DE3581319D1 - Verfahren zur bestimmung der phasendifferenz zwischen dem drehanalysator und dem drehphasengeber eines ellipsometers. - Google Patents

Verfahren zur bestimmung der phasendifferenz zwischen dem drehanalysator und dem drehphasengeber eines ellipsometers.

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Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4967152A (en) * 1988-03-11 1990-10-30 Ultra-Probe Apparatus including a focused UV light source for non-contact measurement and alteration of electrical properties of conductors
US4906844A (en) * 1988-08-12 1990-03-06 Rockwell International Corporation Phase sensitive optical monitor for thin film deposition
US5042951A (en) * 1989-09-19 1991-08-27 Therma-Wave, Inc. High resolution ellipsometric apparatus
US5166752A (en) * 1990-01-11 1992-11-24 Rudolph Research Corporation Simultaneous multiple angle/multiple wavelength ellipsometer and method
JP2967651B2 (ja) * 1991-08-12 1999-10-25 ダイキン工業株式会社 位置割出装置
DE4219691A1 (de) * 1992-06-16 1993-12-23 Siemens Ag Meßvorrichtung zur Bestimmung der Richtung der Polarisationsebene von linear polarisiertem Licht
US5412473A (en) * 1993-07-16 1995-05-02 Therma-Wave, Inc. Multiple angle spectroscopic analyzer utilizing interferometric and ellipsometric devices
USRE38153E1 (en) * 1993-11-09 2003-06-24 Nova Measuring Instruments, Ltd. Two-dimensional beam deflector
IL107549A (en) * 1993-11-09 1996-01-31 Nova Measuring Instr Ltd Device for measuring the thickness of thin films
US5764365A (en) * 1993-11-09 1998-06-09 Nova Measuring Instruments, Ltd. Two-dimensional beam deflector
US5519493A (en) * 1994-03-30 1996-05-21 Reiley; Daniel J. Remote sample polarimeter
US5548404A (en) * 1994-09-23 1996-08-20 Sunshine Medical Instruments, Inc. Multiple wavelength polarization-modulated ellipsometer with phase-generated carrier
US5608526A (en) * 1995-01-19 1997-03-04 Tencor Instruments Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system
US6734967B1 (en) * 1995-01-19 2004-05-11 Kla-Tencor Technologies Corporation Focused beam spectroscopic ellipsometry method and system
US5581350A (en) * 1995-06-06 1996-12-03 Tencor Instruments Method and system for calibrating an ellipsometer
US6104486A (en) * 1995-12-28 2000-08-15 Fujitsu Limited Fabrication process of a semiconductor device using ellipsometry
DE19721043C2 (de) * 1997-05-09 1999-03-04 Forschungsverbund Berlin Ev Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der optischen Eigenschaften und Schichtdicke von Materialien
US6108091A (en) * 1997-05-28 2000-08-22 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ monitoring of thickness during chemical-mechanical polishing
US6146248A (en) * 1997-05-28 2000-11-14 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ end-point detection and optimization of a chemical-mechanical polishing process using a linear polisher
US6111634A (en) * 1997-05-28 2000-08-29 Lam Research Corporation Method and apparatus for in-situ monitoring of thickness using a multi-wavelength spectrometer during chemical-mechanical polishing
IL123575A (en) * 1998-03-05 2001-08-26 Nova Measuring Instr Ltd Method and apparatus for alignment of a wafer
US6483580B1 (en) * 1998-03-06 2002-11-19 Kla-Tencor Technologies Corporation Spectroscopic scatterometer system
US6068539A (en) 1998-03-10 2000-05-30 Lam Research Corporation Wafer polishing device with movable window
JP4722244B2 (ja) 1998-07-14 2011-07-13 ノバ・メジャリング・インストルメンツ・リミテッド 所定のフォトリソグラフィ工程に従って基板を加工する装置
US6414302B1 (en) 1998-08-11 2002-07-02 Interface Studies Inc High photon energy range reflected light characterization of solids
US6212961B1 (en) 1999-02-11 2001-04-10 Nova Measuring Instruments Ltd. Buffer system for a wafer handling system
US6222199B1 (en) 1999-05-25 2001-04-24 Interface Studies Inc. Ultrathin layer measurement having a controlled ambient of light path
US6323947B1 (en) 1999-12-14 2001-11-27 Interface Studies Corporation Angle of incidence accuracy in ultrathin dielectric layer ellipsometry measurement
JP2002267418A (ja) * 2001-03-09 2002-09-18 Horiba Ltd 膜厚測定装置
US6798512B2 (en) * 2001-08-09 2004-09-28 Therma-Wave, Inc. Multiple beam ellipsometer
US6930782B1 (en) 2003-03-28 2005-08-16 Lam Research Corporation End point detection with imaging matching in semiconductor processing
DE102004026326B4 (de) * 2003-05-28 2006-05-04 Gebauer, Gerd, Dr. Motor mit integrierten Bauelementen
US7515253B2 (en) * 2005-01-12 2009-04-07 Kla-Tencor Technologies Corporation System for measuring a sample with a layer containing a periodic diffracting structure
JP2007040930A (ja) * 2005-08-05 2007-02-15 Ebara Corp 膜厚測定方法及び基板処理装置
US10709327B2 (en) 2017-12-19 2020-07-14 Aizhong Zhang Thin film analysis apparatus and method for a curved surface
US11644412B2 (en) 2020-08-02 2023-05-09 Aizhong Zhang Thin film spectroellipsometric imaging
CN113188457B (zh) * 2021-04-23 2022-10-04 中北大学 一种双旋转补偿器型Mueller矩阵椭偏仪的补偿器同步旋转结构

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3880524A (en) * 1973-06-25 1975-04-29 Ibm Automatic ellipsometer
JPS51129279A (en) * 1975-05-02 1976-11-10 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Polarizing analyzer
JPS5240388A (en) * 1975-09-26 1977-03-29 Nippon Kogaku Kk <Nikon> Spectroscopic autoellipsometer
US4030836A (en) * 1975-10-28 1977-06-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Method for mapping surfaces with respect to ellipsometric parameters
JPS57132039A (en) * 1981-02-09 1982-08-16 Hitachi Ltd Method for measuring carrier distribution

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EP0165771B1 (de) 1991-01-16

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