DE3417579A1 - DEVICE FOR BURNING SEMICONDUCTOR COMPONENTS - Google Patents

DEVICE FOR BURNING SEMICONDUCTOR COMPONENTS

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DE3417579A1
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conveyor
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diffusion
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DE19843417579
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Samuel H. Northborough Mass. Coes
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Saint Gobain Abrasives Inc
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Norton Co
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    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
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    • C30B31/00—Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor
    • C30B31/06—Diffusion or doping processes for single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure; Apparatus therefor by contacting with diffusion material in the gaseous state
    • C30B31/10—Reaction chambers; Selection of materials therefor
    • C30B31/103—Mechanisms for moving either the charge or heater
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    • F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
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    • F27B17/0016—Chamber type furnaces
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Description

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WUESTHOFF-v.PECHMAN-JX-BiEHRRNS-GOETZ:WUESTHOFF-v.PECHMAN-JX-BiEHRRNS-GOETZ:

"- - DIPL.-1NG. GERHARD PULS (19J2-I971)"- - DIPL.-1NG. GERHARD PULS (19J2-I971)

EUROPEAN PATENTATTORNHYS ,„pl.-chem. dr. ε. Freiherr von pechmannEUROPEAN PATENTATTORNHYS, “pl.-chem. dr. ε. Baron von Pechmann

-If*-If * DR.-ING. DIETER BEHRENSDR.-ING. DIETER BEHRENS

DIPL.-1NG.; DIPL.-ITIRTSCH.-ING. RUPERT GOETDIPL.-1NG .; DIPL.-ITIRTSCH.-ING. RUPERT GOET

Norton Comrany J4 I /5/9Norton Comrany J4 I / 5/9

D-8000 MÜNCHEN 90 SCHWEIGERSTRASSE 2 D-8000 MUNICH 90 SCHWEIGERSTRASSE 2

telefon: (089) 66 20 ji Telegramm: protectpaTent telex: 524070phone: (089) 66 20 ji Telegram: protectpaTent telex: 524070

Vorrichtung zum Brennen von HalbleiterbauelementenDevice for burning semiconductor components

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Brennen von Dioden und Halbleiterplättchen aus Silizium, Germanium und dgl., um ein gesteuertes Eindiffundieren oder Dotieren der Plättchen zu erzielen.The invention relates to a device for burning diodes and semiconductor wafers made of silicon, germanium and the like., controlled diffusion or doping of the platelets to achieve.

Zum Stand der Technik wird auf die folgenden US-PS hingewiesen: 3 183 130, 3 570 827, 3 705 714, 3 811 829, 3 951 587. Die US-PS 3 183 130 und 3 951 587 beschreiben jeweils eine Vorrichtung zum Brennen von Halbleiterplättchen, die zunächst von einer Kammer umschlossen werden, die über einen Stapel der zu behandelnden Plättchen geschoben wird. Die Plättchen sind zum Brennen entsprechend vorbereitet, und dann wird die Diffusionshülle bzw. das Diffusionsgehäuse über den Stapel geschoben, wobei die Wahrscheinlichkeit groß ist, daß sich das Gehäuse und die Unterstützung der Plättchen aneinander reiben, wenn sie zusammengesetzt werden. Wenn die massiven Teile des Gehäuses und der Plättchenstütze miteinander in Berührung gelangen, ist es möglich, daß eines oder mehrere Staubteilchen oder sonstige Verunreinigungen von dem einen oder anderen Element durch Reiben freigesetzt und in der Atmosphäre innerhalb des Gehäuses dispergiert v/erden, wo sie möglicherweise mit der Oberfläche eines oder mehrerer der Plättchen in unmittelbare Berührung gelangen. Wenn eine unerwünschte Verunreinigung mit einem Plättchen während des Brennens in Berührung steht, ist es wahrscheinlich, daß diese Verunreinigung inRegarding the state of the art, reference is made to the following US Pat. Nos. 3,183,130, 3,570,827, 3,705,714, 3,811,829, 3,951,587 U.S. Patents 3,183,130 and 3,951,587 each describe an apparatus for firing semiconductor wafers, which are initially enclosed by a chamber that is covered by a stack of to be treated platelets is pushed. The platelets are appropriately prepared for firing, and then the diffusion envelope is made or the diffusion housing pushed over the stack, the probability is high that the housing and rubbing the support of the platelets together as they are assembled. When the massive parts of the Housing and the wafer support come into contact with each other, it is possible that one or more dust particles or other impurities released from one or the other element by rubbing and into the atmosphere within of the housing dispersed v / earth where it may be in close proximity to the surface of one or more of the platelets Get in touch. When an unwanted contamination comes into contact with a flake during firing it is likely that this contamination is in

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unerwünschter Weise in das Endprodukt diffundiert. Das Vorhandensein unerwünschter Verunreinigungen in einem gebrannten Plättchen ist meistens schädlich für die Leistung des Plättchens und ein Grund, das Plättchen zurückzuweisen.diffuses undesirably into the end product. The presence unwanted contamination in a fired wafer is most often detrimental to the wafer's performance and a reason to reject the tile.

In US-PS 3 570 827 und 3 705 714 sind auf Rädern abgestützte
Träger für zu brennende Plättchen gezeigt, die unmittelbar in eine Brennkammer verschiebbar sind. Jedes zu brennende Halbleiterprodukt, welches auf der Oberseite eines der Träger dieser Gebilde freiliegt, ist der Gefahr ausgesetzt, daß es für
Verunreinigungsteil'chen zugänglich ist, die durch die Wirkung der den Träger stützenden, längs des Bodens des Brennofens
abrollenden Räder in der Atmosphäre der Brennkammer schweben. Dies mögliche Dispergieren von Verunreinigungen in die Atmosphäre und auf die Oberflächen des zu brennenden Produktes kann zu einem unerwünschten Zurückweisen nicht ordnungsgemäß dotierter Produkte führen.In U.S. Patents 3,570,827 and 3,705,714 are wheel-based
Supports for burning platelets shown, which can be moved directly into a combustion chamber. Every semiconductor product to be burned, which is exposed on the upper side of one of the carriers of these structures, is exposed to the risk of it for
Contamination particles are accessible, through the action of the support supporting the carrier, along the bottom of the kiln
rolling wheels float in the atmosphere of the combustion chamber. This possible dispersion of impurities into the atmosphere and onto the surfaces of the product to be burned can lead to an undesirable rejection of improperly doped products.

In ÜS-PS 3 811 829 ist ein typischer Brennzyklus für die Herstellung von Halbleitern der Art beschrieben, auf die sich
die Erfindung bezieht. Allerdings ist .dort nicht beschrieben, wie das die Plättchen stützende Schiffchen aufgebaut ist oder wie die Beschickung der Brennkammer mit einem zu brennende
Plättchen tragenden Schiffchen erfolgt.ÜS-PS 3 811 829 describes a typical firing cycle for the manufacture of semiconductors of the type on which
the invention relates. However, there is no description of how the boat supporting the platelets is constructed or how the combustion chamber is loaded with one to be burned
Shuttles carrying platelets are carried out.

Die hier gezeigte Vorrichtung soll eine Vielzahl von Plättchen, beispielsweise Siliziumplattchen oder dgl. auf einer
Einrichtung abstützen, die die Plättchen einer Diffusionskammer zuführt, in der sie einer bestimmten Atmosphäre ausgesetzt und gebrannt werden, wobei die Erzeugung und/oder das Aufwirbeln jeglicher Verunreinigung weitgehend vermieden oder auf
ein Minimum eingeschränkt wird.The device shown here is to have a plurality of small plates, for example silicon plates or the like. On one
Support device which feeds the platelets to a diffusion chamber in which they are exposed to a certain atmosphere and fired, the generation and / or whirling up of any contamination largely avoided or on
is restricted to a minimum.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung zu schaffen,
bei der die Atmosphäre in der Brennkammer so rein wie möglich gehalten wird, um ein vollkommeneres Eindiffundieren eines
oder mehrerer Dotiermittel ohne Verschmutzung in die einzelnenThe object of the invention is to create a device
in which the atmosphere in the combustion chamber is kept as pure as possible in order to allow a more perfect diffusion of a
or multiple dopants without pollution in each

Plättchen zu erzielen.To achieve platelets.

Im einzelnen ist die hier offenbarte Träger- oder Fördereinrichtung zum Stützen des zu dotierenden Produkts so ausgelegt, daß sie nach Art eines Kragarms an einer beweglichen Fördereinrichtung bzw. einem Zubringer angebracht werden kann, der das Einführen des Trägers vom Stirnende her in die Brenn- und Diffusionszone ermöglicht. Das Einführen der das Plättchen tragenden Einrichtung in die Brennzone erfolgt, ohne daß es zu einer reibenden oder abwälzenden Berührung zwischen der Plättchenfördereinrichtung und der Wand oder dem Boden der Brennkammer kommt, so daß jegliche Möglichkeit ausgeschlossen ist, daß nicht wahrnehmbare Teilchen von Verunreinigungen erzeugt und/oder aufgewirbelt werden, die sonst erzeugt oder aufgewirbelt und in der Atmosphäre in der Brennkammer dispergiert werden könnten. Da es nicht mehr notwendigerweise zu einer reibenden oder abwälzenden Berührung zwischen dem Plättchenträger und der Wand der Diffusionskammer kommt, ist nicht nur ein vollkommeneres Brennen der Plättchen möglich sondern auch eine Vereinfachung des Brennofens.In detail is the carrier or conveyor device disclosed here designed to support the product to be doped in such a way that it is attached to a movable conveyor in the manner of a cantilever arm or a feeder can be attached, which allows the introduction of the carrier from the front end into the focal and Diffusion zone allows. The introduction of the device carrying the wafer into the burning zone takes place without it to frictional or rolling contact between the wafer conveyor and the wall or floor of the Combustion chamber comes up so there is no possibility of creating imperceptible particles of contaminants and / or whirled up that would otherwise be generated or whirled up and dispersed in the atmosphere in the combustion chamber could become. Since there is no longer any need for rubbing or rolling contact between the wafer carrier and the wall of the diffusion chamber comes, not only is a more perfect burning of the platelets possible, but also also a simplification of the kiln.

Der sogenannte Zubringer für die Trägereinrichtung kann verschiebbar an einer festen Stütze angebracht sein, wobei der Ofen sich in festem Verhältnis dazu befindet, damit die Trägereinrichtung in die Brennzone einsetzbar und aus ihr entfernbar ist, ohne mit den Wänden derselben in Berührung zu treten. Gemäß einer Alternative kann der Zubringer eine mit Rädern versehene Vorrichtung sein, die vorzugsweise auf einem Satz Schienen oder Kugellagerführungen bewegbar ist, so daß die an dieser Vorrichtung oder am Zubringer befestigte Trägereinrichtung in den Ofen und aus dem Ofen heraus gerollt werden kann. Bei einer anderen Variante kann der Zubringer mit der Trägereinrichtung fest und dauerhaft verbunden sein und diese Anordnung dauerhaft und fest mit einer Stütze verbunden sein, wobei der Ofen bewegbar angebracht ist. Jedoch sind im Rahmen der Erfindung auch noch weitere Abwandlungen möglich.The so-called feeder for the carrier device can be displaced be attached to a fixed support, the furnace being in fixed relationship therewith, with the support means can be inserted into and removed from the combustion zone without coming into contact with the walls of the same. According to Alternatively, the feeder may be a wheeled device, preferably on a set of rails or ball bearing guides is movable so that the carrier device attached to this device or to the feeder can be rolled in and out of the oven. In another variant, the feeder can be connected to the carrier device be firmly and permanently connected and this arrangement be permanently and firmly connected to a support, the Oven is movably attached. However, further modifications are also possible within the scope of the invention.

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Im folgenden ist die Erfindung mit weiteren vorteilhaften Einzelheiten anhand eines schematisch dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. In den Zeichnungen zeigt: The following is the invention with further advantageous details explained in more detail using a schematically illustrated embodiment. In the drawings shows:

Fig. 1 einen unter Weglassungen dargestellten vertikalen Schnitt durch eine Kombination aus Plättchenfördereinrichtung, Diffusionskammer und Ofen gemäß der Erfindung;Fig. 1 is a vertical shown with omissions Section through a combination of platelet conveyor, diffusion chamber and furnace according to the invention;

Fig. 2 den Schnitt längs der Linie 2-2 in Fig. 1.FIG. 2 shows the section along the line 2-2 in FIG. 1.

Das Brennen von Halbleiterelementen, wie Germaniumkristallen, Siliziumchips, Dioden und dgl. zum Dotieren erfolgt in herkömmlicher Weise, wie in einer der vorstehend genannten Patentschriften beschrieben. Dabei ist eine Reihe zu dotierender Plättchen oder Chips auf einer Einrichtung abgestützt bzw. getragen, die an einem Förderer oder einer Transportvorrichtung angebracht ist, um in Längsrichtung in eine langgestreckte Brennkammer bewegt zu werden. Die Diffusionskammer ist innerhalb eines Ofens angeordnet, der als Widerstandsheizeinrichtung ausgebildet sein kann, um die Temperatur des zu brennenden Produktes auf den gewünschten Bereich anzuheben, damit ein Dotiermittel in das Produkt eingeführt werden kann. Nach Beendigung der entsprechenden Diffusion werden die Plättchen oder Chips aus dem Ofen entnommen und abgekühlt.The firing of semiconductor elements such as germanium crystals, silicon chips, diodes and the like for doping takes place in a conventional manner Manner as described in one of the aforementioned patents. A number of these are to be doped Platelets or chips supported or carried on a device, which is attached to a conveyor or a transport device to convert longitudinally into an elongated Combustion chamber to be moved. The diffusion chamber is arranged inside a furnace, which acts as a resistance heating device can be designed to raise the temperature of the product to be burned to the desired range, so that a Dopants can be introduced into the product. After the corresponding diffusion has ended, the platelets become or chips removed from the oven and allowed to cool.

Bei der Vorrichtung gemäß der Erfindung ist ein Schiffchen 10, in das eine Vielzahl von Plättchen 12 parallel zueinander eingesetzt ist und einen Stapel bildet, von einer Fördereinrichtung 14 abgestützt. Die Fördereinrichtung hat einen festen, langgestreckten Körper, der so gestaltet ist, daß er in eine Diffusionskammer 16 innerhalb eines Diffusionsgefäßes 18 mit dem Ende voraus bewegbar ist, ohne daß dabei irgendein Teil der Fördereinrichtung oder des Schiffchens oder der Plättchen mit der die Diffusionskammer 16 begrenzenden Wand in Berührung tritt. Wie am besten in Fig. 2 erkennbar ist, hat die Fördereinrichtung vorzugsweise einen abgerundeten Boden 20, der mit einer die Diffusionskammer 16 begrenzenden Wand 22 unter Freihaltung eines Abstandes im wesentlichen konzentrisch ist, undIn the device according to the invention, a shuttle 10, in which a plurality of small plates 12 are inserted parallel to one another and forms a stack, supported by a conveyor 14. The conveyor has a fixed, elongated body which is designed so that it is in a diffusion chamber 16 within a diffusion vessel 18 with is movable ahead of the end without affecting any part of the conveyor or the shuttle or the platelets with the wall delimiting the diffusion chamber 16 in contact occurs. As can best be seen in FIG. 2, the conveying device preferably has a rounded bottom 20, which with a wall 22 delimiting the diffusion chamber 16 while being kept free of a distance is substantially concentric, and

die Fördereinrichtung hat eine konkave Oberseite 24, auf der ein oder mehrere Schiffchen 10 und die darin angeordneten Plättchen so abgestützt sind, daß die Plättchen einen Abstand von den Wänden der Kammer haben. Eine Fördereinrichtung dieser Art kann aus einem nichtporösen, inerten, feuerfesten Material bestehen, z.B. in bekannter Weise aus Siliziumkarbid- oder Siliziumnitridmaterial, wobei die Fördereinrichtung eine glatte Gestalt aufweist, die ohne weiteres mit Säure gesäubert und gewaschen werden kann, um Verunreinigungsstoffe von der Oberfläche zu entfernen.the conveyor has a concave top 24 on which one or more boats 10 and those arranged therein Platelets are supported so that the platelets are spaced from the walls of the chamber. A funding institution of this Art can consist of a non-porous, inert, refractory material, e.g. silicon carbide or silicon carbide in a known manner Silicon nitride material, the conveyor having a smooth shape that is readily acid cleaned and can be washed to remove contaminants from the surface.

Das Diffusionsgefäß 18 hat einen Einlaß 26, durch den während eines Brennvorganges eine gasförmige Atmosphäre in die Diffusionskammer 16 eingeleitet wird, wie z.B. aus US-PS 3 183 130 hervorgeht. Ferner hat das Gefäß ein offenes Ende 28, durch welches die Fördereinrichtung 14 mit ihrer Schiffchenladung Plättchen in Längsrichtung in die Diffusionskammer 16 einfahrbar ist. Die Fördereinrichtung ist, um in die Kammer bewegt werden zu können, an einem in Längsrichtung bewegbaren Zubringer 30 fest angebracht, so daß die Fördereinrichtung 14 der Wirkung nach einen einseitig eingespannten Träger bildet. Wenn der Zubringer zur Diffusionskammer 16 bewegt wird, bewegt sich das freie Ende der kragarmartig abgestütztenFördereinrichtung in Längsrichtung in das offene Ende 28 der Kammer und wird dann weiter in Längsrichtung in das Diffusionsgefäß 18 bewegt, um das beladene Schiffchen bzw. die Schiffchen 10 in die Diffusionskammer zu bringen, ohne daß dabei irgendein Teil der Fördereinrichtung oder der in dem von ihr abgestützten Schiffchen getragenen Plättchen mit der Wand 22 der Diffusionskammer 16 in Berührung gelangt. Wenn das freie Ende der Fördereinrichtung nach innen bis in die Nähe des Einlasses 26 bewegt worden ist, ohne diesen jedoch zu berühren, wird eine mit der Fördereinrichtung einstückig ausgebildete Abdeckung 32 in eine das offene Ende 28 der Diffusionskammer 16 verschließende Stellung bewegt. Damit ist die Fördereinrichtung 14 mit ihrer Schiffchenladung Plättchen vollständig innerhalb der Diffusionskammer angeordnet und die Plättchen sind dabei auf der krag- The diffusion vessel 18 has an inlet 26 through which during a gaseous atmosphere is introduced into the diffusion chamber 16 during a combustion process, for example from US Pat. No. 3,183,130 emerges. Furthermore, the vessel has an open end 28 through which the conveyor 14 with its boat load The platelets can be moved into the diffusion chamber 16 in the longitudinal direction is. In order to be able to be moved into the chamber, the conveying device is on a feeder which can be moved in the longitudinal direction 30 firmly attached so that the conveyor 14 effectively forms a cantilevered carrier. if the feeder to the diffusion chamber 16 is moved, moves the free end of the cantilever-supported conveyor in the longitudinal direction into the open end 28 of the chamber and becomes then moved further in the longitudinal direction into the diffusion vessel 18, around the loaded boat or boat 10 into the diffusion chamber to bring, without doing any part of the conveyor or in the boat supported by it worn platelets comes into contact with the wall 22 of the diffusion chamber 16. When the free end of the conveyor has been moved inward to the vicinity of the inlet 26, but without touching it, one with the Conveying device integrally formed cover 32 in a position that closes the open end 28 of the diffusion chamber 16 emotional. So that the conveyor 14 with its boat load of platelets is arranged completely within the diffusion chamber and the platelets are on the cantilever.

armartig abgestützten Fördereinrichtung 14 in die Diffusionskammer gebracht worden, ohne daß dabei irgendeine Möglichkeit für ein unerwünschtes Aufrühren besteht, was sonst durch abwälzende oder reibende Berührung der Fördereinrichtung und ihrer Schiffchenladung Plättchen mit der Vorrichtung beim Einführen der Fördereinrichtung in die Kammer geschehen könnte.arm-like supported conveyor 14 in the diffusion chamber has been brought without there being any possibility of undesirable stirring up, which would otherwise be caused by rolling or rubbing contact of the conveyor and its shuttle load of platelets with the device during insertion the conveyor into the chamber could happen.

Nach der Beschickung der Diffusionskammer 16 kann das Dotierverfahren in bekannter Weise durchgeführt werden, wobei Energie einer Induktionsheizvorrichtung 34 zugeführt wird, um die Plättchen auf die erwünschte Brenntemperatur zu bringen. Eine gasförmige Komponente kann auf dem Weg durch den Einlaß 26 durch die Diffusionskammer 16 und aus einer Entlüftungsöffnung 36 herausgeblasen werden, um die Atmosphäre innerhalb der Kammer zu steuern und jegliche gasförmigen Verunreinigungen auszuschließen und, gegebenenfalls, ein Dotiermittel zur Verfugung zu stellen. Das überschüssige Gas fließt dabei durch die Entlüftungsöffnung 36 in der Abdeckung 32 am Ende 28 des Diffuisonsgefäßes 18 aus der Diffusionskammer 16 heraus. Nach Beendigung des Brennzyklus werden die Plättchen aus der Kammer entzogen und gekühlt.After the diffusion chamber 16 has been charged, the doping process be carried out in a known manner, wherein energy is supplied to an induction heater 34 to the Bring the platelets to the desired firing temperature. A gaseous component can pass through inlet 26 through diffusion chamber 16 and out of a vent 36 to control the atmosphere within the chamber and to exclude any gaseous contaminants and, optionally, to provide a dopant. The excess gas flows through the Vent 36 in cover 32 at end 28 of the diffusion vessel 18 out of the diffusion chamber 16. To At the end of the firing cycle, the platelets are removed from the chamber and cooled.

Wie bekannt, kann das Schiffchen 10, das Diffusionsgefäß 18, die Fördereinrichtung 14 und andere Bauelemente des Ofens aus einem nichtporösen, rekristallisierten, mit Silizium imprägnierten Siliziumkarbid oder Siliziumnitrid oder einem anderen inerten, bei hohen Temperaturen beständigen feuerfesten Werkstoff hergestellt sein, einem Werkstoff, der im Gebrauch nicht quillt, durchsackt oder sich anderweitig verzerrt und der dem Wärmeschock standhalten kann, welcher durch das Einführen in den Ofen und die Herausnahme aus demselben entsteht.As is known, the shuttle 10, the diffusion vessel 18, the conveyor 14 and other components of the furnace made of a non-porous, recrystallized, silicon impregnated Silicon carbide or silicon nitride or another inert refractory material that is resistant to high temperatures be manufactured, a material that does not swell, sag or otherwise distort in use and the Can withstand thermal shock caused by insertion into and removal from the furnace.

Der Aufbau des Zubringers 30 ist nicht von kritischer Bedeutung, da dieser Teil der Vorrichtung sich in einer Umgebung mit Zimmertemperatur befindet. Bei dem Zubringer braucht es sich lediglich um ein angetriebenes Bauelement zu handeln, welches eine exakt gesteuerte Bewegungsbahn hat, um die frei-The structure of the feeder 30 is not critical as this part of the device is in an environment at room temperature. The feeder only needs to be a driven component, which has a precisely controlled movement path in order to

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tragende Fördereinrichtung 14 abzustützen und in die Diffusion ε kammer 16 zu leiten, ohne daß dabei von einem konstruktionsmäßig bestimmten Weg abgewichen wird. Auf diese Weise ist sichergestellt, daß weder die Fördereinrichtung noch deren Last während des Beschickungs- oder Brennvorganges irgendeine Berührung mit der Wand 22 der Diffusionskammer 16 eingeht.supporting conveyor 14 and into the diffusion ε to conduct chamber 16 without being structurally involved certain path is deviated from. In this way it is ensured that neither the conveyor nor their Load comes into contact with the wall 22 of the diffusion chamber 16 during the charging or burning process.

Claims (10)

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RUPFRT GOI Norton Company D-8000 MÜNCHEN 90Norton Company D-8000 MUNICH 90 IG-58 20h SCHWEIGERSTRASSE 2IG-58 20h SCHWEIGERSTRASSE 2 te le fon: (089) 66 20 j i telegramm: protectpatent Telex: 514070te le fon: (089) 66 20 ji telegram: protectpatent Telex: 514070 AnsprücheExpectations T/ Vorrichtung zum Brennen von Halbleiterbauelementen und dgl. mit einer Heizeinrichtung zum Brennen der Elemente und einer Diffusionskammer, die die zu brennenden Elemente umschließt, T / Device for firing semiconductor components and Like. With a heating device for burning the elements and a diffusion chamber that encloses the elements to be burned, dadurch gekennzeichnet , daß die Diffusionskammer (16) ein Diffusionsgefäß (18) aufweist, welches von einer Wand (22) begrenzt ist und ein offenes Ende (28) für die Aufnahme der zu brennenden Elemente hat, und daß die Heizeinrichtung mit der Diffusionskammer (16) unter Erwärmen der in der Kammer angeordneten Halbleiterelemente auf deren Brenntemperatur zusammenwirkt, daß eine Fördereinrichtung (14) die Halbleiterelemente trägt, daß ein zubringer (30), der zu dem offenen Eintrittsende der Kammer und von diesem eg bewegbar ist, die Fördereinrichtung stützt, daß die Fördereinrichtung (14) an dem Zubringer (30) so angebracht ist, daß sie wie ein freitragender Arm von ihr vorsteht, wobei das freie Ende des freitragenden Trägers dem offenen Ende (28) des Diffusionsgefäßes (18) gegenüber angeordnet ist und die Fördereinrichtung und die von ihr abgestützten, zu brennenden Elemente so gestaltet sind, daß das freie Ende der Fördereinrichtung (14) durch das offene Ende führbar ist, und daß die Fördereinrichtung (14) in das Diffusionsgefäß (18) bewegbar ist und darin verbleibt, wobei die auf der Fördereinrichtung befindlichen, zu brennenden Elemente innerhalb des Diffusionsgefäßes anbringbar sind, ohne daß irgendein Teil der Fördereinrichtung oder die von ihr abgestützten Elemente mit der das Diffusionsgefäß begrenzenden Wand und der die Elemente stützenden Förderein-characterized in that the diffusion chamber (16) has a diffusion vessel (18) which is from a wall (22) is limited and has an open end (28) for receiving the elements to be burned, and that the heating device with the diffusion chamber (16) with heating of the semiconductor elements arranged in the chamber to their firing temperature cooperates that a conveyor (14) carries the semiconductor elements that a feeder (30) to the open inlet end of the chamber and from this eg movable, the conveyor supports that the conveyor (14) is attached to the feeder (30) so that it protrudes from her like a cantilever arm, the free end of the cantilevered support the open end (28) of the diffusion vessel (18) is arranged opposite and designed the conveyor and the elements to be burned supported by it are that the free end of the conveyor (14) can be guided through the open end, and that the conveyor (14) is movable into the diffusion vessel (18) and therein remains, with the elements to be burned located on the conveying device being attachable within the diffusion vessel are without any part of the conveyor or the elements supported by it with the diffusion vessel delimiting wall and the conveyor system supporting the elements richtung während des Brennens in Berührung treten.direction while burning. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1,2. Device according to claim 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Diffusionsgefäß (18) langgestreckt ist, und daß die Fördereinrichtung (14) eine gleichfalls langgestreckte Vorrichtung ist, wobei die Elemente auf der Fördereinrichtung über die ganze Länge des Diffusionsgefäßes hinweg anbringbar sind.characterized in that the diffusion vessel (18) is elongated, and that the conveying device (14) is an equally elongated device, with the elements on the conveyor over the entire length of the Diffusion vessel are attachable away. 3. Vorrichtung nach Anspruch 2,3. Device according to claim 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Fördereinrichtung (14) ein längliches Schiffchen (10) trägt, welches mit zu brennenden Elementen beladen ist.characterized in that the conveyor (14) carries an elongated shuttle (10) which is loaded with burning elements. 4. Vorrichtung nach Anspruch 1,4. Apparatus according to claim 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Fördereinrichtung (14) ein Schiffchen (10) trägt, welches mit zu brennenden Elementen beladen ist.characterized in that the conveying device (14) carries a boat (10) which is to be burned Elements is loaded. 5. Vorrichtung nach Anspruch 1,5. Apparatus according to claim 1, dadurch gekennzeichnet , daß das Diffusionsgefäß (18) einen Einlaß (26) und eine Einrichtung aufweist, mittels der dem Einlaß eine gasförmige Strömung zuführbar ist, die durch das Gefäß zum offenen Ende (28) desselben zirkuliert.characterized in that the diffusion vessel (18) has an inlet (26) and a device, by means of which a gaseous flow can be fed to the inlet, which flow circulates through the vessel to the open end (28) thereof. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5,6. Apparatus according to claim 5, dadurch gekennzeichnet , daß die Fördereinrichtung (14) eine Abdeckung (32) aufweist, die das offene Ende (28) des Diffusionsgefäßes (18) abdeckt und eine Entlüftungsöffnung (36) aufweist, die das Zirkulieren der gasförmigen Strömung aus dem Inneren des Gefäßes erlaubt.characterized in that the conveying device (14) has a cover (32) which covers the open End (28) of the diffusion vessel (18) covers and a vent opening (36) which allows the gaseous flow to circulate from inside the vessel. 7. Vorrichtung nach Anspruch 1,7. Apparatus according to claim 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Zubringer (40) auf einer Stütze verschiebbar angebracht ist.characterized in that the feeder (40) is slidably mounted on a support. 58 2 0m58 2 0m 8. Vorrichtung nach Anspruch 1,8. Apparatus according to claim 1, dadurch gekennzeichnet , daß der Zubringer eine mit Rädern versehene Vorrichtung ist.characterized in that the feeder is a wheeled device. 9. Vorrichtung nach Anspruch 8,9. Apparatus according to claim 8, dadurch gekennzeichnet , daß die mit Rädern versehene Vorrichtung in einem Satz Lagerführungen verfahrbar ist.characterized in that the device provided with wheels can be moved in a set of bearing guides is. 10. Vorrichtung zum Brennen von Halbleiterbauelementen und dgl. mit einer Heizeinrichtung zum Brennen der Elemente und einer Diffusionskammer, die die zu brennenden Elemente umschließt, 10. Device for burning semiconductor components and Like. With a heating device for burning the elements and a diffusion chamber that encloses the elements to be burned, dadurch gekennzeichnet , daß die Diffusionskammer (16) ein Diffusionsgefäß (18) aufweist, welches von einer Wand (22) begrenzt ist und ein offenes Ende (28) für die Aufnahme der zu brennenden Elemente hat, und daß die Heizeinrichtung mit der Diffusionskammer (16) unter Erwärmen der in der Kammer angeordneten Halbleiterelemente auf deren Brenntemperatur zusammenwirkt, daß eine Fördereinrichtung (14) die Halbleiterelemente trägt, daß ein Zubringer (30) zum offenen Ende der Diffusionskammer (16) gerichtet ist, der die Fördereinrichtung (14) abstützt, daß die Fördereinrichtung (14) an dem Zubringer (30) so angebracht ist, daß sie wie ein freitragender Arm von ihr vorsteht, wobei das freie Ende des freitragenden Trägers dem offenen Ende (28) des Diffusionsgefäßes (18) gegenüber angeordnet ist und die Fördereinrichtung und die von ihr abgestützten, zu brennenden Elemente so gestaltet sind, daß das freie Ende der Fördereinrichtung (14) durch das offene Ende führbar ist, und daß die Heizeinrichtung und die Diffusionskammer (16) im Verhältnis zu der Fördereinrichtung (14) so bewegbar ist, daß die auf der Fördereinrichtung befindlichen, zu brennenden Elemente innerhalb des Diffusionsgefäßes anbringbar sind, ohne daß irgendein Teil der Fördereinrichtung oder die vonihr abgestützten Elemente mit der das Diffusionsgefäß begrenzenden Wand und der die Elemente stützenden Fördereinrichtung während des Brennens in Berührung treten.characterized in that the diffusion chamber (16) has a diffusion vessel (18) which is from a wall (22) is limited and has an open end (28) for receiving the elements to be burned, and that the heating device with the diffusion chamber (16) with heating of the semiconductor elements arranged in the chamber to their firing temperature cooperates that a conveyor (14) carries the semiconductor elements, that a feeder (30) to the open The end of the diffusion chamber (16) is directed to the conveyor (14) supports that the conveyor (14) is attached to the feeder (30) so that it protrudes like a cantilevered arm from her, the free end of the cantilevered support the open end (28) of the diffusion vessel (18) is arranged opposite and designed the conveyor and the elements to be burned supported by it are that the free end of the conveyor (14) can be guided through the open end, and that the heating device and the Diffusion chamber (16) can be moved in relation to the conveying device (14) in such a way that the elements to be burned within the diffusion vessel attachable without interfering with any part of the conveyor or the elements it supports with the diffusion vessel delimiting wall and the conveyor supporting the elements come into contact during firing.
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