DE3605916A1 - Verfahren zur kontrasterhoehung bei der roentgenstrahl-lithographie und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens - Google Patents
Verfahren zur kontrasterhoehung bei der roentgenstrahl-lithographie und anordnung zur durchfuehrung des verfahrensInfo
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3820421A1 (de) * | 1987-08-04 | 1989-02-16 | Mitsubishi Electric Corp | Maske zur roentgenlithographie und verfahren zur herstellung einer solchen |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2902875A1 (de) * | 1978-01-30 | 1979-08-02 | Rockwell International Corp | Maskiervorrichtung fuer die feinlinien-lithographie |
-
1986
- 1986-02-25 DE DE19863605916 patent/DE3605916A1/de active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2902875A1 (de) * | 1978-01-30 | 1979-08-02 | Rockwell International Corp | Maskiervorrichtung fuer die feinlinien-lithographie |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| JP-Patents Abstracts of Japan, P-206, April 19, 1984, Vol.8, No.86, 59-2046 * |
| JP-Patents Abstracts of Japan, P-206, June 25, 1983, Vol.7, No.146, 58-58545 * |
| US-Z: J.Vac.Sci.Technol., B 2(1), Jan.-March 1984,S.63-67 * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE3820421A1 (de) * | 1987-08-04 | 1989-02-16 | Mitsubishi Electric Corp | Maske zur roentgenlithographie und verfahren zur herstellung einer solchen |
| US5023156A (en) * | 1987-08-04 | 1991-06-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Mask for X-ray lityhography and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3605916C2 (https=) | 1988-08-11 |
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