und Beurteilen
der Elementform im Zeitpunkt des Zusammentreffens der
Potentialverteilungen, die dann die tatsächliche Rißform
ist.
Das zu messende Potentialdifferenzverhältnis ist durch die
Form des Risses mit beeinflußt, so daß es nicht möglich ist,
die Rißform allein aufgrund des Potentialdifferenzverhältnisses
zu bestimmen. Durch die erfindungsgemäße Analyse des
elektrischen Feldes ist es jedoch möglich, die Rißform exakt
zu erfassen.
Eine vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen
Verfahrens ist im Patentanspruch 2 dargestellt.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung nach Patentanspruch 3
ist zur Feststellung der Form eines dreidimensionalen Risses
ein XY-Scanner zur Ausführung einer Abtastoperation durch
einen Meßkopf mit Stromführungssonden und Meßsonden und
ein Mikrocomputer vorgesehen. Aufgrund der Notwendigkeit,
einen elektrischen Strom vertikal durch die gerissene Oberfläche
anzulegen, ist der Meßkopf mit einem Mechanismus versehen,
der ihn bezüglich einer zur Oberfläche des Prüflings
senkrechten Achse drehbar macht. Des weiteren ist eine Anzahl
von Stromzuführungssonden zum Aufbau eines gleichförmigen
elektrischen Feldes vorgesehen. Durch eine Anordnung
von Meßsonden jeweils zwischen Stromzuführungs-Sondenpaaren
ist es möglich, die Potentialverteilung sowohl längs des
Risses wie quer zum Riß mit dem gleichen Ergebnis zu erfassen.
Gleichzeitig ist es damit auch möglich, eine
eventuelle Neigung des Risses zur Oberfläche zu erhalten,
und zwar aufgrund der Tatsache, daß bei geneigten oder
schiefen Rissen die Potentialverteilung unsymmentrisch ist.
Die Unteransprüche 4 bis 10 beinhalten bevorzugte Ausführungsformen
der Vorrichtung nach Anspruch 3, die insbesondere
zur einfachen und schnellen Erfassung der erfindungsgemäß
wesentlichen Potentialverteilung um den Riß beitragen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Zeichnung näher
erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Potentialverteilung in der Nähe eines Risses,
die durch Analyse einer finite-Element-Methode
erhalten wird;
Fig. 2 ein Diagramm für die Potentialverteilung der Fig. 1
in der Nähe des Risses in einer zum Riß parallelen
Richtung;
Fig. 3 ein Diagramm, das die Relation zwischen der Potentialdifferenz
an jedem Meßpunkt und der Rißtiefe
wiedergibt, wobei ein Prüfling aus rostfreiem Stahl
verwendet wurde;
Fig. 4 eine perspektivische Ansicht
eines Ausführungsbeispiels
einer Rißform-Erfassungsvorrichtung;
Fig. 5 eine detaillierte Ansicht der Rißform-Erfassungsvorrichtung;
Fig. 6 ein Diagramm für das Verfahren
zur Bestimmung der Form eines Oberflächenrisses
anhand der Potentialverteilung, die aus der Analyse
der effektiv gemessenen Werte erhalten wird;
Fig. 7 eine Ansicht eines Rißdetektorkopfes;
Fig. 8 eine Draufsicht auf eine Anordnung der Stromzuführungs-
Sondenpaare und der Potentialmeßsonden
des Detektorkopfes der Fig. 7;
Fig. 9 bis 13 Draufsichten, die andere Anordnungen der
Sonden wiedergeben;
Fig. 14 eine Ansicht der Stromzuführungs-
und Potentialmeßsonde;
Fig. 15 eine Ansicht, die einen anderen
Aufbau der Sonde wiedergibt;
Fig. 16 eine weitere Ansicht einer Stromzuführungssonde;
Fig. 17 eine Ansicht einer anders aufgebauten
Stromzuführungssonde;
Fig. 18 eine schematische Ansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels
der Rißform-Erfassungsvorrichtung,
die für jede Stromzuführungssonde eine unabhängige
Konstantstromquelle aufweist;
Fig. 19 eine perspektivische Ansicht eines dritten Ausführungsbeispiels
einer Rißform-Erfassungsvorrichtung,
bei der die Stromzuführungssonden an
den Seitenplatten einer Antriebseinrichtung angebracht
sind;
Fig. 20 eine schematische Ansicht der Potentialverteilung,
die durch Abtasten der Oberfläche eines
Risse aufweisenden Bauelements erhalten wurde;
Fig. 21 eine perspektivische Ansicht eines vierten
Ausführungsbeispiels einer Rißform-Erfassungsvorrichtung;
Fig. 22 ein Flußdiagramm zum Erfassen der Rißform;
Fig. 23 eine Teilansicht der Elemente für die Rißform, falls das Streckungsverhältnis
1,0 beträgt;
Fig. 24 eine Teilansicht der Elemente, falls das Streckungsverhältnis
0,5 beträgt;
Fig. 25 ein Diagramm für eine Potentialverteilung, die
effektiv um einen Riß herum gemessen wurde;
Fig. 26 ein Diagramm zur Verdeutlichung der Beziehung
zwischen der Potentialverteilung und der Rißtiefe;
Fig. 27, 28 und 30 Diagramme, die Korrekturmethoden für
die Daten der Element-Knotenpunkte wiedergegeben;
Fig. 29 ein Diagramm, das die effektiv bzw. tatsächlich
gemessenen Werte der Potentialverteilung
den Analysewerten der Potentialverteilung
gegenüberstellt;
Fig. 31 ein Diagramm, bei dem ein Element in rechteckige
Segmente unterteilt ist;
Fig. 32 und 33 Diagramme, die das Korrekturverfahren für die
Daten der Element-Knotenpunkte darstellen, und
Fig. 34 ein Diagramm, das ein Verfahren zur Beurteilung
der Rißform unter Verwendung von rechteckigen
Elementen wiedergibt, und zwar ohne Bewegung
der Knotenpunkte.
Die Fig. 1 zeigt ein Äquipotentialdiagramm, das die Potentialverteilung
in der Nähe eines Oberflächenrisses wiedergibt.
Dies stellt das Ergebnis dar, das durch eine Analyse
gemäß einer finite-Element-Methode bei einem auf einer
flachen Platte mit 20 mm Dicke vorliegenden halbkreisförmigen
Riß erhalten wurde, der 30 mm lang und 15 mm
tief ist. Selbst wenn sich das Material ändert, ändert
sich lediglich der Absolutwert des Potentials; die Verteilungsform
bleibt jedoch unverändert. Berücksichtigt
man die Potentialverteilung auf der Rißoberfläche, so
kriechen die Äquipotentiallinien unter die Rißoberfläche.
Die Anzahl der Äquipotentiallinien, die unter die Rißoberfläche
kriechen, ändert sich entsprechend der Rißtiefe.
Es ist ebenso verständlich, daß die Potentialverteilung
eine Verteilung aufzeigt, die symmetrisch zur Rißoberfläche
ist. Da die Potentiale entgegengesetzte
Verteilungen in bezug auf den dazwischenliegenden
Riß aufzeigen, kann die Rißstelle auf einfache
Weise beurteilt werden.
Die Potentialdifferenz erreicht an der Stelle,
an der der Riß vorliegt, einen großen Wert.
Die Fig. 2 zeigt das Rechenergebnis der Potentialverteilung
in der Nähe des Risses. Die Berechnung wurde für den in
Fig. 1 gezeigten Riß ausgeführt. Das Diagramm zeigt die
Potentialverteilung in Richtung der X-Achse an Stellen,
die um 1, 2, 3, 4, 5 bzw. 10 mm vom Riß in Richtung der
Y-Achse abgesetzt sind. Wie aus diesem Diagramm deutlich
zu ersehen ist, kann die Rißform in gewissem Grade selbst
an einer Stelle beurteilt werden, die vom Riß einen Abstand
von 10 mm aufweist. Jedoch ist es schwierig, die
Rißform an entfernten Stellen exakt zu erfassen,
da das Potential allmählich abfällt. Es ist insbesondere
schwierig, das Ende des Oberflächenrisses
zu bestimmen.
Wird die Meßstelle näher zum Riß gelegt, so kann das
Ende des Oberflächenrisses leicht bestimmt werden, da
in der Potentialverteilung am Ende des Risses besondere
Punkte auftreten. Außerdem ist das Potential proportional
der Rißtiefe. Die Rißform kann demzufolge dadurch
bestimmt werden, indem man die Potentialverteilung vom
vordersten Abschnitt des Risses in der Nähe des Rißpols
längs des Risses mißt oder die Potentialdifferenz quer
zum Riß mißt.
Die Fig. 3 zeigt die Beziehung zwischen der Potentialdifferenz
und der Rißtiefe, wobei die Potentialdifferenz an einer
Stelle gemessen wird, die um 1 mm von einem auf einer
flachen Platte aus SUS 304 befindlichem Riß abgesetzt
ist, wobei der Riß in simulierter Art durch Entladung
bzw. Ätzung ausgebildet wurde. Die Riß-Streckungsverhältnisse,
d. h. a/c (a: Rißtiefe; c: Rißlänge) betragen 1,0;
0,5 und 0,25. Die Potentialdifferenz ist proportional
zur Rißtiefe, und zwar ohne Beziehung zum Streckungsverhältnis,
obwohl einige Abweichungen bestehen. Folglich
kann die Rißform exakter durch Messung der Potentialverteilung
in der Nähe des Risses bestimmt werden.
Fig. 4 zeigt in schematischer Ansicht eine Vorrichtung
zum Erfassen der Form eines an einem Bauelement befindlichen
Oberflächenrisses. Dem Bauelement 1, das den Oberflächenriß
11 aufweist, wird über eine Vielzahl von Stromzuführungs-
Sondenpaaren 2 ein Gleichstrom von einer
Gleichstrom-Konstantstromquelle 3 zugeführt. Eine Vielzahl
von Meßsonden 4 ist zwischen den Stromzuführungs-
Sondenpaaren 2 parallel dazu ausgerichtet. Die
Stromzuführungs-Sondenpaare 2 und die Meßsonden 4 sind
auf einem nichtleitenden Substrat bzw. Trägermaterial
(nicht dargestellt) angebracht. Das Substrat ist an seiner
Antriebseinrichtung 5 befestigt. Die Rißform-Erfassungvorrichtung
umfaßt ebenso einen Abtastmechanismus. Die
Potentialdifferenz zwischen den Meßsonden 4 wird über
eine Abtasteinrichtung 6 mittels eines Mikrovoltmeters
7 gemessen. Die Ausgangsgröße dieses Mikrovoltmeters 7
wird über eine Schnittstelle bzw. ein Interface 8 einem
Mikrocomputer 9 zugeführt. Die eingegebene Potentialdifferenz
wird mit einer Bezugskurve verglichen, die
vorher im Mikrocomputer abgespeichert wurde, und berechnet,
um somit die Rißform zu bestimmen. Das Ergebnis
der Berechnung wird mittels eines X-Y Plotters 10
angezeigt. Die Positionierung des Rißdetektorkopfes
(vergleiche Fig. 5), der das Substrat mit den daran befestigten
Stromzuführungs-Sondenpaaren 2 und Meßsonden
4 darstellt, wird mit Hilfe der Antriebseinrichtung 5
vorgenommen. Die Antriebseinrichtung 5 wird wiederum
vom Mikrocomputer 9 gesteuert.
Fig. 5 stellt eine Detailansicht der Antriebseinrichtung
5 der Rißform-Erfassungsvorrichtung dar. Die Antriebseinrichtung
5 kann mit Hilfe eines Schrittmotors 50 den
Rißdetektorkopf 40 mit seinen Meßsonden 4 und Stromzuführungs-Sondenpaaren
2 um eine Z-Achse drehen. Außerdem
weist die Antriebseinrichtung 5 einen Druckluftzylinder
49 auf, mit dessen Hilfe die Meßsonden 4 und die
Stromzuführungs-Sondenpaare 2 auf die Oberfläche des
zu prüfenden Bauelements gedrückt werden. Ferner hat
die Antriebseinrichtung 5 einen X-Achsen-Antriebsmechanismus
51 und einen Y-Achsen-Antriebsmechanismus 52, um
den Rißdetektorkopf 40 auf einer zweidimensionalen Ebene
bewegen zu können. Jede dieser Koordinatenachsen wird
über ein Untersetzungsgetriebe 54, 54′ von einem Motor
53, 53′ angetrieben. Die Y-Achse 52 ist an Seitenplatten
55, 55′ befestigt. An den Seitenplatten 55, 55′ sind
ferner Saugscheiben 56 montiert, die durch Druckluft betätigt
werden und der Fixierung der Antriebseinrichtung 5
auf der Oberfläche des Bauelements dienen. Die Motoren
53, 53′ zum Antrieb der X- und Y-Achse stehen mit einem
Positionssteuergerät 57 in Verbindung, das wiederum von
einem Meßsteuersystem 58 gesteuert wird.
Bei der Fig. 5 macht z. B. der Rißdetektorkopf 40 von
der Anordnung der Stromzuführungs-Sondenpaare 2 und
Meßsonden 4 Gebrauch, die in der später folgenden Fig. 9
gezeigt ist. Die Richtung des Auftretens des Risses
wird im wesentlichen vom Material des Bauelements
bestimmt. Demzufolge werden die Stromzuführungs-Sondenpaare
2 und die Meßsonden 4 parallel zum Riß angeordnet,
wobei eine Abtastung in den Richtungen der X- und Y-Achse
51, 52 erfolgt, um die Potentialverteilung auf der
Oberfläche des Bauelements zu messen, auf der sich die
Antriebseinrichtung 5 bewegen kann. Liegt kein Riß vor,
so tritt zwischen den Meßsonden 4 keine Potentialdifferenz
auf. In der Nähe eines Risses tritt jedoch eine
Potentialdifferenz auf. Wird die Oberfläche von Beginn an
in kleinen Schritten abgetastet, so wird die Meßzeit lang.
Deshalb tastet der Rißdetektorkopf 40
zuerst die Oberfläche grob ab,
um auf diese Weise eine ungefähre Potentialverteilung
und die Stelle des Risses zu bestimmen. Danach
werden nur die Abschnitte in der Nähe der Stelle, an der
der Riß vorliegt, fein abgetastet, um dadurch eine
detaillierte Potentialverteilung zu erhalten und die
Rißform bestimmen zu können. Der Meßabstand für eine grobe
Messung im ersten Stadium kann 10 mm oder mehr betragen,
wie es aus Fig. 2 ersichtlich ist.
Die Fig. 6 zeigt eine Ansicht, die das Verfahren zur Erfassung
der Rißform in weiteren Einzelheiten erläutert. Der Gleichstrom
fließt durch das einen Riß 11 aufweisende Bauelement
1 und die Potentialverteilung 14 auf der Oberfläche des
Bauelements wird durch Abtasten mit den Meßsonden
4 gemessen und in den Mikrocomputer 9 eingegeben. Die
eingegebene Potentialverteilung wird mit einer Bezugskurve
17 verglichen und vom Mikrocomputer 9 berechnet, um die
grundlegende Rißform 15 a zu bestimmen. Vom Computer 16 wird
eine numerische Analyse wie z. B. eine finite-Element-Methode
unter Verwendung dieser Rißform 15 a ausgeführt,
um die Potentialverteilung bzw. Bezugskurve 17 zu erhalten.
Diese wird dann mit der tatsächlich gemessenen
Potentialverteilung 14 verglichen, und Korrekturen wie z. B.
15 b und 15 c werden an der Rißform angebracht, so daß
die beiden Potentialverteilungen einander gleich sind.
Die Potentialverteilung wird wieder durch Berechnung
erhalten. Dieser Prozeß wird wiederholt, und der Riß 18,
der erhalten wird, wenn die Potentialverteilung 14, die
letztlich effektiv gemessen wird, mit der Potentialverteilung
17, die durch Berechnung erhalten wird, übereinstimmt,
als Oberflächen-Rißform bestimmt. Entsprechend
diesem Verfahren kann die Rißform selbst dann äußerst
exakt erfaßt werden, wenn die Rißform sehr komplitziert
ist.
Ist die Rißform einfach, so kann die Rißform durch
Kombinieren einer Anzahl von Bezugskurven bestimmt werden.
Die Fig. 7 bis 12 zeigen verschiedene Beispiele für
die Anordnung der Stromzuführungs-Sondenpaare und der
Meßsonden.
Wie aus Fig. 7 ersichtlich, sind die Stromzuführungs-Sondenpaare
2 und die Meßsonden 4 an dem aus einem
nichtleitenden Substrat bestehenden Rißdetektorkopf 40
angebracht. Die Meßsonden 4 sind im Zentrum der Stromzuführungs-Sondenpaare
2 angeordnet. Liegt kein Riß auf
der Oberfläche des Bauelements 1 vor, so befinden sich
die Meßsonden 4 auf einer Äquipotentiallinie, so daß
zwischen den Meßsonden 4 keine Potentialdifferenz
auftritt. Ist jedoch irgendein Riß vorhanden, wie in Fig. 2
gezeigt, so tritt infolge einer Störung des elektrischen
Feldes eine Potentialdifferenz zwischen den
Meßsonden 4 auf. Die Fig. 8 bis 12 zeigen Beispiele
für die Sondenanordnung zur Erfassung dieser Störung
des elektrischen Feldes.
In Fig. 8 ist eine Vielzahl von Meßsonden 4 dargestellt,
die in der Mitte zwischen einem einzigen Stromzuführungs-Sondenpaar
2 angeordnet sind.
In Fig. 9 ist eine Vielzahl von Stromzuführungs-Sondenpaaren
2 im gleichen Abstand angeordnet, wobei die Meßsonden
4 in der Mitte der Stromzuführungs-Sondenpaare
2 angeordnet sind, um ein gleichförmiges elektrisches
Feld im Meßbereich auszubilden.
In Fig. 10 sind die Meßsonden 4 in der Mitte der
Stromzuführungs-Sondenpaare 2 und ebenso in der Mitte der
benachbarten Stromzuführungs-Sondenpaare 2 angeordnet,
so daß die Stromdichte
gleich wird.
Fig. 11 zeigt eine Anordnung, bei der in der Mitte zwischen
im gleichen Abstand ausgerichteten Stromzuführungs-Sondenpaaren
2 zwei Meßsonden 4 angeordnet sind, wobei eine
dieser Meßsonden 4 stationär ist und die andere sich
linear in der Mitte zwischen den Stromzuführungs-Sondenpaaren 2
bewegen kann, um die Verteilung der
Potentialdifferenz kontinuierlich messen zu können.
Fig. 12 zeigt eine Anordnung, bei der zusätzlich zwei
Meßsonden 24 zur Erfassung der Rißauftrittsstelle in
der Mitte der Meßsonden 4 der in der Fig. 8 gezeigten
Anordnung angebracht sind, und zwar in einem rechten Winkel
zu den Meßsonden 4 der Anordnung der Fig. 8.
Die in den Fig. 8 bis 12 gezeigten Anordnungen der
Stromzuführungs-Sondenpaare 2 und Meßsonden 4 dienen
der Messung der Potentialverteilung parallel Riß.
Die Fig. 13 zeigt eine Anordnung, bei der die Stromzuführungs-
Sondenpaare 2 parallel zueinander mit gleichem Abstand
ausgerichtet sind und Meßsondenpaare
25 parallel zueinander in gleichem Abstand derart
ausgerichtet sind, daß die Mitte der Stromzuführungs-
Sondenpaare 2 gleichzeitig die Mitte der Meßsondenpaare
25 darstellt und jedes Meßsondenpaar 2 in der Mitte zwischen
benachbarten Stromzuführungs-Sondenpaaren 2 angeordnet
ist. Diese Anordnung beseitigt die Notwendigkeit
der Abtastung.
Die Fig. 14 zeigt den Aufbau der Stromzuführungssonden
und der Meßsonden. (Üblicherweise wird als Sonde
ein runder Stab aus rostfreiem Stahl oder Werkzeugstahl
verwendet, der eine konische Spitze aufweist. Besteht
die zu messende Probe jedoch aus einem weichen Material,
so wird dieses von der Sonde leicht beschädigt, so daß der
Meßkopf jedes Mal angehoben und bewegt werden muß, wenn
die Meßposition geändert wird.) Die vorliegende Anordnung
ermöglicht die kontinuierliche Messung der Potentialverteilung,
während der Meßkopf auf die zu messende
Probe gedrückt wird. Am Ende bzw. an der Spitze eines
Elektrodenstabs 31 ist ein Zylinder 34 angeordnet. In
dem Zylinder 34 sind eine Feder 32, ein Zwischenstück
bzw. Käfig 39 aus Silber oder Silberfolie und eine
Stahlkugel 33 eingesetzt, wobei alle Teile miteinander elektrisch
verbunden sind. Entsprechend dieser Sondenstruktur
wird die Stahlkugel 33 mit Hilfe der Feder über das
Zwischenstück 39 aus Silber auf die Oberfläche des Bauelements
1 gedrückt. Die Stahlkugel 33 dreht sich bei einer
Bewegung der Sonde. Demzufolge kann die Messung der
Potentialverteilung kontinuierlich erfolgen und die erforderliche
Meßzeit verringert werden.
Die Fig. 15 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel der Sonde.
An der Spitze des Elektrodenstabs 31 ist ein abgeschlossenes
Ende des Zylinders 36 befestigt. Am anderen
geöffneten Ende des Zylinders 36 ist ein Silberfilm 38
angeklebt. Das Innere des Zylinders 36 ist in zwei Abschnitte
unterteilt, wobei der dem Silberfilm 38 zugewandte
Abschnitt ein flüssigkeitsähnliches Material 37
und der andere Abschnitt die Feder 39 enthält. Bei diesem
Aufbau wird der Silberfilm 38 einer Deformation entsprechend
dem Oberflächenzustand des Bauelements ausgesetzt,
wodurch ein zuverlässiger Kontakt sichergestellt
werden kann.
Die Fig. 16 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel, das eine
flache Silberplatte 22 als Stromzuführungssonde 21 verwendet.
Da Silber mit einem hinreichend kleinen spezifischen
Widerstand als Elektrodenmaterial verwendet wird,
kann zwischen diesen Sonden ein Bereich mit einem
parallelen elektrischen Feld sichergestellt werden.
Die Fig. 17 zeigt eine Anordnung, bei der eine Silberbürste
35 an der Spitze der Stromzuführungssonde 31 angeordnet
ist. Wird eine solche Stromzuführungssonde verwendet,
so kann der Kontaktbereich durch die Bürste 35 vergrößert
und der Kontaktwiderstand
verringert werden.
Die Fig. 18 zeigt ein Steuersystem, bei dem für eine Vielzahl
von Stromzuführungs-Sondenpaaren 2 unabhängige
Konstantstromquellen 23 vorgesehen sind. Auf diese Weise
kann der Strom, der durch jedes Sondenpaar fließt, gesteuert
werden. Da dieses System einen konstanten Strom
ungeachtet des Kontaktzustandes der Stromzuführungs-Klemmenpaare
2 liefern kann, wird ein homogenes elektrisches
Feld erzeugt.
Die Fig. 19 zeigt noch ein weiteres Ausführungsbeispiel
der Rißform-Erfassungsvorrichtung. Im Gegensatz zu der
in Fig. 5 gezeigten Vorrichtung sind beim Ausführungsbeispiel
der Fig. 19 die Stromzuführungssonden 100
für die Zufuhr des Gleichstromes nicht an dem Rißdetektorkopf
angeordnet. Außerdem unterscheidet sich das
Verfahren zum Messen der Potentialverteilung. Wie aus der
Fig. 19 ersichtlich, sind an den Seitenplatten 55, 55′ der
Antriebseinrichtung 5 mit gleichem Abstand eine große
Anzahl an Stromzuführungssonden 100 angeordnet. Dabei
ist jeder Elektrodenabschnitt der Sonden isoliert am
Ende eines Zylinders 105 befestigt, der pneumatisch
betätigt wird. Infolge dieser Anordnung ergibt sich im
Inneren der Antriebseinrichtung 5 insgesamt ein homogenes
elektrisches Feld. Eine Meßsonde 101
für die Messung der Potentialverteilung ist an der
Seitenplatte 55′ befestigt, während eine andere Meßsonde
102 am Rißdetektorkopf 40 angebracht ist. Diese Meßsonden
101, 102 werden mit Hilfe von Druckluftzylindern auf
die zu messende Probe gedrückt. Demzufolge kann die
Potentialverteilung gemessen werden, indem lediglich eine
(102) der Meßsonden abtastet. Tastet in diesem Fall die
Meßsonde 102 in Richtung der Y-Achse 52 ab, so nimmt
die Potentialdifferenz zwischen der Meßsonde 102 und
der stationären Meßsonde 101 proportional dem Abstand
in Richtung der Y-Achse zu. Dort, wo der Riß auftritt,
wird die Potentialdifferenz größer als die, die aus der
proportionalen Beziehung zum Abstand vor dem Riß resultiert,
und an der Rückseite des Risses kleiner als die
der proportionalen Beziehung. In diesem Fall wird die
Rißtiefe aus der Potentialdifferenz zwischen dem
vorderen und hinteren Abschnitt des Risses bestimmt.
Die Fig. 20 zeigt schematisch die Potentialverteilung in der
Nähe des Risses, die mit Hilfe dieser Vorrichtung
bestimmt wurde. Die Potentialverteilung ist zur leichteren
Darstellung jedoch in Form der Abweichung von der
proportionalen Beziehung des Abstandes aufgetragen, d. h.
der Abweichung vom Bezugspotential. Da die Potentialverteilungsstörung
um den Riß herum auftritt, nimmt die
Meßsonde 102 zuerst eine Abtastung der X- und Y-Achse
in groben Intervallen vor, um die Stelle des
Risses zu erfassen. Anschließend wird die Potentialverteilung
in der Nähe des Risses, insbesondere an der Vorder-
und Rückseite des Risses, gemessen, um die Rißform
exakt bestimmen zu können. Wird anstelle der einzelnen
Meßsonde 102 eine Vielzahl von Meßsonden 4 in gleichem
Abstand an dem Rißprüfkopf 40 angebracht, um die Potentiale
gleichzeitig an verschiedenen Stellen messen zu
können, so kann die Meßzeit entsprechend verkürzt werden.
Es ist ebenso möglich, einen Aufbau zu verwenden, bei
dem nicht die an der Seitenwand 55′ befestigte Meßsonde 101
verwendet wird, sondern zwei Reihen von Meßsonden 4
mit gleichem Abstand am Rißdetektorkopf 40 befestigt
sind, die eine Abtastung in Richtung der X-Achse und der
Y-Achse vornehmen, um die Potentialverteilung
zu bestimmen.
Entsprechend den oben beschriebenen Ausführungsbeispielen
tastet der Rißdetektorkopf, der eine Vielzahl von Stromzuführungs-
Sondenpaaren zur Zufuhr des Gleichstromes
und eine Vielzahl von Meßsonden zum Messen der Potentialdifferenz
aufweist, die Oberfläche des den Riß aufweisenden
Bauelements ab. Aus der Änderung der Potentialdifferenz
kann die Auftrittsstelle des Risses bestimmt
werden. Danach wird der Gleichstrom dem Riß im rechten
Winkel zur Rißrichtung zugeführt und die Potentialverteilung
längs oder quer zum Riß in der Nähe des Risses
gemessen. Die Rißform kann durch Verwendung der Bezugskurve,
die vorher aus dieser Potentialdifferenz ausgearbeitet
wurde, exakt bestimmt werden. Demzufolge kann
das Entwicklungsstadium des Risses genau erfaßt werden.
Fig. 21 zeigt noch ein anderes Ausführungsbeispiel einer
Rißform-Erfassungsvorrichtung. Hierbei sind an den
Seitenplatten 55, 55′ Saugscheiben 56 befestigt, die durch
Druckluft aus einem Kompressor 59 pneumatisch betätigt
werden und der Fixierung der Antriebseinrichtung 5 auf
der Oberfläche des zu prüfenden Bauelements dienen. Demzufolge
kann nicht nur ein Riß an der Wand, sondern auch
an einer Decke erfaßt werden. Die Koordinatenantriebsmotoren
53, 53′ stehen mit einem Steuergerät 60 in
Verbindung, das wiederum von einem Computer 200 gesteuert
wird.
Den am Rißdetektorkopf 40 befestigten Stromzuführungssonden
2 wird ein Gleichstrom von einer Vielzahl von
Gleichstromquellen 61 über eine Schalteinrichtung 62
zugeführt, um das elektrische Feld am Bauelement zu
erzeugen. Die Potentialdifferenzen, die zwischen einer großen
Anzahl an Meßsonden auftreten, werden über eine
Abtasteinrichtung 63 in ein Mikrovoltmeter 64 eingegeben
und gemessen. Die gemessenen Potentialdifferenzen werden
anschließend über ein Interface 65 in den Computer 200
eingegeben. Der jeweilige Eingangsdatenwert wird mit der
Positions- bzw. Stellungsinformation von einem Antriebseinrichtungs-
Steuergerät 60 zusammengestellt und als Potentialverteilung
in einem mit dem Computer 200 verbundenen
Speicher 203 abgespeichert. Die Rißstelle wird vom
Computer 200 aus der gespeicherten Potentialverteilung
bestimmt. Die detaillierte Potentialverteilung in der
Nähe des Risses wird gemessen und mit der Potentialverteilung
durch Analyse des elektrischen Feldes verhältnismäßig
berechnet, um die Rißform zu bestimmen.
Fig. 22 zeigt ein Flußdiagramm zur Bestimmung der Rißform.
Zu allererst
wird die Potentialverteilung überprüft, indem
der Rißdetektorkopf 40 mit Hilfe der in Fig. 21 gezeigten
Antriebseinrichtung 5 den gesamten Bereich im Inneren
der Antriebseinrichtung 5 grob abtastet. Da die Auftrittsrichtung
des Risses meistens von dem Material des Bauelements
abhängt, wird demzufolge der Rißdetektorkopf 40
mit Hilfe von Schrittmotoren 53, 53′ so eingestellt, daß
der Gleichstrom in einer Richtung fließt, die
die Rißoberfläche senkrecht kreuzt. Falls ein Riß vorliegt, ergibt
sich z. B. die in Fig. 2 gezeigte Potentialverteilung,
so daß der Riß leicht erfaßt werden kann. Der Riß kann
selbst an einer Stelle im ausreichendem Maße erfaßt werden,
die vom Riß einen Abstand von 10 mm aufweist, jedoch
besteht dabei die Möglichkeit, daß ein
flacher Riß nicht erfaßt wird. Es ist deshalb sicherer,
die Messungen an Stellen vorzunehmen, die vom Riß einen
Abstand von 5 mm aufweisen, so daß ein Meßabstand von
10 mm genügt. Die ungefähre Rißstelle, d. h. der vorliegende
Rißbereich, wird durch Messung der Potentialverteilung
mit solch einem großen Meßabstand bestimmt.
Da, wie aus Fig. 1 ersichtlich, die Potentialverteilungen
an der Vorder- und Rückseite des Risses eine Inversion
bewirken, kann die Existenz des Risses durch diese
Inversionsstelle bestimmt werden. Wird alternativ die Potentialverteilung
quer zum Riß gemessen, so
wird eine höhere Potentialdifferenz als die Bezugspotentialdifferenz
bei fehlendem Riß beobachtet.
Aus einer solchen Stelle mit höherer Potentialdifferenz
kann auf die Existenz eines Risses geschlossen werden.
Um die Rißform exakt messen zu können, muß der Abstand
der Meßposition vom Riß verringert werden. Deshalb wird
die Potentialverteilung z. B. mit einem Meßabstand von
1 mm von der Meßstelle gemessen, an der die Inversion
beobachtet wird, um die Rißfläche exakt bestimmen zu
können. Um die Meßgenauigkeit weiter zu erhöhen, werden
die Stellen, an denen die inversen Potentialverteilungen
sich entsprechen, mit Hilfe eines feinen Abtastvorgangs
des Rißdetektorkopfes 40 aufgefunden. Im Falle der
Potentialdifferenzmessung liegt der Riß an einer Stelle,
an der die Potentialdifferenz das Maximum erreicht.
Anschließend wird die Potentialdifferenz parallel zur Rißoberfläche
detailliert an Stellen gemessen, die um 1 mm oder
2 mm von der Vorder- und Rückseite des Risses abgesetzt
sind, oder die Potentialdifferenzverteilung wird quer
zum Riß detailliert gemessen. Hierbei wird für die
Potentialverteilung die Bezugspotentialdifferenz an
jenen Stellen bestimmt, an denen kein Riß vorliegt, und
zum Zwecke der Auswertung standardisiert.
Die Rißlänge 2 c auf der Oberfläche des Bauelements wird
aus der detaillierten Potentialverteilung in
der Nähe des Risses bestimmt, und die wirkliche Rißform,
d. h. ein Streckungsverhältnis a/c des Risses, wird aus
einem maximalen Potentialdifferenzverhältnis V/Vo durch
vergleichende Berechnung mittels verschiedener Bezugskurven
bestimmt. Die Bezugskurven sind in dem in Fig. 21
gezeigten Potentialdifferenz-Verteilungsspeicher 202
abgespeichert. Als nächstes werden Knotenpunktdaten,
die ein Streckungsverhältnis aufweisen, das nahe an
dem aufgrund des Ergebnisses der oben beschriebenen
Berechnung abgeschätzten Streckungsverhältnisses liegt,
aus den Knotenpunktdaten verschiedener Streckungsverhältnisse
ausgewählt, die in einem vermaschten
Speicher 201 abgespeichert sind, und mit der Rißtiefe
zusammengestellt, die aus den Bezugskurven abgeschätzt
wurde, um dadurch die Knotenpunkte an den Enden des
Risses zu bewegen und zu korrigieren und um die Potentialverteilung
zu analysieren. Die Potentialverteilung
in der Nähe des Risses wird dann aus der so
analysierten Potentialverteilung bestimmt und mit dem
Ergebnis der Berechnung verglichen. Eine Korrektur der
Rißform für nicht übereinstimmende Abschnitte, d. h.
eine Korrektur der Knotenpunke an den Enden des
Risses infolge einer Nichtübereinstimmung, wird wiederholt ausgeführt
und die Rißform, die für die Analyse verwendet wird,
falls diese mit dem Ergebnis der Messung übereinstimmt,
wird schließlich als die endgültige Rißform betrachtet.
Nachfolgend wird die in der Fig. 22 dargestellte Beurteilung
der Rißform in weiteren Einzelheiten beschrieben. Ein
auf einer Oberfläche eines Bauelements auftretender Riß
hat im allgemeinen eine Form, die einer halbelliptischen
oder halbkreisförmigen Form angenähert ist. Was die
Knotenpunkte, die für die Potentialverteilung auf dem
Bauelement nötig sind, angeht, so werden beispielsweise,
wie aus Fig. 23 ersichtlich, halbkreisförmige Daten
bereitgestellt und die Knotenpunkte entsprechend der
gemessenen Potentialdifferenzverteilung bewegt, um
Knotenpunktdaten mit einem willkürlichen Streckungsverhältnis
zu erzeugen. Da dies jedoch in der Praxis mühsam und
zeitaufwendig ist, wird beispielsweise im voraus ein
Element-Einteilungsdiagramm mit einem Streckungsverhältnis
a/c von 0,5 bereitgestellt und in dem Speicher 201
abgespeichert. Anschließend werden die Knotenpunktdaten,
die ein Streckungsverhältnis aufweisen, das im
wesentlichen dem Streckungsverhältnis entspricht, das aus
dem Ergebnis der Messung der Potentialverteilung abgeschätzt
wurde, herausgezogen und anschießend genau
korrigiert. Ein solches Verfahren ist rationell. Die
Streckungsverhältnisse a/c der in den Speicher 201 abzuspeichernden
Knotenpunktdaten betragen 1,0; 0,75; 0,5;
0,2 und 0,1, und was die Rißtiefe anbelangt, so wird die
Dicke des Bauelements jeweils nach 5% unterteilt, und
zwar in einem Bereich von 5% bis 100% der Dicke.
Nachfolgend wird ein bestimmtes Verfahren erläutert. Die
Fig. 25 zeigt eine Potentialverteilung für den
Fall, daß der Abstand zwischen den Meßsonden, die den
Oberflächenriß zwischen sich aufnehmen, auf einen Wert
von 5 mm eingestellt ist. Die Abszisse gibt die Meßstelle x
(mm) in Richtung der Oberfläche an, wobei das Zentrum
des Risses der Koordinaten-Nullpunkt ist, und die
Ordinate des Potentialdifferenzverhältnis V/V o . Hierbei
entspricht das Symbol Vo der Potentialdifferenz an der
Stelle, an der kein Riß vorliegt. Wie aus Fig. 25 ersichtlich,
ist Vo an jenen Stellen, an denen kein Riß
vorliegt, im wesentlichen konstant. An der Stelle, an
der der Riß vorliegt, nimmt andererseits die Potentialdifferenz
in gleicher Weise wie in Fig. 2 einen großen
Wert an. In der Potentialdifferenzverteilung erscheint
am Ende des Oberflächenrisses in gleicher Weise wie in
Fig. 2 ein besonderer Punkt, wodurch die Rißlänge 2 c auf
der Oberfläche einfach bestimmt werden kann.
Als nächstes wird das Streckungsverhältnis a/c des Risses
abgeschätzt. Die Stelle, an der das Potentialdifferenzverhältnis
das Maximum erreicht, entspricht dem tiefsten
Punkt des Risses. Hierbei wird das Potentialdifferenzverhältnis
des tiefsten Punktes als V/Vo max. angenommen.
Der in Fig. 21 gezeigte Speicher 202 zur Speicherung der
Potentialdifferenzverteilung speichert die Tiefe des
Risses bei verschiedenen in Fig. 26 gezeigten Streckungsverhältnissen,
d. h. die Relation zwischen dem Potentialdifferenzverhältnis
V/Vo am tiefsten Punkt und der Rißtiefe
a. Hierbei wird im allgemeinen ein Riß verwendet,
der durch die Dicke t des zu messenden Bauteils genormt
ist. Für Vereinfachungszwecke ist es möglich, die Relation
zwischen dem Potentialdifferenzverhältnis V/Vo und
der Rißtiefe a durch eine Gleichung n-ter Ordnung
anzunähern, wie z. B. durch die folgende Gleichung:
V/Vo = 1 + Aa + Ba² + Ca³ + Da⁴ + Ea⁵
Danach wird in Verbindung mit dem Verhältnis V/Vo max.,
das am tiefsten Punkt des Risses erhalten wird, die Rißtiefe
durch Verwendung der Relation zwischen dem
Potentialdifferenzverhältnis V/Vo, das in dem in Fig. 26
gezeigten Speicher 201 abgespeichert ist, und der Rißtiefe
a bestimmt. In diesem Fall ergibt sich für die Streckungsverhältnisse
a/c von 0,1; 0,2; 0,5; 0,7 und 1,0 eine
Rißtiefe von a₁, a₂, a₃, a₄ bzw. a₅. Anschließend wird das
Streckungsverhältnis unter Verwendung der so erhaltenen
Tiefen a₁, a₂, a₃, a₄ und a₅ bestimmt, wodurch a₁/c,
a₂/c, a₃/c, a₄/c bzw. a₅/c bereitgestellt wird. Anschließend
wird das Verhältnis dieser Streckungsverhältnisse
a₁/c bis a₅/c zum Streckungsverhältnis a/c der verwendeten
Bezugskurve bestimmt und das Streckungsverhältnis
der Bezugskurve, das nahe bei 1 liegt, wird als
Streckungsverhältnis des Risses angenommen, da ein solches
Streckungsverhältnis dem tatsächlichen Streckungsverhältnis
des Risses angenähert ist. Es wird somit angenommen,
daß das Streckungsverhältnis a/c den Wert 0,5
aufweist.
Als nächstes wird die Potentialverteilung berechnet. Zu
allererst werden die Knotenpunktdaten des zuerst
angenommenen Streckungsverhältnisses a/c = 0,5 aus dem
vermaschten Speicher 201 ausgelesen und in den Computer 200
eingegeben. Der Knotenpunkt der der Rißlänge 2 c = 17 mm
auf der Oberfläche am nächsten kommt, wird ausgewählt,
wie aus Fig. 27 ersichtlich. Die Knoten werden in
Richtung der Dicke bei jeweils 5% gesetzt und die Dicke des
zu prüfenden Bauelements wird zu 20 mm angenommen. Demzufolge
sind die Knoten, die der Rißlänge 2 c = 17 mm auf
der Oberfläche am nächsten kommen, jene, die sich an
Stellen befinden, die vom Zentrum des Risses um ±10 mm
abgesetzt sind, und 5 mm tief sind. Die Knoten, die die
Rißenden von 2 c = 20 mm verbinden, was durch eine voll
durchgezogene Linie dargestellt ist, werden sowohl in
Richtung der Oberfläche (X-Richtung) als auch in Richtung
der Tiefe (Y-Richtung) bewegt, wie dies anhand der Strichlinie
verdeutlicht wird, so daß die voll durchgezogene
Linie mit der Strichlinie übereinstimmt.
Anschließend werden die in Fig. 27 korrigierten Knoten
derart bewegt, daß diese mit der Rißtiefe a₃ des tiefsten
Punktes übereinstimmen, die anhand der in Fig. 26
gezeigten Bezugskurve mit dem Streckungsverhältnis a/c
= 0,5 erhalten wird. Hierbei wird die Bewegung der Knoten
so ausgeführt, daß die Form des Risses halbelliptisch
wird. Danach wird das elektrische Feld vom
Computer 200 anhand der Knotenpunktdaten analysiert, die
entsprechend der Strichlinie in Fig. 28 korrigiert wurde.
In Fig. 29 wird die Beziehung zwischen der Potentialdifferenzverteilung
in der Nähe des Risses, die der tatsächlichen
Meßposition entspricht, und der Potentialverteilung,
die in der oben beschriebenen Art und Weise analysiert
wurde, aufgezeigt. Besteht zu den gemessenen Werten,
die durch eine voll durchgezogene Linie wiedergegeben
sind, irgendein Unterschied, so werden die Knotenkoordinaten
der Rißenden in Richtung der Dicke bewegt, und zwar
proportional dem Verhältnis des gemessenen Potentialdifferenzverhältnisses
zum analysierten Potentialdifferenzverhältnis.
Dies ist in Fig. 30 gezeigt. In diesem
Diagramm verdeutlicht die bezüglich der Oberfläche zweite
voll durchgezogene Linie das Rißende bzw. den Rißrand,
falls eine Analyse ausgeführt wurde, und die Strichlinie
das Ende, das proportional dem Verhältnis des gemessenen
Werts zum analysierten Wert korrigiert wurde.
Als nächstes wird das elektrische Feld durch den Computer
200 analyisert, in dem die in Fig. 30 anhand der
Strichlinie dargestellten Knotenelementdaten wieder
verwendet und mit den tatsächlich gemessenen Werten verglichen
werden. Eine Korrekturbewegung der Knoten am
Rißrand wird solange durchgeführt, bis diese miteinander
übereinstimmen. Stimmen diese schließlich überein, so
wird die zur Analyse verwendete Rißform als tatsächliche
Rißform angesehen. Mit Hilfe dieses Verfahrens kann die
Rißform mit einer Genauigkeit von ±0,1 mm bestimmt werden.
Die Potentialverteilung muß für diese Zwecke in der
Nähe des Risses genau festgestellt werden, jedoch reicht
es im allgemeinen aus, die Messung mehrmals auszuführen
und den Mittelwert mit Hilfe eines Mikrovoltmeters mit
einer Auflösung von etwa 1 µV zu bilden. In den Fig. 27
bis 30 werden die in dem vermaschten Speicher 201
abgespeicherten Knotenpunkte für die Korrektur bewegt,
jedoch kann das elektrische Feld analysiert werden,
indem neue, durch die Strichlinie in Fig. 27 dargestellte,
Knotenpunkte addiert werden.
Die Fig. 31 und die folgenden zeigen noch ein weiteres
Ausführungsbeispiel der Erfindung. Fig. 31 zeigt den
Fall, bei dem die Elemente rechteckig bzw. rechtwinklig
sind. Geht man davon aus, daß man die in Fig. 25 gezeigte
Potentialdifferenzverteilung von dem Bauelement erhält,
so werden die vom vermaschten Speicher 201 abgerufenen
Knoten bewegt, wie dies in Fig. 32 gezeigt ist. Mit
anderen Worten, der Knoten, der der Rißlänge 2 c = 17 mm am
nächsten liegt, wird in der gleichen Weise wie in den
Fig. 26 und 27 ausgewählt. In der Fig. 32 beträgt
der Knotenabstand in X-Richtung 2,5 mm. Somit liegen die
Knoten, die vom Rißzentrum 7,5 mm entfernt liegen, dem
Riß am nächsten. Demzufolge werden die Koordinaten dieses
Knoten in X-Richtung zusammen mit dem Knoten in
Richtung der Tiefe bewegt, bis die Gleichung c = 8,5 mm
erfüllt ist.
Werden anschließend die Verhältnisse bei den Rißtiefen
a₁ bis a₅ (vergleiche Fig. 26), die durch Verwendung der
Bezugskurven der Relation zwischen den Potentialdifferenzverhältnissen
V/Vo für verschiedene Streckungsverhältnisse
und der Rißtiefe a erhalten werden, auf die Rißlänge
c = 8,5 mm bezogen, so wird die Rißtiefe - die durch
Verwendung der Bezugskurve erzielt wird, die dem Streckungsverhältnis
a/c der verwendeten Bezugskurve am engsten
angenähert ist - auf einen Wert von beispielsweise a₃
festgelegt. Der Knoten mit x = 0 mm (auf der Y-Achse),
der dem Wert a₃ am nächsten liegt, wird als tiefster
Punkt des Risses angenommen. Dieser Knoten wird derart
bewegt, daß dieser in Übereinstimmung mit der Rißtiefe
a₃ steht. Die Rißform ist beispielsweise in einem Bereich
vom Rand der Rißfläche auf der Oberfläche bis zum tiefsten
Punkt halbelliptisch.
Obwohl die Knotenpunktelemente in den Fig. 27, 28, 30, 32
und 33 zweidimensional dargestellt sind, so stellen die
Knotenpunktelemente jedoch dreidimensionale Elemente dar, die
in der Praxis auch in einer Richtung senkrecht zur
Rißoberfläche existieren. Da die Rißform eine Kurve
darstellt, umfaßt die Anzahl von Knoten, die das Element
bildet, Zwischenknoten wie z. B. 21 Knotenpunktelemente, so
daß eine Kurve erhalten wird, die an die Rißform angenähert
ist. Werden jedoch die in Fig. 32 gezeigten rechteckigen
Elemente verwendet, müssen die Knoten und die
Zwischenknoten übereinstimmen, und zwar im Gegensatz zu den
oben beschriebenen elliptischen Elementen.
Die Potentialverteilung in der Nähe des Risses und schließlich
die Potentialdifferenzverteilung können erhalten
werden, indem das elektrische Feld vom Computer 200 unter
Verwendung der in Fig. 32 gezeigten Knotenpunktdaten
analysiert wird und man davon ausgeht, daß das Potential
auf der Rißfläche Null ist. Kommt dabei ein Ergebnis heraus,
wie in Fig. 29 gezeigt, so werden die Knotenkoordinaten
des Rißendes bzw. des Randes, die in Fig. 33
durch eine volle durchgezogene Linie wiedergegeben sind,
in Richtung der Tiefe zu einer durch eine Strichlinie
dargestellten Form bewegt, und zwar entsprechend dem
Verhältnis zwischen dem Potentialdifferenzverhältnis, das
auf dem zu prüfenden Bauelement in der gleichen Weise
wie in Fig. 30 gemessen wurde, und dem analysierten
Potentialdifferenzverhältnis. Das elektrische Feld wird
für die Elemente dieser neuen Rißform analysiert und
wieder mit den tatsächlichen Meßwerten verglichen. Eine
feine Korrektur der Knoten des Rißrandes wird wiederholt,
bis der Analysewert mit dem Meßwert übereinstimmt, und
die Rißform, die zum Zeitpunkt der Übereinstimmung für
die Analyse verwendet wird, wird als tatsächliche Rißform
angesehen. Dieses Verfahren bestimmt die Rißform
mit im wesentlichen der gleichen Genauigkeit wie das
Verfahren, bei dem Knotenpunktdaten für die Rißform
verwendet werden, die, wie bereits beschrieben, verschiedene
Streckungsverhältnisse aufweisen, und hat gegenüber den
letztgenannten Verfahren den Vorteil, daß nur ein Satz
von Knotenpunktdaten in dem vermaschten Speicher 201
abgespeichert werden muß, daß die Daten auf einfache
Weise bereitgestellt werden können, da die Knoten regelmäßig
angeordnet sind, und daß die Daten effektiv mit
Hilfe des natürlichen Inkrements aufbereitet werden.
Fig. 34 zeigt noch ein weiteres Ausführungsbeispiel. Es
ist mühsam und zeitaufwendig, elliptische Knotenpunktdaten
oder rechtwinklige Knotenpunktdaten im voraus
bereitszustellen und die Knotenpunktdaten so zu ändern, daß
diese mit der Rißform übereinstimmen. Das folgende Verfahren
stellt ein einfaches Verfahren dar, das die Rißform
im wesentlichen ohne Änderung der Knotenpunktdaten
bestimmt. Zuallererst wird der Bereich um den Riß des
Bauelements speziell in feine Elemente unterteilt, wie dies
aus Fig. 34 ersichtlich ist. In der Zeichnung wird ein
Element verwendet, bei dem jede Seite 1 mm lang ist.
Wird z. B. das in Fig. 25 gezeigte Meßergebnis erhalten,
so beträgt die Rißlänge auf der Oberfläche 2 c = 17 mm.
Als nächstes wird davon ausgegangen, daß der Riß symmetrisch
und c = 8 mm ist. Falls der Wert a₃ mit Hilfe des
in Fig. 26 gezeigten Verfahrens erhalten wird, wird das
elektrische Feld berechnet, indem man jene Elemente als
Rißfläche betrachtet, die sich im inneren der einen halbelliptischen
Riß darstellenden Halbellipse befinden,
wobei deren kleine Achse a₃ ist und der Tiefe des tiefsten
Punktes entspricht und dessen große Achse c ist und der
Rißoberflächenlänge entspricht. Mit anderen Worten, die
Potentialverteilung wird berechnet, indem, wie aus Fig. 29
ersichtlich, die Elemente mit einer links verlaufenden
Schraffierung als Rißfläche betrachtet werden, d. h.,
indem man das Potential als Null betrachtet. Liegt, wie
z. B. aus Fig. 29 ersichtlich, irgendeine Differenz vor,
so werden ferner die schwarzen Elemente zur Rißfläche
hinzugefügt, um das elektrische Feld zu analysieren.
