DE3439731C2 - - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 12
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 10
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 17
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
- H01G4/2325—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor characterised by the material of the terminals
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Description
Die Erfindung betrifft einen elektrischen monolithischen
Schichtkondensator, insbesondere in Chip-Bauart, bei dem auf
einem Trägermaterial abwechselnd als Elektroden dienende regenerierfähig dünne Me
tallschichten und durch Glimmpolymerisation hergestellte Di
elektrikumsschichten angeordnet sind, bei dem das Trägerma
terial an zwei gegenüberliegenden Seiten mit metallischen Kon
taktschichten versehen ist, bei dem jeweils eine der Kontakt
schichten mit einer der gegenpoligen Elektroden des Kondensa
tors verbunden ist und bei dem die metallischen Kontaktschich
ten aus
- a) einer ersten auf dem Trägermaterial angeordneten als Haft schicht wirkenden Metallschicht,
- b) einer zweiten Schicht aus einem Metall hoher elektrischer Leitfähigkeit und
- c) einer dritten Schicht aus einem Edelmetall bestehen.
Derartige Kondensatoren sind aus der DE 32 16 816 A1 bekannt.
Dort ist über Schichtdicken der einzelnen Metallschichten
nichts ausgesagt. Die einzelnen Metallschichten bestehen dort
aus einer Schichtfolge von CrNi/Cu/Au. Da die einzelnen Kom
ponenten der Kontaktschichten unterschiedliche Aufgaben zu
erfüllen haben, wobei Materialeigenschaften und elektrische
Leitfähigkeit aufeinander abgestimmt sein müssen und bei denen
ferner sichergestellt sein muß, daß bei den erforderlichen
Lötvorgängen die Kontaktschichten weder korrodieren noch sich
vom Trägermaterial ablösen, ist es erforderlich, die Schicht
dicken der einzelnen Metallschichten aufeinander abzustimmen.
Aufgabe der Erfindung ist es daher, den Kondensator der ein
gangsgenanntan Art derart weiterzubilden, daß die Schichtdicke
der einzelnen Metallschichten den vorstehend aufgezeigten
Anforderungen genügt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die
Kontaktschichten an zwei gegenüberliegenden Stirnseiten des
Trägermaterials angeordnet sind und sich auf den angrenzenden
Bereich der Trägerseite erstrecken auf der der Kondensator an
geordnet ist und daß die Schichtdicken der ersten und dritten
Schicht ca. 100 nm und die der zweiten Schicht ca. 1000 nm
betragen.
Vorzugsweise besteht die erste Schicht aus Cr oder NiCr, die
zweite Schicht aus Cu und die dritte Schicht aus Pd oder
Pd/Ag.
Die Erfindung wird anhand des folgenden Ausführungsbeispiels
näher erläutert. In der dazugehörenden Zeichnung, die einen
Teilschnitt eines monolithischen Schichtkondensators dar
stellt, ist auf einem isolierenden Trägermaterial 1 eine ca.
100 nm starke Cr- oder CrNi-Schicht 2 angeordnet, die als
Haftvermittler dient. Auf der Schicht 2 ist eine ca. 1 µm
starke elektrisch gut leitende Schicht 3, beispielsweise aus
Kupfer, angeordnet, die als elektrischer Leiter dient. Durch
eine ca. 100 nm starke Deckschicht 4 aus Edelmetall, z. B. aus
Pd oder Pd/Ag, erhält man einerseits eine gute Lötbarkeit der
Kontaktierung und andererseits eine dauerhafte, gut leit
fähige Verbindung zu den Elektroden 5 des Kondensators, die
vorzugsweise aus Aluminium bestehen.
Die Schichten 2 bis 4 werden vorzugsweise aufgesputtert
oder durch Aufdampfen hergestellt.
Wie der Figur zu entnehmen ist, greifen die Schichten 2 bis
4 auf die Seite des Trägermaterials 1 über, auf der der
monolithische Schichtkondensator angeordnet ist, wobei in
der Figur von diesem Kondensator nur eine der gegenpoligen
Elektroden 5 gezeigt ist. Es ist aber auch möglich, die
Schichten 2 bis 4 auf die gegenüberliegende Seite über
greifen zu lassen, wodurch beim Einsatz als Chip eine
verbesserte Lötbarkeit auf gedruckten Schaltungen erzielbar
ist.
Anstelle der Chip-Bauart, bei der die seitlichen Kontakt
schichten direkt mit Leiterbahnen verlötet werden, können
auch in herkömmlicher Weise Anschlußdrähte an den Kontakt
schichten befestigt werden.
Claims (2)
1. Elektrischer monolithischer Schichtkondensator, insbesondere
in Chip-Bauart, bei dem auf einem Trägermaterial (1) abwechselnd als
Elektroden dienende, regenerierfähig dünne Metallschichten und
durch Glimmpolymerisation hergestellte Dielektrikumsschichten
angeordnet sind, bei dem das Trägermaterial (1) an zwei gegenüber
liegenden Seiten mit metallischen Kontaktschichten (2, 3, 4) versehen ist,
bei dem jeweils eine der Kontaktschichten mit einer der gegen
poligen Elektroden des Kondensators verbunden ist und bei dem
die metallischen Kontaktschichten (2, 3, 4) aus
- a) einer ersten auf dem Trägermaterial angeordneten als Haft schicht wirkenden Metallschicht (2),
- b) einer zweiten Schicht (3) aus einem Metall hoher elektrischer Leitfähigkeit und
- c) einer dritten Schicht (4) aus einem Edelmetall bestehen, dadurch gekennzeichnet, daß die Kontakt schichten (2, 3, 4) zwei gegenüberliegenden Stirnseiten des Trägermate rials (1) angeordnet sind und sich auf den angrenzenden Bereich der Trägerseite erstrecken, auf der der Kondensator angeordnet ist und daß die Schichtdicken der ersten und dritten Schicht ca. 100 nm und die der zweiten Schicht ca. 1000 nm betragen.
2. Elektrischer Schichtkondensator nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die erste
Schicht (2) aus Cr oder NiCr, die zweite Schicht (3) aus Cu
und die dritte Schicht (4) aus Pd oder Pd/Ag bestehen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843439731 DE3439731A1 (de) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | Elektrischer monolithischer schichtkondensator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19843439731 DE3439731A1 (de) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | Elektrischer monolithischer schichtkondensator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3439731A1 DE3439731A1 (de) | 1986-04-30 |
DE3439731C2 true DE3439731C2 (de) | 1991-10-24 |
Family
ID=6249131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19843439731 Granted DE3439731A1 (de) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | Elektrischer monolithischer schichtkondensator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3439731A1 (de) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3235772A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-06-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kadoma, Osaka | Mehrschichtkondensator |
DE3216816A1 (de) * | 1982-05-05 | 1983-11-10 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Umhuellter, regnerierfaehiger elektrischer schichtkondensator und verfahren zu seiner herstellung |
DE3231556A1 (de) * | 1982-08-25 | 1984-04-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Regenerierfaehiger elektrischer schichtkondensator in chip-bauart |
-
1984
- 1984-10-30 DE DE19843439731 patent/DE3439731A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3439731A1 (de) | 1986-04-30 |
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8120 | Willingness to grant licenses paragraph 23 | ||
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8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |