DE3435133A1 - Silicophosphat-laserglas - Google Patents

Silicophosphat-laserglas

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DE3435133A1
DE3435133A1 DE19843435133 DE3435133A DE3435133A1 DE 3435133 A1 DE3435133 A1 DE 3435133A1 DE 19843435133 DE19843435133 DE 19843435133 DE 3435133 A DE3435133 A DE 3435133A DE 3435133 A1 DE3435133 A1 DE 3435133A1
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Germany
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glass
laser glass
silicophosphate
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laser
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DE19843435133
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English (en)
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Tetsuro Hino Tokio/Tokyo Izumitani
Hisayoshi Tokio/Tokyo Toratani
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Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • C03C3/064Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron
    • C03C3/068Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing boron containing rare earths
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Description

Die Erfindung betrifft ein Laserglas, das P2°5 und Si02 als glasbildende Komponenten enthält.
Ein Phosphat-Laserglas, das Alkalikomponenten in verhältnismäßig großen Mengen enthält, bietet den Vorteil, daß sein stimulierter Emissionsquerschnitt groß ist, es hat jedoch den Nachteil, daß neben einer geringen mechanischen Festigkeit und einer geringen chemischen Haltbarkeit seine Wärmeschockbeständigkeit gering ist wegen seines großen Wärmeausdehnungskoeffizienten. Diese Nachteile des Phosphat-Laserglases können verbessert werden, indem man ^"0^3 (worin R" für Y, La, B oder Al steht) oder R1O (worin R1 für Mg, Ca, Sr, Ba, Zn oder Pb steht) der Glaszusammensetzung einverleibt. Die Einarbeitung von R"2°3 °^er R1O führt jedoch zu dem Nachteil, daß der stimulierte Emissionsquerschnitt eines Laserqlases abnimmt. Andererseits weistr v„ ein Silicat-Laserglas einen kleinen stimulierten Emissionsquerschnitt auf, während seine mechanische Festigkeit unc
seine Wärmeschockbeständigkeit im allgemeinen hoch sind.
Es wurde nun gefunden, daß dadurch, daß man einen Teil oder das gesamte Al3O3 und R1O, die bisher zum Zwecke ο der Verbesserung der Nachteile, von Phosphat-Laserglas in eine Glaszusammensetzung eingearbeitet worden sind, durch SiO3 ersetzt, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient vermindert und dementsprechend dessen Wärmeschockbeständigkeit erhöht werden kann, ohne daß der dem Phosphat-Laserglas eigene große stimulierte Emissionsquerschnitt wesentlich abnimmt. · ...
Es wurde auch gefunden, daß, obgleich angenommen wird, daß die Einarbeitung von SiOp in ein Phosphatglas in einer großen Menge im allgemeinen zu einer Phasentrennung und/oder Kristallisation führt, nicht nur eine solche Tendenz in der erfindungsgemäßen Glaszusammensetzung nicht festzustellen ist, sondern auch ein Glas mit einer geringen Fluoreszenzkonzentrationsauslöschü'ng erhalten werden
20 kann.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Laserglas zu schaffen, das die Vorteile sowohl von Phosphat-Laserglas als auch von Silicat-Laserglas, insbesondere einen großen stimulierten Emissionsquerschnitt, eine hohe Wärmeschockbeständigkeit und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten, aufweist.
Das Glasgrundsystem der vorliegenden Erfindung ist P2Og" SiO2-R3O-Nd2O3, worin R für Li, Na oder K steht.
Das erfindungsgemäße Silicophosphat-Laserglas hat eine Zusammensetzung, die in Mol-% umfaßt:
Jt Mr
1 45 bis. 70 % P3O5 8 bis 30 % SiO2 65 bis 95 % P3O5 + SiO2 . 4 bis 20 % Li2O + Na2O + K3O 5 0,01 bis 12 % Nd9Q-, O bis 10 % Al2O3 0 bis 5 % La3O3 + Y3O3 + B3O3 0 bis 10 % R'O und 0 bis 1 % Nb3O5 + CeO2, 10 worin R' für Mg, Ca, Sr, Ba, Zn oder Pb steht.
Dieses Glas weist als Laserglas eine geringe Fluoreszenzkonzentrationsausloschungy einen großen stimulierten
Emissionsquerschnitt und einen kleinen Wärmeausdehnungskoeffizienten auf. ■
In der erfindungsgemäßen Glaszusammensetzung (angegeben in Mol-%) muß P2°5 in einer Menge von 45 bis 70 % enthalten
sein. Wenn die P2O5~Menge außerhalb des obengenannten
Bereiches liegt, wird die Stabilität des Glases schlechter.
2 kann den Wärmeausdehnungskoeffizient innerhalb eines Bereiches von 8 bis 30 % herabsetzen, ohne den stimulierten Emissionsquerschnitt stark zu vermindern. Wenn jedoch die SiO-.-Menge mehr als 30 % beträgt, wird der stimulierte Emissionsquerschnitt kleiner als gewünscht.
Außerdem sollte zur Herabsetzung des Wärmeausdehnungskoeffizienten unter Aufrechterhaltung des stimulierten
Emissionsquerschnittes bei einem hohen Wert die Gesamtmenge an P9On. + SiO9 innerhalb des Bereiches von 65 bis ■ 95 % gehalten werden.
Wenn die Gesamtmenge an Li3O + Na3O + K3O weniger als 4 % beträgt, wird die Vitrifikation (Verglasung) schwierig
und wenn ihre Menge 20 % übersteigt, wird der Wärmeausdehnungskoeffizient groß. Daher muß die Gesamtmenge erfin-
dungsgemäß innerhalb des Bereiches von 4 bis' 20 % liegen. So ist beispielsweise Li2O vorteilhaft in bezug auf die Herabsetzung des Wärmeausdehnungskoeffizienten, K9O erhöht jedoch den stimulierten Emissionsquerschnitt.
2O-, ist eine wesentliche Komponente für ein Laserglas. Damit ein Laserglas die gewünschten Eigenschaften hat, sind mindestens 0,01 % Nd0O1, erforderlich. Es ist möglich, der erfindungsgemäßen Glaszusammensetzung Nd2O3 in einer Menge von bis zu 12 % einzuverleiben (3 χ 10 Ionen/cm3 in Form von Nd -Ionen).
Was die Wahlkomponenten angeht, so kann AIpO-. den Wärmeausdehnungskoeffizient innerhalb des Mengenbereiches von 0 bis 10 % herabsetzen, ohne den stimulierten Emissionsquerschnitt schwerwiegend zu vermindern. Um nun die chemische Haltbarkeit zu verbessern, sollte Al3O3.vorzugsweise in einer Menge von 5 % oder mehr darin enthalten sein.
La3O3 + Y3O3 + B3O3 können als Ersatz für Al2Q3 innerhalb des Bereiches von 0 bis 5 % verwendet werden.
R1O (R' = Mg, Ca, Sr, Ba, Zn oder Pb) kann als Ersatz für Li2O, Na3O und K3O in einem Bereich von 0 bis 10 % verwendet werden und es dient der Herabsetzung des Wärmeausdehnungskoeffizienten und der Verbesserung der chemischen Haltbarkeit.
Außerdem stellen Nb3O5 + CeO3 Komponenten dar, die eine Solarisation in dem Bereich von 0 bis 1 % wirksam verhindern
Das erfindungsgemäße Silicophosphat-Laserglas wird hergestellt durch Mischen der Glasausgangsmaterialien, so daß man die oben beschriebene Glaszusammensetzung erhält, durch Aufschmelzen der Mischung, ausreichendes Entfernen von Wasser, beispielsweise durch Einleiten von trockenem Gas, auf konventionelle Weise und anschließendes Formen zur Erzielung der gewünschten Gestalt.
Die ICr l"i.n<!ung wird in den folgenden Beispielen an Hand der ΕΙφΊΐ!·.··!!·! Π.οη des erf indungsgemäßen Laserglases näher beschrie üf >n.
5 Beispiel 1
Tabelle I; Glaszusammensetzung (Mol-%)
1 2 3 4 Versuch Nr. 7 8 9 10 11 * » ♦ »
I »
? » T »
Komponente 67 62 62 67 5 6 57 " 62 63 62 • 67 * *
P2O5 9 10 19 9 48 62 11 • 14 15 10 9 $ t *
SiO2 29 29 t
» · *
14 7 14 7 18 14 14 14 7 J » »
1 I · >
J
♦ > i »
Li2O 7 14 4 ■ ■—
κ2ο 5 5 5 5 — ■ 5 ' 5 3.5· 5 5
Nd 0 ' 5 5
2 3 5 9 5 9 5 9 5
AJl2O3 4 4.5
La2°3 7 —— —— ——
MgO —_ .... —— 7
BaO __
Nd3+ (1020 Ionen/cm3) 12.9 12.5 13.0 12.8
σ (10"2° cm2) 4.4 3.9 4.5 4.0
α (10~7/oC) 90 94 90 85
α:
Wärmeausdehnungskoeffizient
12 .5 13 .1 12 .7 12. 9 9. 4 12 .8 14 .2 CO
3 .4 4 .2 3 .4 4. 2 4. 1 3 .5 4 .2 CO
85 70 91 89 92 84 90 CO I
CO
JUi srsc hni1 ht
zi< snt
1 Boispiel 2
Es wurden fünf Arten von SilicophosphaL-Lasergläsern entsprechend der Zusammensetzung des Versuchs Nr. 8 des Beispiels 1 hergestellt, wobei diesmal jedoch die Konzentra-
3 +
tion an Nd -Ionen geändert wurde. Es wurde die Fluoreszenzlebensdauer jedes Glases gemessen. Die erzielten Ergebnisse sind in der nachstehenden Tabelle II angegeben.
Die Fluoreszenzlebensdauer wird beeinflußt durch die Menge an in dem Glas enthaltenem OH. Daher ist der Infrarotabsorptionskoeffizient, der auf die O-H-Schwingung in der Nähe von etwa 3,3 um zurückzuführen ist, ebenfalls in der folgenden Tabelle II als Maß für die OH-Menge angegeben.
Tabelle II Änderung der Fluoreszenzlebensdauer
20 Nd3+ (1020 Ionen/cm3) 0.5 Fluoreszenzlebensdauer orη (us)
Absorptionskoeffizient 25
(cn"1) 5·«
8 1 12. 8 1 16. 7 24. 0
180 50 20 65
3. 2. 2 2. 4 2. 7
.8
4
Aus der vorstehenden Tabelle II geht hervor, daß das erfindungsgemäße Silicophosphat-Laserglas eine geringe Fluoreszenzkonzentrationsauslöschung aufweist und bis zu einem hohen Konzentrationsbereich mit Nd-O3 dotiert werden kann. Das erfindüngsgemäße Silicophosphat-Laserglas eignet sich daher zur Herstellung eines Laserglases mit einem hohen Wirkungsgrad und einem hohen Output in einer geringen Größe.
^5 Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf spezifische bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert,
-jf- 3
es ist jedoch für don Fachmann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht abgeändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der Rahmen der vorliegenden Er-fxndung verlassen wird.

Claims (1)

  1. Patentanspru c h
    5 Silicophosphat-Lasarglas, gekennzeichnet durch die folgende Zusammensetzung (in Mol-%):
    45 bis 70 % P2O 5 + 8 bis 30 % SiO2 65 bis 95 % P9O
    4 bis 20 % Li2O + Na3O +
    0,01 bis 12 % Nd3O3
    0 bis 10 % Al3O3
    0 bis 5 % La3O3 + Y2O3 +
    15 0 bis 10 % R1O und
    0 bis 1 % Nb3O5 + CeO2 worin R1 für Mg, Ca, Sr, Ba, Zn oder Pb steht.
DE19843435133 1983-10-04 1984-09-25 Silicophosphat-laserglas Ceased DE3435133A1 (de)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0218135A2 (de) * 1985-09-25 1987-04-15 Schott Glass Technologies, Inc. Siliziumdioxyd und Bor enthaltendes Ultraphosphatlaserglas mit einer niedrigen Konzentrationsabhängigkeit und Wärmeschockbeständigkeit
US4820662A (en) * 1985-03-19 1989-04-11 Hoya Corporation Silicophosphate laser glass
US4929387A (en) * 1988-08-31 1990-05-29 Schott Glass Technologies, Inc. Phosphate glass useful in high power lasers
US5032315A (en) * 1989-04-03 1991-07-16 Schott Glass Technologies, Inc. Phosphate glass useful in high power lasers
US6636347B1 (en) * 2000-11-08 2003-10-21 Corning Incorporated Phosphorus-silicate fibers suitable for extended band amplification
RU2531958C2 (ru) * 2012-05-02 2014-10-27 Корпорация "Самсунг Электроникс Ко., Лтд" Лазерное электрооптическое стекло и способ его изготовления

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8486850B2 (en) * 2010-09-13 2013-07-16 Schott Corporation Aluminophosphate glass composition

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4075120A (en) * 1975-05-14 1978-02-21 Kogre, Inc. Laser phosphate glass compositions

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4075120A (en) * 1975-05-14 1978-02-21 Kogre, Inc. Laser phosphate glass compositions

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4820662A (en) * 1985-03-19 1989-04-11 Hoya Corporation Silicophosphate laser glass
EP0218135A2 (de) * 1985-09-25 1987-04-15 Schott Glass Technologies, Inc. Siliziumdioxyd und Bor enthaltendes Ultraphosphatlaserglas mit einer niedrigen Konzentrationsabhängigkeit und Wärmeschockbeständigkeit
US4661284A (en) * 1985-09-25 1987-04-28 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Silica and boron-containing ultraphosphate laser glass with low concentration quenching and improved thermal shock resistance
EP0218135A3 (en) * 1985-09-25 1988-11-30 Schott Glass Technologies, Inc. Silica and boron-containing ultraphosphate laser glass with low concentration quenching and improved thermal shock resistance
US4929387A (en) * 1988-08-31 1990-05-29 Schott Glass Technologies, Inc. Phosphate glass useful in high power lasers
US5032315A (en) * 1989-04-03 1991-07-16 Schott Glass Technologies, Inc. Phosphate glass useful in high power lasers
US6636347B1 (en) * 2000-11-08 2003-10-21 Corning Incorporated Phosphorus-silicate fibers suitable for extended band amplification
RU2531958C2 (ru) * 2012-05-02 2014-10-27 Корпорация "Самсунг Электроникс Ко., Лтд" Лазерное электрооптическое стекло и способ его изготовления

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