Anschließend wird die Potentialdifferenzverteilung mit den
Meßwerten verglichen und die Elemente, die gut übereinstimmen,
werden als Rißform angesehen. Die endgültige,
in den Fig. 30 und 33 gezeigte Rißform ist durch
eine Strichlinie in Fig. 34 dargestellt.
Claims (10)
1. Verfahren zum Erfassen der Form eines Risses, bei dem
mittels Stromzuführungs-Sondenpaaren ein Gleichstrom an die
Oberfläche eines Bauelementes angelegt, die Potentialverteilung
an der Oberfläche abgetastet und aus der Potentialverteilung
mittels der finite-Element-Methode durch
Vergleich mit vorher ermittelten Bezugs-Potentialverteilungen
die Form des Risses bestimmt wird, dadurch
gekennzeichnet, daß die Elemente für die
finite-Element-Methode Halbellipsen mit verschiedenen
Streckungsverhältnissen sind und für verschiedene Rißtiefen
berechnete Potentialverteilungen als Bezugs-Potentialverteilungen
in einem Speicher abgespeichert sind; daß zur
Bestimmung des tatsächlichen Streckungsverhältnisses die
gemessene Potentialverteilung mit den Bezugs-Potentialverteilungen
verglichen und daraus eine erste theoretische
Rißform abgeleitet wird; und daß durch Ändern der Form des
Elements Korrekturen an der ersten theoretischen Rißform
angebracht werden, wobei die entstehende theoretische
Potentialverteilung rechnerisch bestimmt und mit der
gemessenen Potentialverteilung verglichen wird, und daß
dieser Vorgang wiederholt wird, bis die theoretische und die
gemessene Potentialverteilung übereinstimmen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die im Speicher abgespeicherten Streckungsverhältnisse die
Werte 1,0; 0,75; 0,5; 0,2 und 0,1 aufweisen und daß die
abgespeicherten Rißtiefen 5% bis 100% der Dicke des Bauelementes
in Schritten 5% von betragen.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch
1, mit einer Anzahl von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2),
die mit Gleichstrom-Konstantstromquellen (3) in Verbindung
stehen und an ein zu prüfendes Bauelemente (1) einen konstanten
Gleichstrom anlegen,
mit einer Anzahl von Potentialmeßsonden (4), die zwischen den Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) angeordnet sind und die Potentialverteilung auf der Oberfläche des Bauelementes (1) messen,
gekennzeichnet durch
einen Rißdetektorkopf (40), an dem wenigstens eines der Stromzuführungs-Sondenpaare (2) und eine der Potentialmeßsonden (4) angeordnet sind,
durch ein Halteelement (51, 52, 55, 55′), das den Rißdetektorkopf (40) an einer bestimmten Stelle hält,
durch eine Antriebseinrichtung (5) für den Rißdetektorkopf (40) zum Abtasten der Oberfläche des Bauelementes (1) entlang von X- und Y-Achsen und zum Drehen des Rißdetektorkopfes (40) um die Z-Achse,
durch einen Mikrocomputer (9, 16) zum Vergleichen der Potentialdifferenz zwischen den Potentialmeßsonden (4) mit Bezugskurven von Potentialverteilungen für verschiedene Rißformen, die im voraus bestimmt wurden,
durch eine Positioniereinrichtung (57) zum Positionieren des Rißdetektorkopfes (40), und
durch ein System (58) zur Steuerung der Messung.
mit einer Anzahl von Potentialmeßsonden (4), die zwischen den Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) angeordnet sind und die Potentialverteilung auf der Oberfläche des Bauelementes (1) messen,
gekennzeichnet durch
einen Rißdetektorkopf (40), an dem wenigstens eines der Stromzuführungs-Sondenpaare (2) und eine der Potentialmeßsonden (4) angeordnet sind,
durch ein Halteelement (51, 52, 55, 55′), das den Rißdetektorkopf (40) an einer bestimmten Stelle hält,
durch eine Antriebseinrichtung (5) für den Rißdetektorkopf (40) zum Abtasten der Oberfläche des Bauelementes (1) entlang von X- und Y-Achsen und zum Drehen des Rißdetektorkopfes (40) um die Z-Achse,
durch einen Mikrocomputer (9, 16) zum Vergleichen der Potentialdifferenz zwischen den Potentialmeßsonden (4) mit Bezugskurven von Potentialverteilungen für verschiedene Rißformen, die im voraus bestimmt wurden,
durch eine Positioniereinrichtung (57) zum Positionieren des Rißdetektorkopfes (40), und
durch ein System (58) zur Steuerung der Messung.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
an dem Rißdetektorkopf (40) eine Vielzahl von Potentialmeßsonden
(4) zwischen einem Satz von Stromzuführungs-Sondenpaaren
(2) angebracht ist (Fig. 8).
5. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Sätze von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) parallel
zueinander an dem Rißdetektorkopf (40) angebracht sind und
daß die Potentialmeßsonden (4) reihenweise zwischen den
Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) an Stellen angeordnet sind,
die vordere und hintere Stromzuführungssonden von benachbarten
Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) verbinden (Fig. 9).
6. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Sätze von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) parallel
zueinander auf dem Rißdetektorkopf (40) angebracht sind und
daß die Potentialmeßsonden (4) reihenweise an Stellen angeordnet
sind, die zwischen vorderen und hinteren Stromzuführungssonden
von benachbarten Stromzuführungs-Sondenpaaren
(2) liegen (Fig. 10).
7. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Sätze von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) parallel
zueinander an dem Rißdetektorkopf (40) angebracht sind und
daß eine erste Potentialmeßsonde (4) vorgesehen ist, die
sich parallel zu den Stromzuführungssonden zwischen einer
zwischen den Stromzuführungssonden festgelegten zweiten
Potentialmeßsonde und den Stromzuführungs-Sondenpaaren (2)
bewegen kann (Fig. 11).
8. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Sätze von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) parallel
zueinander an dem Rißdetektorkopf (40) angebracht sind, daß
erste Potentialmeßsonden (4) zwischen den Stromzuführungs-
Sondenpaaren (2) reihenweise angeordnet sind, und daß ein
Paar zweiter Potentialmeßsonden (24) derart angebracht ist,
daß dieses die ersten Potentialmeßsonden (4) zwischen sich
aufnimmt (Fig. 12).
9. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
mehrere Sätze von Stromzuführungs-Sondenpaaren (2) parallel
zueinander an dem Rißdetektorkopf (40) angebracht sind und
daß mehrere Sätze von Potential-Meßsondenpaaren (25)
zwischen den Stromzuführungs-Sondenpaaren angeordnet sind
(Fig. 13).
10. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
an dem Rißdetektorkopf (40) erste Potentialmeßsonden (102)
befestigt sind, daß mehrere Sätze von Stromzuführungs-
Sondenpaaren (100) an den Abstützelementen (55, 55′) zu
beiden Seiten der ersten Potentialmeßsonden (102) angebracht
sind, und daß zweite Potentialmeßsonden (101) reihenweise an
einem der Abstützelemente (55′) befestigt sind, wobei diese
zwischen den ersten Potentialmeßsonden (102) am Rißdetektorkopf
(40) und den an einem (55′) der Abstützelemente befestigten
Stromzuführungssonden angeordnet sind (Fig. 19).
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |