DE3612101C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine fotoelektrische
Wandlereinrichtung gemäß dem Oberbegriff des Patent
anspruchs 1.
Fotoelektrische Wandlereinrichtungen können beispiels
weise als Bildsensor oder dergleichen für Farbbilder
oder einfarbige Bilder eingesetzt werden und in Bild
lesegeräten, digitalen Reproduktionsgeräten oder der
gleichen Verwendung finden.
Bei der aus Fig. 1 der DE 33 22 533 A1 bekannten, dem
Oberbegriff des Patentanspruchs 1 entsprechenden foto
elektrischen Wandlereinheit für einfarbige Bilder
fließen über jeweilige Sensorelemente Fotoströme, die
den auf die jeweiligen Sensorelemente fallenden Licht
mengen entsprechen, während in zugeordneten Kondensatoren
den jeweiligen Fotoströmen entsprechende elektrische
Ladungsmengen als Bildsignale gespeichert werden, welche
mittels einer Abfrageschaltung aufeinanderfolgend ausge
geben werden.
Falls beispielsweise ein Schriftstück im Format A4 (210 mm)
gelesen werden soll, beträgt die Anzahl erforderlicher
fotoempfindlicher Sensorelemente bei einer Leseauf
lösung von mehr als 16 Punkten/mm 3360 oder mehr.
Mit zunehmender Verbreitung von Arbeitsplatzcomputern
und Farbdruckern besteht eine zunehmende Nachfrage nach
einem Bildleser, mit dem Farbbilder gelesen werden können.
Es ist jedoch sehr schwierig, mit dem herkömmlichen
Zeilenbildsensor einen kompakten Farbbildleser zu er
halten.
In erster Linie muß zum Lesen von Farbbildern ein ein
zelnes Bildelement aus fotoempfindlichen Elementen für
drei verschiedene Farben zusammengesetzt werden (wie
beispielsweise für Rot R, Gründ G und Blau B). Daher be
trägt beispielsweise zum farbigen Lesen eines Schrift
stücks im Format A4 die Anzahl erforderlicher Sensor
elemente 3360 × 3 = 10 080. Falls alle diese Elemente
in Zeilen angeordnet werden, betragen die gegenseitigen
Abstände an den Anschlüssen der Abfrageschaltung je
weils 20,8 µm, so daß es unmöglich ist, Drahtverbin
dungen oder Wärmeschmelzverbindungen zu verwenden.
Es ist sehr schwierig, unter Anwendung von Dünnfilm
techniken derartige durchgehend auf demselben langen
Substrat aufgereihte Mikroverbindungen und Mikro
schaltungen mit hoher Gleichmäßigkeit und hoher Ausbeute
herzustellen.
Bei Verwendung einer Matrixverdrahtung kann die Anzahl
der Ausgangssignalleitungen der Sensorelemente verringert
werden. Da jedoch die Anzahl der Sensorelemente das
Dreifache der Anzahl der Sensorelemente für das ein
farbige Lesen beträgt und für jedes Sensorelement ein
Schalttransistor erforderlich ist, ist zur Herstellung
einer solchen Matrixschaltung eine sehr feine Mikrobe
arbeitung notwendig. Ferner ist der Herstellungsprozeß
kompliziert und eine Ausrichtung der Sensorelemente
in hoher Genauigkeit erforderlich, da einerseits drei
Leitermuster ausgebildet werden müssen, nämlich jeweils
eines für die Sensorelemente für eine jeweilige Farbe,
und andererseits eine Schichtung dieser Muster erfolgen
muß. Daher kann bei einer solchen Technik kein mini
aturisierter preiswerter Farbbild-Zeilensensor erzielt
werden.
