DE3581319D1 - Verfahren zur bestimmung der phasendifferenz zwischen dem drehanalysator und dem drehphasengeber eines ellipsometers. - Google Patents
Verfahren zur bestimmung der phasendifferenz zwischen dem drehanalysator und dem drehphasengeber eines ellipsometers.Info
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12137784A JPS60263817A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | 回転検光子を用いた楕円偏光計 |
JP12331484A JPS612028A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 楕円偏光計の回転検光子と回転位相検出素子との位相差検出法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3581319D1 true DE3581319D1 (de) | 1991-02-21 |
Family
ID=26458755
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE198585304198T Pending DE165771T1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Ellipsometer vom typ eines drehanalysators. |
DE8585304198T Expired - Fee Related DE3581319D1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Verfahren zur bestimmung der phasendifferenz zwischen dem drehanalysator und dem drehphasengeber eines ellipsometers. |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE198585304198T Pending DE165771T1 (de) | 1984-06-12 | 1985-06-12 | Ellipsometer vom typ eines drehanalysators. |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4653924A (de) |
EP (1) | EP0165771B1 (de) |
DE (2) | DE165771T1 (de) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4967152A (en) * | 1988-03-11 | 1990-10-30 | Ultra-Probe | Apparatus including a focused UV light source for non-contact measurement and alteration of electrical properties of conductors |
US4906844A (en) * | 1988-08-12 | 1990-03-06 | Rockwell International Corporation | Phase sensitive optical monitor for thin film deposition |
US5042951A (en) * | 1989-09-19 | 1991-08-27 | Therma-Wave, Inc. | High resolution ellipsometric apparatus |
US5166752A (en) * | 1990-01-11 | 1992-11-24 | Rudolph Research Corporation | Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method |
JP2967651B2 (ja) * | 1991-08-12 | 1999-10-25 | ダイキン工業株式会社 | 位置割出装置 |
DE4219691A1 (de) * | 1992-06-16 | 1993-12-23 | Siemens Ag | Meßvorrichtung zur Bestimmung der Richtung der Polarisationsebene von linear polarisiertem Licht |
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IL107549A (en) * | 1993-11-09 | 1996-01-31 | Nova Measuring Instr Ltd | Device for measuring the thickness of thin films |
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US6483580B1 (en) * | 1998-03-06 | 2002-11-19 | Kla-Tencor Technologies Corporation | Spectroscopic scatterometer system |
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JP4722244B2 (ja) | 1998-07-14 | 2011-07-13 | ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド | 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置 |
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US6212961B1 (en) | 1999-02-11 | 2001-04-10 | Nova Measuring Instruments Ltd. | Buffer system for a wafer handling system |
US6222199B1 (en) | 1999-05-25 | 2001-04-24 | Interface Studies Inc. | Ultrathin layer measurement having a controlled ambient of light path |
US6323947B1 (en) | 1999-12-14 | 2001-11-27 | Interface Studies Corporation | Angle of incidence accuracy in ultrathin dielectric layer ellipsometry measurement |
JP2002267418A (ja) * | 2001-03-09 | 2002-09-18 | Horiba Ltd | 膜厚測定装置 |
US6798512B2 (en) * | 2001-08-09 | 2004-09-28 | Therma-Wave, Inc. | Multiple beam ellipsometer |
US6930782B1 (en) | 2003-03-28 | 2005-08-16 | Lam Research Corporation | End point detection with imaging matching in semiconductor processing |
DE102004026326B4 (de) * | 2003-05-28 | 2006-05-04 | Gebauer, Gerd, Dr. | Motor mit integrierten Bauelementen |
US7515253B2 (en) * | 2005-01-12 | 2009-04-07 | Kla-Tencor Technologies Corporation | System for measuring a sample with a layer containing a periodic diffracting structure |
JP2007040930A (ja) * | 2005-08-05 | 2007-02-15 | Ebara Corp | 膜厚測定方法及び基板処理装置 |
US10709327B2 (en) | 2017-12-19 | 2020-07-14 | Aizhong Zhang | Thin film analysis apparatus and method for a curved surface |
US11644412B2 (en) | 2020-08-02 | 2023-05-09 | Aizhong Zhang | Thin film spectroellipsometric imaging |
CN113188457B (zh) * | 2021-04-23 | 2022-10-04 | 中北大学 | 一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3880524A (en) * | 1973-06-25 | 1975-04-29 | Ibm | Automatic ellipsometer |
JPS51129279A (en) * | 1975-05-02 | 1976-11-10 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Polarizing analyzer |
JPS5240388A (en) * | 1975-09-26 | 1977-03-29 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Spectroscopic autoellipsometer |
US4030836A (en) * | 1975-10-28 | 1977-06-21 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method for mapping surfaces with respect to ellipsometric parameters |
JPS57132039A (en) * | 1981-02-09 | 1982-08-16 | Hitachi Ltd | Method for measuring carrier distribution |
-
1985
- 1985-06-10 US US06/742,988 patent/US4653924A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-06-12 EP EP85304198A patent/EP0165771B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1985-06-12 DE DE198585304198T patent/DE165771T1/de active Pending
- 1985-06-12 DE DE8585304198T patent/DE3581319D1/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0165771A2 (de) | 1985-12-27 |
EP0165771A3 (en) | 1987-06-16 |
US4653924A (en) | 1987-03-31 |
DE165771T1 (de) | 1986-04-10 |
EP0165771B1 (de) | 1991-01-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
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|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |