DE3439688A1 - Verfahren zum herstellen elektrischer plasmapolymerer vielschichtkondensatoren - Google Patents

Verfahren zum herstellen elektrischer plasmapolymerer vielschichtkondensatoren

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0339844A3 (en) * 1988-04-29 1991-01-16 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Delaware corporation) Multi layer structure and process for making same

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3021786A1 (de) * 1980-06-10 1981-12-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstelung von elektrishen bauelementen, insbesondere schichtkondensatoren
DE3209041A1 (de) * 1982-03-12 1983-09-15 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung eines regenerierfaehigen elektrischen schichtkondensators

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3021786A1 (de) * 1980-06-10 1981-12-17 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstelung von elektrishen bauelementen, insbesondere schichtkondensatoren
DE3209041A1 (de) * 1982-03-12 1983-09-15 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur herstellung eines regenerierfaehigen elektrischen schichtkondensators

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0339844A3 (en) * 1988-04-29 1991-01-16 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Delaware corporation) Multi layer structure and process for making same

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