Dieses Problem tritt nicht nur bei Farbbild-Zeilen
sensoren, sondern auch bei Flächenbildsensoren sowohl
für Farbbilder als auch für einfarbige Bilder auf, die
zum Erreichen einer hohen Auflösung eine Vielzahl foto
empfindlicher Elemente enthalten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine foto
elektrische Wandlereinrichtung gemäß dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 zu schaffen, die kompakt aufgebaut
ist, beständige und gleichmäßige Eigenschaften hat und
mit hoher Ausbeute hergestellt werden kann.
Die Aufgabe wird mit den im kennzeichnenden Teil des
Patentanspruchs 1 aufgeführten Mitteln gelöst.
Die erfindungsgemäße Wandlereinrichtung kann z. B. als
miniaturisierter preiswerter Farbbildsensor dienen.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Wandlereinrichtung
sind in den Unteransprüchen aufgeführt.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Ausführungs
beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher
erläutert. Es zeigt
Fig. 1 ein Äquivalenzschaltbild eines Farb
bild-Zeilensensors, der ein erstes
Ausführungsbeispiel der erfindungs
gemäßen fotoelektrischen Wandlerein
richtung darstellt,
Fig. 2 ein Zeitdiagramm zur Erläu
terung der Betriebsweise dieses
Ausführungsbeispiels,
Fig. 3A eine schematische Drauf
sicht des Aufbaus des Aus
führungsbeispiels,
Fig. 3B eine Ansicht eines Schnitts
längs einer Linie I-I in Fig.
3A,
Fig. 3C eine Ansicht eines Schnitts
längs einer Linie II-II in
Fig. 3A,
Fig. 3D eine vergrößerte Ansicht
von in Fig. 3A mit einem
Kreis III umrahmten Elementen,
Fig. 4 ein schematisches Schalt
bild eines Farbbild-Zeilensen
sors, der ein zweites Ausfüh
rungsbeispiel der erfindungs
gemäßen Wandlereinrichtung
darstellt,
Fig. 5A eine schematische Drauf
sicht auf das zwei
te Ausführungsbeispiel,
Fig. 5B eine Ansicht eines Schnitts
längs einer Linie IV-IV in
Fig. 5A,
Fig. 6 ein Äquivalenzschaltbild
eines dritten Ausführungsbei
spiels der erfindungsgemäßen
Wandlereinrichtung, und
Fig. 7 ein Äquivalenzschaltbild
eines vierten Ausführungsbei
spiels der erfindungsgemäßen
Wandlereinrichtung.
Fig. 1 zeigt ein Äquivalenzschaltbild eines Farbbild-
Zeilensensors, der ein erstes Ausführungsbeispiel der
erfindungsgemäßen fotoelektrischen Wandlereinrichtung
darstellt.
Gemäß Fig. 1 ist jedes von mehreren Elementen D aus einem foto
empfindlichen Elemente S mit einer fotoleitfähigen
Schicht und einen zu dem Element S parallel geschal
teten, nachstehend lediglich als Transistor bezeich
neten Schalttransistor ST zusammengesetzt. Diese Ele
mente D sind für den Aufbau einer Bildelementzelle
jeweils zu dritt in Reihe geschaltet. n dieser Bild
elementzellen sind in einer Zeile aufgereiht und als
Matrix geschaltet. Im einzelnen sind die Gate-Elek
troden von Transistoren STr bzw. STr 1 bis STrn in den
elementen Dr bzw. Dr 1 bis Drn mit einem Anschluß Tr
verbunden; die Gate-Elektroden von Transistoren STg
bzw. STg 1 bis STgn in den Elementen Dg bzw. Dg 1 bis
Dgn sind mit einem Anschluß Tg verbunden; die Gate-Elektroden
von Transistoren STb bzw. STb 1 bis STbn in den Ele
menten Db bzw. Db 1 bis Dbn sind mit einem Anschluß
Tb verbunden. Die jeweiligen Bildelementzellen sind
mit einem Anschluß gemeinsam an eine Spannungsquelle
Vs angeschlossen, während die anderen Anschlüsse der
Bildelementzellen jeweils über einzelne Elektroden
A 1 bis An an eine Abfrageschaltung 4 angeschlossen
sind. Diese Abfrageschaltung kann eine herkömmliche
Schaltung sein und enthält in diesem Fall Schalttran
sistoren Q 1 bis Qn und ein Schieberegister 11, dessen
Parallelausgangsanschlüsse H 1 bis Hn jeweils mit den
Schalttransistoren Q 1 bis Qn verbunden sind. Die Tran
sistoren Q 1 bis Qn sind jeweils mit einer Hauptelek
trode an die entsprechende einzelne Elektrode A 1 bis
An angeschlossen, während die anderen Hauptelektroden
gemeinsam mit einem Ausgangsanschluß verbunden sind.
Mit den drei Gruppen der fotoempfindlichen Elemente
Sr, Sg und Sb werden jeweils die roten, die grünen
bzw. die blauen Farbkomponenten in einer zu lesenden
Zeile eines Schritstücks erfaßt.
Die Funktionsweise des Ausführungsbeispiels mit dem
vorstehend beschriebenen Aufbau wird anhand von Fig. 2
beschrieben.
Die Fig. 2 ist ein Zeitdiagramm zur Erläuterung der
Betriebsweise dieses ersten Ausführungsbeispiels.
Zuerst wird an den Anschluß Tr eine Spannung, die nie
driger als die Schwellenspannung der Transistoren STr
ist, d. h. niedrigen Pegel besitzt, angelegt, während an die
Anschlüsse Tg und Tb jeweils Spannungen, die
die Schwellenspannungen der Transi
storen STg bzw. STb ausreichend übersteigen, d. h. hohe Pegel besitzen,
angelegt werden. Dadurch werden die Transistoren STr
gesperrt, während die Transistoren STg und STb durch
geschaltet werden. Vorzugsweise besitzen alle Transi
storen ST die gleichen Kennwerte, wobei die Sperrwider
stände der Transistoren mindestens so hoch wie die
Dunkelwiderstände der parallel geschalteten foto
empfindlichen Elemente S sind und die Einschaltwider
stände der Transistoren um zwei oder drei Größenord
nungen niedriger liegen als die Widerstände der beleuchteten
fotoempfindlichen Elemente S, nämlich die Hellwider
stände.
Unter diesen Bedingungen werden an den Ausgangsan
schlüssen H 1 bis Hn des Schieberegisters 11 aufein
anderfolgend Signale abgegeben, durch die aufeinan
derfolgend die Schalttransistoren Q 1 bis Qn durchge
schaltet werden. Wenn zuerst der Schalttransistor Q 1
durchgeschaltet ist, gelangt ein über das fotoempfind
liche Element Sr 1 fließender Fotostrom R für ein Farb
bildelement, der einem Rotkomponentensignal entspricht,
über die Transistoren STg 1 und STb 1 zu der
Elektrode A 1 und wird dann über den Schalttransistor
Q 1 abgegeben, da der Transistor STr 1 gesperrt ist und
die Transistoren STg 1 und STb 1 durchgeschaltet sind.
Auf gleichartige Weise werden aufeinanderfolgend die
jeweils über die fotoempfindlichen Elemente Sr 2 bis
Srn fließenden Fotoströme als Rotkomponentensignale
abgegeben.
Danach wird zum Sperren der Transistoren STg an den
Anschluß Tg niedriger Pegel angelegt, während zum
Durchschalten der Transistoren STr und STb an die An
schlüsse Tr und Tb hoher Pegel angelegt wird. Bei die
sem Zustand wird die Abfrageschaltung 4 wieder in der voran
gehend beschriebenen Weise betrieben, so daß nunmehr
aufeinanderfolgend die über die fotoempfindlichen Ele
mente Sg fließenden jeweiligen Fotoströme als Grün
komponentensignale G ausgegeben werden.
Darauffolgend wird an den Anschluß Tb niedriger Pegel
angelegt, während an die Anschlüsse Tr und Tg hoher
Pegel angelegt wird. Danach werden in der vorangehend
beschriebenen Weise die jeweils über die fotoempfind
lichen Elemente Sb fließenden Fotoströme aufeinander
folgend als Blaukomponentensignale B abgegeben.
Auf diese Weise werden die jeweiligen roten, grünen
und blauen Farbkomponenten in der zu lesenden Zeile
des Schriftstücks in die entsprechenden elektrischen
Signale umgesetzt.
Fig. 3A ist eine schematische Draufsicht auf den
Aufbau des ersten Ausführungsbeispiels.
Fig. 3B ist eine Ansicht eines Schnitts längs einer
Linie I-I in Fig. 3A; Fig. 3C ist eine Ansicht
eines Schnitts längs einer Linie II-II in Fig. 3A;
Fig. 3D ist eine vergrößerte Ansicht eines ein
zelnen Elements in einem Kreis III in Fig. 3A.
Gemäß der Darstellung in den Fig. 6 sind auf einem
Substrat 21 jeweils Gate-Elektroden 22 r, 22 g und 22 b
der Transistoren STr, STg bzw. STb ausgebildet. Über
diesen Gate-Elektroden ist eine Isolierschicht 23 vor
handen, auf der eine Halbleiterschicht 24 aus einem
Halbleitermaterial wie hydriertes amorphes Silizium
a-Si:H gebildet ist. Auf der Halbleiterschicht 24 sind
jeweils durch Ohmsche Kontaktschichten bzw. Leiter
schichten eine an die Spannungsquelle Vs anzuschlie
ßende gemeinsame Elektrode 25, Zwischenelektroden 26
und 26′, durch die drei Elemente D in Reihe geschaltet
werden, und die einzelnen Elektroden A 1 bis An ausge
bildet, die von den entsprechenden Bildelementzellen
wegführen. Im einzelnen werden die fotoempfindlichen
Elemente Sr, Sg und Sb gleichzeitig auf der gleichen
Fläche unter Verwendung der Halbleiterschicht 24 als
fotoleitfähige Schicht gebildet, wobei Teile der je
weils zwischen der gemeinsamen Elektrode 25, den Elek
troden 26 und 26′ und den gemeinsamen Elektroden A 1
bis An entstehenden Abstände als fotoempfindliche Ab
schnitte benutzt werden. Ferner werden die von den je
weiligen fotoempfindlichen bzw. Fotosensorelementen
parallel geschalteten Transistoren STr, Stg und Stb
durch die Verwendung der Halbleiterschicht 24 als
Halbleiterbereich zum Bilden eines Kanals und auch
durch die Verwendung der vorstehend genannten Elek
troden gebildet.
Zum Schutz der auf diese Weise gebildeten Elemente
D wird über diesen eine lichtdurchlässige Isolier
schicht 27 angebracht. Ferner werden an den jeweili
gen fotoempfindlichen Abschnitten Rotfilter 28 r, Grün
filter 28 g bzw. Blaufilter 28 b angebracht. Weiterhin wird mit Ausnahme
derjenigen Stellen, an denen diese Farbfilter vorhanden sind,
auf der Isolierschicht 27 eine Lichtabschirmmaske
29 ausgebildet.
Gemäß Fig. 3D umfaßt beispielsweise der Transistor STr 1
die Elektroden 25 und 26 als Hauptelektroden, die durch
das Anlegen der Spannung an die Gate-Elektrode dieses
Transistors ein- oder ausgeschaltet werden. In dem
fotoempfindlichen Element Sr 1 ändert sich der Wider
stand zwischen den Elektroden 25 und 26 entsprechend
der Lichtmenge, die über das Rotfilter 28 r auf die
den fotoempfindlichen Abschnitt bildende Halbleiter
schicht 24 fällt. Das heißt, das fotoempfindliche Ele
ment Sr 1 und der Transistor STr 1 sind auf äquivalente
Weise bzw. gleichsinnig parallel geschaltet. Darüber
hinaus wird gemäß der vorstehenden Beschreibung ein
verbesserter Widerstandsausgleich der fotoempfindli
chen Elemente S und der entsprechenden Transistoren
ST und ein erwünschter Betriebszustand auf einfache
Weise dadurch erreicht, daß die fotoempfindlichen
Elemente S und die jeweils mit einem entsprechenden
fotoempfindlichen Element parallel geschalteten Tran
sistoren ST mit dem gleichen Halbleitermaterial, näm
lich durch dieselbe Halbleiterschicht 24
gebildet werden.
Falls zwei Substrate 21 jeweils aus einem lichtdurch
lässigen Material wie Glas hergestellt werden, haben
natürlich jeweilige Farbbild-Zeilensensoren die glei
chen Wirkungen, die dadurch erhalten werden, daß auf
einem Substrat die Farbfilter 28 r, 28 g und 28 b auf
der oberen Fläche und bei dem anderen Substrat die
Farbfilter 28 r, 28 g und 28 b auf der unteren Fläche
ausgebildet werden.
Fig. 4 ist ein schematisches Schaltbild eines Farb
bild-Zeilensensors, der ein zweites Ausführungsbei
spiel der erfindungsgemäßen Wandlereinrichtung dar
stellt.
Nach Fig. 4 bilden Dünnfilm-Feldeffekttransistoren Qr,
Qg und Qb Elemente, die auf nachfolgend beschriebene
Weise jeweils sowohl als fotoempfindliches Element
als auch als Schalttransistor wirken und die hinsichtlich
ihrer Äquivalenzschaltung gleich den Elementen D
nach Fig. 1 sind. Daher ist das grundlegende Ansteu
erungsverfahren im wesentlichen das gleiche wie das
jenige für die Schaltung nach Fig. 1. Bei diesem zwei
ten Ausführungsbeispiel sind die einzelnen Elektroden
A 1 bis An mit entsprechenden Kondensatoren C 1 bis Cn
verbunden.
Beispielsweise wird zuerst zum Lesen von Rotkomponen
tensignalen R an den Anschluß Tr niedriger Pegel
angelegt, wodurch die Transistoren Qr in einen derar
tigen Zustand versetzt werden, daß in diesen Transi
storen keine Kanäle gebildet werden; währenddessen
wird an die Anschlüsse Tg und Tb hoher Pegel angelegt,
wodurch die Transistoren Qg und Qb in einen derarti
gen Zustand versetzt werden, daß in diesen jeweiligen
Transistoren Kanäle ausgebildet werden. Die Transi
storen sind so gestaltet, daß jeweils bei dem Ausbilden
des Kanals der Widerstand zwischen den Hauptelektroden
und des jeweiligen Transistors um ungefähr drei Grö
ßenordnungen niedriger als derjenige des beleuchteten
fotoempfindlichen Elements ist, so daß der durch den
Transistor fließende Strom nicht durch das einfallende
Licht beeinflußt wird. Unter diesen Bedingungen gelan
gen die jeweils der einfallenden Lichtmenge entspre
chenden und durch die Transistoren Qr fließenden Foto
ströme über die Transistoren Qg und Qb zu den Konden
satoren C 1 bis Cn, in denen die den jeweiligen Foto
strömen für einen festen Zeitraum entsprechenden elek
trischen Ladungsmengen über eine feste Zeitdauer als
Rotkomponentensignale R gespeichert werden. Darauffol
gend werden durch das Betreiben der Abfrageschaltung
4 die auf diese Weise gespeicherten jeweiligen Rot
komponentensignale R aufeinanderfolgend ausgelesen.
Auf gleichartige Weise wird danach an den Anschluß
Tg niedriger Pegel angelegt, während an die Anschlüsse
Tr und Tb hoher Pegel angelegt wird, so daß die Grün
komponentensignale G ausgelesen werden. Wenn an den
Anschluß Tb niedriger Pegel und an die Anschlüsse Tr
und Tg hoher Pegel angelegt wird, werden die Blaukom
ponentensignale B ausgelesen. Da auf die vorstehend
beschriebene Weise die jeweiligen Farbkomponenten zeit
weilig in den Kondensatoren C 1 bis Cn gespeichert und
dann die auf diese Weise gespeicherten Komponenten
aufeinanderfolgend ausgelesen werden, ist ein schnelles
Auslesen möglich, wenn die Kapazitäten der Kondensa
toren C 1 bis Cn geeignet gewählt werden.
Fig. 5A ist eine schematische Draufsicht, die den Auf
bau des zweiten Ausführungsbeispiels zeigt, während
Fig. 5B die Ansicht eines Schnitts längs einer Linie
IV-IV in Fig. 5A ist.
Gemäß den Fig. 5A und 5B werden auf der unteren Fläche
eines lichtdurchlässigen Substrats 31 Farbfilter, näm
liche Rotfilter 32 r, Grünfilter 32 g und Blaufilter 32 b
ausgebildet. An den diesen Farbfiltern 32 r, 32 g und
32 b entsprechenden Stellen werden auf der oberen Flä
che des Substrats Gate-Elektroden 33 r, 33 g und 33 b
ausgebildet. Ferner wird auch auf der oberen Fläche
des Substrats eine Masse-Elektrode 34 ausgebildet.
Als Gate-Elektroden werden lichtdurchlässige Elektro
den aus Indium-Zinn-Oxid (ITO) benutzt.
Auf den Gate-Elektroden und den Masse-Elektroden ist
eine Isolierschicht 35 gebildet, auf welcher eine Halb
leiterschicht 36 aus Halbleitermaterial wie a-Si:H
ausgebildet ist. Die Halbleiterschicht 36 ist foto
leitfähig und dient zugleich als Halbleiterbereich
für das Bilden der Kanäle der Feleffekttransistoren
Q.
Auf der Halbleiterschicht 36 sind durch Leiterschichten
eine gemeinsame Elektrode 37, Elektroden 38 und 38′,
die die Feldeffekttransistoren Q zu dritt in Reihe
schalten, und einzelne Elektroden A 1 bis An ausgebil
det. Durch die entsprechenden einzelnen Elektroden
A 1 bis An und die Masse-Elektroden 34 sind die Konden
satoren C 1 bis Cn gebildet.
Wenn beispielsweise bei dieser Gestaltung an die Gate-
Elektrode 33 r niedriger Pegel und an die Gate-Elek
troden 33 g und 33 b hoher Pegel angelegt wird, werden
jeweils an der Grenzfläche zwischen der Halbleiter
schicht 36 und der Isolierschicht 35 zwischen den Elek
troden 38 und 38′ sowie zwischen der Elektrode 38′
und der betreffenden einzelnen Elektrode A 1 bis An
Kanäle ausgebildet, während zwischen den Elektroden
37 und 38 kein Kanal ausgebildet wird. Daher fließen
zwischen den Elektroden 37 und 38 jeweilige Fotoströme,
die der über das Rotfilter 32 r und die Gate-Elektrode
33 r auf die als fotoleitfähige Schicht wirkende Halb
leiterschicht 36 fallenden Lichtmenge entsprechen, wäh
rend die den jeweiligen Fotoströmen entsprechenden
elektrischen Ladungsmengen in den Kondensatoren C 1
bis Cn als Rotkomponentensignale R gespeichert werden.
Der darauffolgende Auslesevorgang ist vorstehend be
schrieben. Das gleiche gilt auch für die Grünkompo
nentensignale G und die Blaukomponentensignale B.
Fig. 6 zeigt ein Äquivalenzschaltbild der
Wandlereinrichtung gemäß einem dritten Ausfüh
rungsbeispiel.
Jeweilige Elemente Dr, Dg und Db gemäß Fig. 6 sind
auf gleiche Weise wie die entsprechenden Elemente gemäß
den Fig. 1 und 3 angeschlossen und aufgebaut. Zusätz
lich sind bei dem dritten Ausführungsbeispiel in Reihe
zu den jeweiligen Bildelementzellen Elemente D 1 bis
Dn geschaltet. Das heißt, das dritte Ausführungsbei
spiel hat einen Aufbau, bei dem zusätzlich zu dem in
Fig. 3 in Draufsicht gezeigten Aufbau eine Reihe von
Elementen D 1 bis Dn angebracht ist. An den jeweiligen
fotoempfindlichen Abschnitten von fotoempfindlichen
Elementen S 1 bis Sn dieser Elemente D 1 bis Dn sind
jedoch keine Farbfilter angebracht, während die Gate-
Elektroden von zu den entsprechenden fotoempfindlichen
Elementen S 1 bis Sn parallel geschalteten Transisto
ren ST 1 bis STn gemeinsam mit einem Anschluß To ver
bunden sind.
Dieses dritte Ausführungsbeispiel ist derart gestal
tet, daß es entweder zum einfarbigen Lesen oder zum
Lesen von Farbbildern eingesetzt werden kann. Wenn
an die Anschlüsse Tr, Tg und Tb hoher Pegel angelegt
wird, wodurch alle Transistoren STr, STg und STb durch
geschaltet werden, und an den Anschluß To niedriger
Pegel angelegt wird, wodurch die Transistoren ST 1 bis
Stn gesperrt werden, können aus den nicht mit Farb
filtern versehenen fotoempfindlichen Elementen S 1 bis
Sn Einfarbensignale ausgelesen werden. Da in diesem
Fall zum Lesen einer Zeile mit der Abfrageschaltung 4
nur eine einzige Abtastung erforderlich ist, ist ein
Lesen mit hoher Geschwindigkeit möglich. Wenn an den
Anschluß To hoher Pegel angelegt wird, wodurch die
Transistoren ST 1 bis STn durchgeschaltet werden, kann
die Wandlervorrichtung gemäß diesem Ausführungsbei
spiel auf gleiche Weise wie der Farbbild-Zeilensensor
gemäß dem in den Fig. 1 und 2 gezeigten ersten Aus
führungsbeispiel verwendet werden.
Fig. 7 zeigt ein Äquivalenzschaltbild eines vierten
Ausführungsbeispiels der Wandlerein
richtung. Dieses Ausführungsbeispiel stellt einen Ein
farben-Flächenbildsensor dar, der eine Anordnung aus
m × n Elementen D enthält, von denen jeweils ein foto
empfindliches Element S und einen hierzu parallel ge
schalteten Schalttransistor ST aufweist.
Nach Fig. 7 sind die Gate-Elektroden der Transistoren
ST der Elemente D in einander entsprechenden Zeilen
gemeinsam mit zugeordneten Anschlüssen T 1 bis Tm ver
bunden. Die Elemente D in entsprechenden Spalten sind
in Reihe geschaltet, wobei jeweils ein Anschluß einer
solchen Reihenschaltung mit einer Spannungsquelle Vs
verbunden ist, während der andere Anschluß der Reihen
schaltung jeweils mit einer zugeordneten einzelnen
Elektrode A 1 bis An verbunden ist.
Wie aus den vorstehenden Ausführungen ersichtlich ist,
wird bei dem Betrieb des vierten Ausführungsbeispiels
aufeinanderfolgend an die Anschlüsse T 1 bis Tm hoher
Pegel angelegt, so daß die Abfrageschaltung 4 während
des Anlegens hohen Pegels an die Gate-Elektroden der
Schalttransistoren ST in einer Zeile betrieben wird,
wodurch aufeinanderfolgend die den auf diese Zeile
fallenden Lichtmengen entsprechenden Fotoströme ausge
geben werden.
Gemäß den vorstehenden Ausführungen ist die Verschal
tung und dergleichen für eine Vielzahl von Elementen
D äußerst einfach, so daß auf einfache Weise preis
günstige Flächenbildsensoren mit einem hohen Auflö
sungsvermögen erzeugt werden können.
Gemäß der vorstehenden ausführlichen Beschreibung
enthält die fotoelektrische Wandlervorrichtung gemäß
diesem Ausführungsbeispiel Schaltelemente, die auf
äquivalente bzw. gleichsinnige Weise zu entsprechenden
fotoelektrischen Wandlerelementen parallel geschaltet
sind, welche ihrerseits zu mehreren Elementen in Reihe
geschaltet sind. Auf diese Weise wird der Schaltungs
aufbau außerordentlich vereinfacht. Bei der Herstel
lung können die fotoelektrischen Wandlerelemente leicht
in hoher Dichte angeordnet werden, so daß eine mini
aturisierte preisgünstige Vorrichtung hergestellt wer
den kann.
Da bei der Anwendung der Wandlervorrichtung als Farb
bildsensor die den jeweiligen Farben zugeordneten Sen
sorelemente sehr eng aneinander auf der gleichen Ebene
angeordnet werden können, ist es nicht erforderlich,
die bei der Herstellung herkömmlicher Farbbildsensoren
erforderlichen besonderen Mikrobearbeitungen und mehr
schichtigen Matrixschaltungen anzuwenden; es ist le
diglich ein einziges Beleuchtungssystem erforderlich;
ferner kann auf einfache Weise ein miniaturisierter
preisgünstiger Farbbildsensor mit hohem Auflösungs
vermögen erzielt werden.
Claims (6)
1. Fotoelektrische Wandlereinrichtung, in der in
einer Sensorzeile n fotoelektrische Wandlerelemente
angeordnet sind, wobei jedes Wandlerelement zwei An
schlüsse aufweist, von denen je einer mit einer Be
triebsspannungsquelle und der andere mit einer Abfrage
schaltung verbunden ist, die die Ausgangssignale der
fotoelektrischen Wandlerelemente in einem Abfragezyklus
einzeln abfragt, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen
die Sensorzeile und die Abfrageschaltung (4) weitere Sensor
zeilen so eingefügt sind, daß jeweils die i-ten (i =
1 bis n) fotoelektrischen Wandlerelemente (Sr; Q) aller
Sensorzeilen in Serie zwischen Betriebsspannungsquelle
(Vs) und Abfrageschaltung (4) geschaltet sind, daß
parallel zu jedem fotoelektrischen Wandlerelement (Sr; Q)
ein Schaltelement (STr; Q) vorgesehen ist und daß während
eines Abfragezyklus die Schaltelemente einer Sensor
zeile gleichzeitig geöffnet, und die Schaltelemente
aller übrigen Sensorzeilen geschlossen werden.
2. Wandlereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß jedes fotoelektrische Wandlerelement
(Sr; Q) eine fotoleitfähige Schicht (24; 36) aufweist
und daß die Schaltelemente (STr; Q) als Transistoren
mit isoliertem Gate ausgebildet sind.
3. Wandlereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Material der fotoleitfähigen
Schicht (24; 36) von gleicher Art wie das Halbleiter
material eines jeweiligen Kanalbildungsbereichs der
Transistoren (ST) mit isoliertem Gate ist.
4. Wandlereinrichtung nach Anspruch 3, dadurch ge
kennzeichnet, daß das Material für die fotoleitfähige
Schicht (24; 36) und den Kanalbildungsbereich hydriertes
amorphes Silizium a-Si:H ist.
5. Wandlereinrichtung nach einem der Ansprüche 2,
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils die foto
empfindliche Fläche des fotoelektrischen Wandlerelements
(Sr) an eine Kanalbildungsfläche des Transistors (STr)
mit dem isolierten Gate angrenzt.
6. Wandlereinrichtung nach einem der Ansprüche 2
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jeweils die foto
empfindliche Fläche des fotoelektrischen Wandlerelements
eine Kanalbildungsfläche des Transistors (Q) mit dem
isolierten Gate ist.
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