DE3337874A1 - Optisches system zur erfassung von ausrichtungsmarken - Google Patents
Optisches system zur erfassung von ausrichtungsmarkenInfo
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Description
Dl Λ* ·ί·Λ·* ·ϊ·*..* ·· ·· Dipl.-lnq. H Tiedtke /
3 Dipl.-lng. R. Kinne
Dipl.-lng. R Grupe
* Dipl.-lng. B. Pellmann
Dipl.-lng. K. Grams Dipl -Chem. Dr. B. Struif
Bavariaring 4, Postfach 8000 München 2
f Canon Kabushiki Kaisha Tel.:089-539653
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Tokyo / Jap;-λη Telecopier: 0 89-537377
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■18. Oktober 1983 DE 3414
Die vorliegende Erfindung betrifft ein optisches System
zur Erfassung eines ?ehlausrichtungszustandes zwischen zv/ei zueinander auszurichtenden Objekten, genauer gesagt
:; ein optisches System zur Erfassung der relativen Lage
zwischen beiden Objekten, beispielsweise einer Maske
5 und eines Plättchens, die in bezug auf ein Projektiv eine konjugierte Lage einnehmen,in einer Belichtungsund
Ausrichtungsvorrichtung zur Herstellung von Halbleiterschaltungen.
10 Die neueren Trends in bezug auf eine höhere Funktions-
-■' - geschwindigkeit und größere Leistung von Halbleitern
führen zwangsweise zu einer Reduzierung der minimalen projizierbaren Breite einer Linie in einer Schaltungs-
:. schablone. Wie bekannt ist, werden Halbleiterschaltungs-15
elemente hergestellt, indem mehrere komplizierte Scha-
■ blonen auf einem Halbleitersubstrat aus Si o.a. über-
?. einander angeordnet werden. Eines der Probleme in bezug
1 auf eine weitere I.iiniaturisierung besteht darin, wie
\ fein Schablonen auf das Substrat projiziert werden können,
20 während ein anderes Problem in der Genauigkeit der Aus-ΐ.
richtung zwischen den übereinander gelagerten Schablonen !<,; ' zu sehen ist. Normalerweise wird keine größere Genauigkeit
i,} gefordert als l/5 - 1/1O der minimalen Linienbreite der
Echaitungsschablonen. Es ist daher nicht selten, daß die
Ausrichtungsgenauigkeit bei der Herstellung zu wünschen übrig läßt. Um dies zu verhindern, hat man in neuerer
Zeit einen automatischen Ausrichtungsmechanismus entwickelt,
der den vorstehend erwähnten Ausrichtungsvörgang
automatisch durchführt. Diese Vorrichtung hat die Bedienungspersonen
von einfachen und routinemäßigen Arbeiten befreit und zu einem Ausrichtunrsvorgang mit hoher
Geschwindigkeit, gleichmäßiger Qualität und hoher Prä—
zision geführt.
7/enn man eine wünschenswerte automatische Ausrichtung
be/ ι
mit einer solchen Vorrichtung erzielen will, steht aas Hauptproblem in der Erfassung der zu verarbeitenden Informationen.
Die elektrische Verarbeitung von Signalen ist nicht so flexibel wie bei einer direkten Beobachtung
der Objekte durch eine Bedienungsperson und einer ent-'
sprechenden Ausrichtung durch diese. Aus diesem Grunde sind bei einem optischen Beobachtungssystem ode^r einem
optischen Belichtungssystem verschiedene Hilfsmittel erforderlich, um ein besseres Signal-Rausch-Verhältnis
zu erzielen.
Die i.iaske, bei der es sich um einen der auszurichtenden
Gegenstände handelt, besitzt einen relativ einfachen Aufbau mit einer Glasplatte und einer musterartigen
dünnen Schicht aus Chrom oder Chro.n-Chromoxid.Das Blättchen
hingegen weist eine komplizierte Struktur lauf,
was auf die verschiedenen übereinander gelagerten Schablonen und die darauffolgende Diffusion von Verunreinigungen
sowie andere Bearbeitungsvorgänge zurückzuführen ist, so daß der Zustand der Plättchenoberfläche
starken Schwankungen ausgesetzt ist. Hinzu kommt, daß das Plättchen auf seiner Oberfläche eine dünne Schicht »
eines Fotoresists aufweist, wenn es über die Maske be-
lichtet wird, wobei die Dicke des Fotoresists und deren Ungleichmäßigkeit die Erfassung des Plättchensignales
beeinflussen.
Um beim Abtasten des Plättchens, das die vorstehend beschriebenen
veränderlichen Größen aufweist, ein gutes Signal-Rausch-Verhältnis zu erzielen, ist bereits eine
Reihe von Vorschlägen unterbreitet worden. Ein solcher Vorschlag ist beispielsweise in der offengelegten japanischen
Patentanmeldung 1 32 o5i/i977 des gleichen Anmelders
enthalten. Hierbei wird das Objekt von einem Punkt oder einem Schlitz eines Laserstrahles, der eine
große Helligkeit aufweisen kann, abgetastet. Um das Signal-Rausch-Verhältnis zu verbessern, wird als Licht,
das einem Potosensor zugeführt werden soll, nur die Streustrahlung erfasst. Wenn man diese Vorgehensweise jedoch
so wie sie ist bei einer Ausrichtung anwendet, bei der das Plättchen durch das Plättchen beobachtet
wird, treten Probleme in bezug auf die Überlagerung des Laserstrahles auf. Insbesondere findet eine Überlagerung
zwischen dem unmittelbar von der Maske zerstreuten Licht und dem nach dem Streuvorgang durch das
Plättchen zurückgeführten Licht statt. Das hieraus entstehende Signal ist in bezug auf die Zeit nicht konstant»so
daß sich unbeständige und unzuverlässige Messungen ergeben.
Um/
äas Auftreten von derartigen -^n erwünscht en Überlagerungen
zu verhindern, wurde bereits in der offengelegten japanischen Patentanmeldung Nr. 245Ο4/19&1 vorgeschlagen,
ein optisches Projektionssystem zwischen der Maske und
dem Plättchen anzuordnen und dieses System mit einem Element entsprechend einer i/4 λ Platte (eine einer
Viertelwelle entsprechende Platte) zu versehen, um dadurch das direkt von der Maske reflektierte Licht vom
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anderen Licht mit Hilfe von Polarisation zu trennen. Bei der Ausbildung eines derartigen optischen ProjektionS-systems
stellt es jedoch eine starke Einschränkung dar, wenn ein derartiges, einer λ/A Platte entsprechendes
Element eingebaut werden muß. Aus diesen Gründen findet bei der herkömmlich ausgebildeten Vorrichtung eine austauschbare
Linse Verwendung, die eine λ/4 Platte aufweist und zun Zeitpunkt des Ausrichtungsvorgangep einen
Teil des Projektives ersetzt. Als Alternative wird in
dem optischen Projektionssystem ein mit einem speziellen
Überzug beschichteter Spiegel vorgesehen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die vorstehend beschriebenen Nachteile des Standes der Technik zu vermeiden.
Insbesondere soll ein optisches System zu Erfassung von Ausrichtungsmarken geschaffen werden, mit dem
die gegenüberliegenden Flächen der I«!aske und des Plättchens,
d.h, die Rückseite der Maske und die Vorderseite des
Plättchens, unmittelbar' angestrahlt und die von den öntsprechenden
Flächen reflektierten Strahlen in einen Potorezeptor
eingeführt werden können. Die Bezeichnung "unmittelbar"
soll hierbei bedeuten, daß der Beleuchtungsstrahl oder der reflektierte Strahl, nachdem er von einer
der Flächen reflektiert worden ist/ unmittelbar auf einen
Fotorezeptor gerichtet wird, ohne die andere Fläche nochmals zu erreichen.
Die Erfindung bezweckt ferner die Schaffung eines optischen Systems zur Erfassung von Ausrichtungsmarken, bei dem
keine λ /4 Platte o.a. in die optische Bahn des bildprojizierenden
Lichtes eingesetzt werden muß und bei dem die Signale von der Maske und vom Plättchen voneinander
getrennt werden können.
Es soll des weiteren ein optisches System zur Erfassung von Ausrichtungsmarken zur Verfügung gestellt werden»
das keinerlei Beschränkungen im bezug auf bestimmte farben
aufweist, die durch den Unterschied in der Wellenlänge des zur 3elichtung und zur Ausrichtung dienenden Lichtes
verursacht werden, so daß eine Beeinflussung des optischen Projektionssystems durch chromatische Aberration vermieden
werden kaiva.
Schließlich soll durch die Erfindung ein otpisches System zur Erfassung von Ausrichtungsmarken geschaffen
werden, das an die Beschaffenheit eines optischen Projektionssystems
angepaßt ist, um die Hasken- und Plättctiensignale
mit hoher Wirksamkeit herausführen zu können.
Die vorstehend genannte Aufgabe wird durch ein System nach Patentanspruch 1 gelöst.
Weiterbildungen des Erfindungsgegenstandes gehen aus den Unteransprüchen hervor.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen
in Verbindung mit der Zeichnung im einzelnen erläutert. Hierbei weist bei einer Ausführungsform der
vorliegenden Erfindung das optische System einen Polarisationsstrahlenteiler auf, der zwischen dem Plättchen
und der Maske angeordnet ist. Es zeigen:
Figur 1 eine optische Anordnung, bei der ein erfindungsgemäß
ausgebildetes optisches System in eine automatische Ausrichtungseinrichtung für eine
Schritt- und Repetier-Ausrichtungs- und BeIichtungsvorrichtung
eingearbeitet ist;
Figur 2 ein Beispiel von Ausrichtungsmarken, die bei der Erfindung Verwendung finden;
Figur 3 eine optische Anordnung, bei der eine andere
Ausführungsforra des erfindungsgemäß ausgebildeten
optischen Systems in eine automatische Ausrichtungseinrichtung für eine Schritt- und
Repetier-Ausrichtungs- und Belichtungsvorrich
tung eingebaut ist; und
Figur 4 eine weitere Ausführungsform eines erfindungsgemäß
ausgebildeten optischen Systems.
In Verbindung mit Figur 1 wird nachfolgend eine erste Ausführungsforn der vorliegenden Erfindung beschrieben,
bei der das optische System in eine Ausrichtungseinrichtung für eine Schritt- und Repetier-Ausrichtungs-
und Belichtungsvorrichtung eingebaut ist. Ein optisches Projektionssystem, das aus einer vorderen Linsengruppe
4-1 und einer hinteren Linsengruppe 4-2 besteht,wirft
ein Bild einer Maske oder einer Strichplatte 1 (hiernach nur als Maske bezeichnet) im gleichen oder verkleinerten
Maßstab auf ein auf einem Objekttisch 3 angeordnetes Plättchen 2. Zwischen den Linsengruppen 4-1 und 4-2
ist ein Strahlenteiler 5 als Teil des optischen Projektionssystems
angeordnet. Der Strahlenteiler 5» dessen Funktionsweise von der Wellenlänge des verwendeten
Strahles abhängt, ist so ausgebildet, daß er als Polarisationsstrahlenteiler für den Ausrichtungsstrahl und in
einfacher Weise als Platte gleicher Dicke für den Belichtungsstrahl wirkt, wenn sich die Wellenlänge des
Ausrichtungsstrahles von der des 3elichtungsstrahles unterscheidet. Wenn man davon ausgehen kann, daß keine
wesentliche Differenz in der Wellenlänge besteht, funktioniert das Element 5 als Strahlenteiler. Es ist
zweckmäßig, den Strahlenteiler 5 beispielsweise an der
* · ft *
Pupille des optischen Projektionssystems anzuordnen.
Figur 1 zeigt einen solchen Fall.
Die Hauptteile des optischen Projektionssystems sind die
Linsengruppen 4-1 und 4-2 und der dazwischen angeordnete
Strahlenteiler 5· Gemäfi dieser Ausführungsform der Erfin
dung ist das optische Ausrichtungssystem an der Stelle des Strahlenteilers 5 eingesetzt. Dies stellt ein wichtiges
Merkmal dieser Ausführungsform dar.
Bei diesem System ist eine Laserquelle 14 zur Erzeugung eines Laserstrahles vorgesehen, der über eine Sammellinse
'13 auf einen polygonalen Spiegel 12 fällt, der
den Strahl zur Abtastung ablenkt. Der Strahl passiert dann eine Relaislinse 10 und erreicht den Strahlenteiler
5. Der Strahl wird durch den Strahlenteiler 5 in zwei Strahlen aufgeteilt. Wenn es sich bei der Laserquelle
um einen Polarisationslaser handelt, muß die Polarisationsrichtung des erzeugten Strahles vorgegeben werden
bzw. es kann ein Element 9, beispielsweise eine λ/4 oder λ /2 Platte, zum Steuern des Polarisationszustandes
eingebaut werden, wie in Figur 1 gezeigt. Zwischen dem polygonalen Spiegel 12 und der Relaislinse
12 befindet sich ein anderer Strahlenteiler 11, der den Strahl auf ein fotoelektrisches Erfassungssystem
richtet, das nachfolgend beschrieben wird. Wenn als Strahlenteiler 11 ein Polarisationsstrahlenteiler
verwendet wird, wird die Polarisationsrichtung des auf die Relaislinse 10 fallenden Strahles entsprechend
festgelegt. Ih diesem Fall wird als Element 9 eine
λ/4 Platte eingesetzt, um den Polarisationszustand
zu steuern. Wie vorstehend erläutert, ist der Strahlenteiler 5 an der Pupille der Linse angeordnet.
Der Reflektionspunkt am polygonalen Spiegel 12 befindet
'- ιοΓ-
sich in einer zur Pupille konjugierten Lage. Der vom
Strahlenteiler reflektierte Strahl wird durch die Linsengruppe 4-2 auf die Oberfläche des Plättchens 3 '
gerichtet, auf der der Strahl abgebildet wird und diese · Oberfläche in Abhängigkeit von der Ablenkung durch den ;
polygonalen Spiegel 12 abtastet.
Die Relaislinse 10 ist in der Lage, die Aberration zu korrigieren, so daß durch die Linsengruppe 4-2 ein Punkt
des Strahles auf der Oberfläche des Plättchens 2 ausgebildet wird. Der vom Plättchen 2 reflektierte Strahl
wird wiederum über den Polarisationss'trahlenteiler 5 . reflektiert und auf die Relaislinse 10 gerichtet, wonach
der Strahl durch den Strahlenteiler 15 auf das fotoelektrische Erfassungssystem gerichtet wird, das die Elemente
15-17 umfasst. Unter diesen Elementen befindet sich ein Ortsfrequenzfilter 15, das ein Dunkelfeld für die Erfassung
vorsieht, eine Sammellinse 16 und ein Fotodetektor 17·
Das Filter 15 ist so angeordnet, daß es eine zum Reflektionspunkt des polygonalen Spiegels konjugierte Lage einnimmt.
Der Reflektionspunkt ist unabhängig von der Rotation des Spiegels 12 fixiert, so daß der vom Plättchen
2 spiegelnd reflektierte Lichtstrahl an einem festen Punkt auf das Filter trifft. Der vom polygonalen Spiegel
12 projizierte Strahl ist schraffiert dargestellt. Es tritt hierbei der gleiche Effekt wie in der offengelegten
japanischen Patentanmeldung Nr. 132&51/1977 auf, daß der projizierte Strahl eine kleinere Breite besitzt
als die Breite, mit der der Strahl das optische System von der Linsengruppe 4-2 zur Relaislinse, passieren
kann.
Am fotoelektrischen Erfassungssystem kann nur der gestreute Strahl erfasst werden. Der nicht gestreute
Strahl, d.h. der vom Plättchen spiegelnd oder normal reflektierte Strahl, verfolgt den auftreffenden Strahl
zurück, d.h. der spiegelnd reflektierte Strahl "besitzt
eine solche Breite wie der schraffierte Teil des auf-
- treffenden Strahles, so daß er von dem örtsfrequenz-
filter 15 blockiert wird. Der von den Rändern der auto-5
raatisehen Ausrichtungsmarken am Plättchen 2 gestreut re-
z_- flektierte Strahl verläuft nicht zurück, sondern wird
auf einen ausserhalb des schraffierten Teiles befindlichen Bereich gerichtet. Somit werden am Ortfrequenz-
*; filter 15 das Streulicht und das nicht gestreute Licht
Γ 10 in klarer Weise räumlich voneinander getrennt. Allein
das Streulicht kann das Filter 15 passieren und den
;.:■ Fotodetektor 17 erreichen.
ψ'- , . Der den Polarisationsstrahlenteiler 5 passierende Strahl
'- 15 wird zur Erfassung der erforderlichen Informationen auf "1;'- der Strichplatte oder der Maske 1 verwendet. Dies wird
i;..:. nachfolgend im einzelnen beschrieben. Der Strahl, der
;- den Strahlenteiler 5 passiert hat, wird auf eine ,,λ/4
Platte 6 gerichtet, die die Polarisationsrichtung des
fi 20 Strahles nach der Reilektion durch einen Spiegel 8 ändert.
Der vom Spiegel 8 reflektierte und in bezug auf I ; seine Polarisationsrichtung von der A /A Platte geän-
: derte Strahl wird nunmehr vom Strahlenteiler 5 reflektiert und durch die Linsengruppe 4-1 zur Rückseite der
[ 25 Maske 1 gerichtet, die dem Plättchen 2 gegenüberliegt.
r Vom Prinzip der Abtastung mittels Laserstrahl her ver-
;; steht es sich, daß der Strahl einen deutlichen Punkt
.? :. auf der Strichplatte oder Maske 1 bilden muß. Dies wird
vfv . 30- über die Linse 7 und den Spiegel 6 erreicht. Bei der
f. " Linse 7 muß es sich um eine telezentrische Linse handeln,
·-' wenn sich der Strahlenteiler 5 an der Pupille des
... Pojektives befindet. Der Punkt des Strahles kann ge-
(>},. · steuert werden, indem der Spiegel ö entlang der optischen
J5T". 35 Aöhse der Linse 7 bewegt wird.
V ■'■ " - -
^o3/8
— 1 0 _
Der von der Maske 1 reflektierte Strahl wird dann vom
Strahlenteiler 5 über die ^/4 Platte 6 auf den Spiegel
δ reflektiert. Der Strahl wird vom Spiegel δ reflektiert
und passiert wiederum die "X/A Platte 6. Aufgrund der
Rotation der Polarisationsrichtung des Strahles passiert der Strahl nunmehr den Strahlenteiler 5 und wird über die
Relaislinse 10 auf den Fotodetektor 17 gerichtet.
Derjenige Teil des optischen Systems, der die Linse 7 und den Spiegel δ umfasst, bildet ein optisches System
nach Art eines Katzenauges. Hiermit kann über die Linsengruppe 4-1 des optischen Projektionssystemes ein
Punkt des Laserstrahles auf der Strichplatt e oder Maske
1 erzeugt werden. Somit ist es möglich, einen Laserstrahlpunkt sowohl auf der Maske 1 als auch auf dem Plättchen
2 auszubilden.
Wenn das optische Projektionssystem einschließlich der Linsengruppen 4-1 und 4-2 so ausgebildet ist, daß es
an das Belichtungssystem angepasst ist, beispielsweise eine g-Strahlung (Wellenlänge 436 nm), führt der von
einer He-Ne Laserquelle (633 nm) erzeugte Ausrichtungsstrahl normalerweise zu einer großen Differenz in bezug
auf die chromatische Aberration. Wenn, daher der Strahl mit g Strahlung auf der Llaske 1 und dem Plättchen 2
fokussiert ist, ist der Strahl mit der 633 nm Wellenlänge auf dem Plättchen stark defokussiert. Bei dieser Aubführungsform
der vorliegenden Erfindung, bei der die optischen Elemente 7 etc. Verwendung finden, können jedoch
mit aem Strahl mit 633 nm Wellenlänge sowohl auf der Maske als auch auf dem Plättchen 2 scharf abgegrenzte
Punkte erzeugt werden, ohne den Strahl mit g Strahlung zu defokussieren.
Der von der Strichplatte oder der TJaske 1 herrührende
Strahl wird auch über den Ctreuetrahl erfasst. Dies
ist offensichtlich, v/enn man den schraffierten Bereich
des Strahles betrachtet. Die Ctreustrahlsignale,die durch
die durch die Ablenkung des polygonalen Spiegels 12 bewirkte Abtastung, der I.'aske 1 und des Plättchens 2 erzeugt
werden, werden vom Fotodetektor 17 erfasst. Das Ausgangssignal des Fotodetektors 17 wird über einen Verstärker
18 und eine Impulserneuerungsschaltung 19 zu einem Signal-Verarbeitungssystem
20 geführt. In Abhängigkeit von dem Ausgangssignal des Signalverarbeitungssystems 20 wird
die Relativlage zwischen der Maske 1und dem Plättchen 2
beispielsweise mit Hilfe eines Plättchenantriebes 21 geändert.
Anstelle des Plättchens 2 kann auch die Strichplatte
. oder Maske 1 bewegt werden. In diesem Fall ist die Genauigkeit in der Bewegung entsprechend der Vergößerung
Weniger kritisch.
Bei der vorstehend beschriebenen Ausführungsform erfasst djas optische System das Plattchen2 und die Kaske 1 im
wesentlichen unabhängig voneinander, so daß keine Überlagerung des Strahles für das Plättchen 2 und des Strahles
für die Kaske 1 stattfindet. Die erhaltenen Signale sind daher sehr beständig, so daß in der beschriebenen
voneinander getrennten Weise eine hohe Erfassungsgej n&uigkeit erzielt werden kann. Diese Beständigkeit ist
j ein besonderer Vorteil der Erfindung und trifft auch auf die hiernach beschriebenen weiteren Ausführungsforraen
zu.
Die in Figur 2 dargestellten Ausrichtungsmarken sind
bekannt. Die Maske 1 weist die Marken 25 und das Platt-
:
chen 2 die gestrichelt dargestellten Marken 26 auf. Die
Karken 25 und 26 werden entlang einer Abtastzeile 27
von einem Laserstrahl abgetastet. Die Abbildungen der
Karken auf der Iuaske 1 und dem Plättchen 2 werden wie
die in Figur 2 gezeigten übereinander' angeordneten Marken beobachtet. Der StiEUstrahl wird erfasst, wenn
er auf die Marken 25 und 26 trifft. Das Ergebnis dieser Erfassung wird in eine Reihe von elektrischen Impulsen
umgewandelt. Durch Messung der Zeitintervalle zwischen
den einzelnen Impulsen kann die Relativlage zwischen der ir.aske 1 und dem Plättchen 2 erfasst werden. ·
In Figur 3 ist eine andere Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung dargestellt, die sich von der der Figur 1 dadurch unterscheidet, daß eine Relaislinse
31 verwendet wird, da der verwendete Laserstrahl und ' der Aufbau des fotoelektrischen Erfassungssystems verschieden
sind. Bei dem in Figur 3 dargestellten System wird das Plättchen 2 über die Linsen 31» 10, 4-2 und
die Maske 1 über die Linsen 31, 10,7, 4-1 abgetastet.
Beide Abtastsysteme sollten sogenannte f-0 Charakteristika
aufweisen, d.h. eine gleichmäßige Geschwindigkeit, mit der sich der Abtastpunkt auf der abzutastenden
Oberfläche über den abzutastenden Bereich bewegt. Die Abbildung des Punktes ist in Figur 3 dargestellt, wobei
der schraffierte Bereich den wirksamen Druphmesser des Laserstrahles darstellt, wie bei der Ausführungsform der Figur 1.
Unterschiedlich gegenüber der Ausführungsform der Figur 1 ist das fotoelektrische Erfassungssystem abstromseitig
des Strahlenteilers 11. Dieses System umfasst eine Pupillenabbildungslinse 32, einen Polairisationsstrahlenteiler
33» Ortsfrequenzfilter 15 und. 15, Sammellinsen 16 und 16 und Fotodetektoren 17 und 17·
Die beiden Strahlen von der Maske 1 und dem Plättchen 2, ? die danach über den Strahlenteiler 5 vereinigt werden,
weisen unterschiedliche Polarisationsrichtungen auf, die
senkrecht aufeinander stehen. Aus diesem Grunde wird 5 der Strahlenteiler 33 verwendet.
Die Polarisation des auf den Polarisationsstrahlenteiler
•fr :. 5 auf treffenden Strahles muß derart sein, daß sowohl P
■; als auch S Komponenten vorhanden sind, so daß eine Auf-
10 teilung in einen auf die Maske 1 und einen auf das
Plättchen 2 gerichteten Strahl stattfinden kann. Wenn eine einen polarisierten Laserstrahl erzeugende Quelle
verwendet wird, kann die Polarisationsrichtung des abge-"*'
gebenen Strahles in geeigneter ',','eise festgelegt werden.
■ : 15 Es ist jedoch auch möglich, eine λ/4 Platte 9 zu verwenden,
um einen Strahl mit P und S Komponenten zu erhalten.
In einem solchen Falle ist eine zusätzliche }[/A Platte 9' erforderlich. In jedem Fall weist
t:.- . der von dem Strahlenteiler 5 wieder in einen einzigen
* ■ 20 Strahl umgewandelte Strahl 2 Informationsteile auf,
wobei es sich zum einen um die Information des Plätt-
^; ■ chens 2 als in eine bestimmte Richtung polarisierter
;- ' Strahl und zum anderen um die Information der Maske
^- ' als in eine dazu senkrechte Richtung polarisierter
"-.- 25 Strahl handelt. Das fotoelektrische Erfassungssystem
r- der Figur 3 ist so ausgebildet, daß es wieder eine
Trennung in die entsprechenden Signale durchführt, die : getrennt voneinander elektrisch verarbeitet werden.
;· Ih diesem Fall kann der Strahl von der Maske 1 in einem
.';■'' 30 Hellfeld erfasst werden, da das Objekt aus Glas und
1 Chrom oder Chromoxid besteht, die recht unterschiedliche
,:;,- Reflektionsfaktoren aufweisen. Um das Hellfeld vorzu
sehen, kann das zugehörige Ortsfrequenzfilter 15 durch
i. ein transparentes Glas 34 ersetzt werden, oder das
Ψ 35 Filter 15 kann einfach weggelassen werden. Der Strahl
- 16 -
vom Plättchen 2 hingegen wird aufgrund des besseren Signal-Rausch-Verhältnisses besser in einem Dunkelfeld
erfasst. Die im Dunkelfeld erfasste Lichtmenge ist um eine Sxufe kleiner als die in einem Hellfeld ermittelte
Menge. Wenn der Strahl von der Maske 1 in einem Hellfeld erfasst wird, ist es möglich, das Verhältnis zwischen der
P-Polarisationskomponente zur S-Polarisationskomponente
des zuerst auf den Polarisationsstrahlenteiler auftreffenden Strahles beispielsweise so zu steuern, daß die PoIarisationsrichtung
des erzeugten Laserstrahles derart geändert wird, daß das Plättchen 2 eine größere Lichtmenge
empfängt. Selbst wenn infolge von DickenSchwankungen
des Fotoresistec das Ausgangssignal des Hellfeldes des Pia*.Gehens 2 Schwankungen ausgesetzt ist|ist die über
die Polarisation durchgeführte Trennung wirksam genug, um das Hellfeldausgangssignal der Stiichplatte oder
Maske 1 beständig zu halten.
Das System der Figur 3 umfasst des weiteren einen Erektor 35 und ein Okular 36, um ein optisches Beobachtungssystem für die Maske 1 und das Plättchen 2 zu bilden.
Ein derartiges Beobachtungssystem ist für die Funktionsweise der Vorrichtung wünschenswert. Aus Gründen der
Einfachheit ist ein derartiges System jedoch nur in Figur 3 gezeigt und aus den Figuren 1 und 4» die nachfolgend
beschrieben wird, weggelassen worden.
In Figur 4 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung dargestellt, bei der ein optisches Beobachtungssystem,
das die Elemente 41, 5 und 42 umfasst, zwischen das optische Projektionssystem 40 und das Plättchen
eingesetzt ist. Bei den optischen Elementen 41» 5 und 42 handelt es sich um zwischengeschaltete optische
Elemente, die jeweils mit einer Vergößerung von 1:1 versehen sind, so daß sich durch die Einschaltung
17 -
dieser Elemente die Fokussierung und die Bildvergrößerung
nicht ändern, '-s ist auch in diesem Fall wünschenswert,
daß ein Poiansationsstruhlen teiler 5 verwendet
wird. Die Punktione;! der Λ /4 Platte 6, der Korrekturlinse
45 und des Reflektionsspiegels fe entsprechen denen
der Ausführungsfor.T.en der Figuren 1 und 3.
Diese Äusführungsform ist insofern vorteilhaft, als daß
das Plättchen 2 direkt beobachtet werden kann, d.h.
nicht über ein optisches Projektionssystem 4C. Selbst
wenn die numerische Apertur Il λ des optischen Projektionssystems klein ist, kann ein hoher Genauigkeitsgrad in
bezug auf die Ausrichtung erforderlich sein. In einem solchen Fall existiert das Problem, daß das Plättchen
mit einer so hohen Auflösung wie möglich beobachtet wird· Dies ist darauf zurückzuführen, daß die LlaskenschablQne
infolge ihrer Schärfe an den Sci.ablonenrändern
einfach beobachtet werden kann, während das Plättchen 2 eine komplizierte Struktur besitzt. Bei der vorliegenden
Ausführungsform kann die numerische Apertur des optischen Beobachtungssystems unabhängig von der ΝΆ
des optischen Projektionssystems ausgewählt werden, so
daß der Durchmesser des Abtastpunktes kleiner ausgebildet sein kann als bei der Beobachtungs des Plättchens 2
durch das optische Projektionssystem 40. Die Reduktion
des Durchmessers' des Abtastpunktes entspricht dem Anstieg der NA des Äbtastpunktes. Wenn die numerische
Apertur: des Abtastpunktes ohne Änderung der NA des optischen Projektionssystems erhöht wird, kann man es
sich nicht erlauben, den Streustrahl herauszunehmen
und somit das Ausgangssignal des fotoelektrischen Detektors
herabzusetzen. Y/ie man aus Figur 4 entnehmen kann, . entspricht dies einem Anstieg des schraffierten Bereiches
und einer Abnahme des nicht schraffierten Bereiches des gesamten Strahles. Deshalb ist ein System, daß das
Plättchen 2 direkt beobachtet, von Vorteil, da das
Plättchen 2 mit einer größeren NA beobachtet werden
kann als bei deni optischen Projektionssystem 40.
Femer ist diese Äusführungsform insbesondere dann
vorteilhaft, wenn der Lbertragoii^sfaktor des optischen
Projektionssystem 40 nicht so hoch ist, da das schwierig zu beobachtende Plättchen 2 ohne Beeinträchtigung
durch den relativ niedrigen Übertragungsfaktor direkt beobachtet w^rd. Der von der i.'.aske oder Strichplatte
1 herrührende Strahl wird einmal vom Spiegel 6 reflektiert und d...ui aufgrund der Wirkung der /\/4
Platte 5 vom Polarisationsstrahlenteiler reflektiert. Danach wird der Strahl durch das optische Projektionssystem
40 auf eine nicht gezeigte Ilaske 1 gerichtet,
ar. der er gestreut reflektier1, und zurückgeführt wird.
Be^ dieser Äusführungsform findet eine Pupillenabbildungslinse
44 und ein Ortsirequenzfilter 15 Verwendung, so
daß ein ähnlicher Aufbau erhalten wird wie bei der Ausführungsforrn der Figur 1 . Es sind jedoch auch andere
Ausgestaltungen, beispielsweise ähnlich der der Figur 3, möglich. Da das Signal - Rausch-Verhältnis des
Streustrahles von der I.Iaske 1 besser ist, kann mit
der Ausführungsform der Figur 4 ein zufriedenstellendes Signal erhalten werden.
Sine andere Möglich .-reit besteht darin, den Polarisationsstrahlenteiler
zwischen der Llaske 1 und dem optischen Projektionssystem anzuordnen. Hierfür wird
auf eine detaillierte Erläuterung verzichtet, da das optische System der Figur 4 als solches Verwendung
finden kann.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf eine Abtastung mittels Laserstrahl beschränkt, sondern auch für andere
automatische Ausrichtungsverfahren geeignet, beispielsweise für solche, die einen TV- oder einen Bildsensor
verwenden.
Vorstehend wurde erläutert, daß die erste Aufgabe des Strahienteilers 5 darin besteht, den auftreffenden
Strahl in Richtung auf die I.Jasrce und das l^lättchen
aufzuteilen, und die zweite Aufgabe, die dadurch abgelenkten Strahlen auf den Fotorezeptor 17 zu richten.
Zur Lösung dieser beiden Aufgaben können jedoch anstelle des Strahlenteiler 5 auch zwei Strahlenteiler vorgesehen
sein. Bei der Ausführungsform der Figur 1 wird hierzu beispielsweise ein zusätzlicher Satz einer Helaislinse
10, eines Strahlenteilers 5, einer A/4 Platte, einer Linse 7 und eines Spiegels 8 unmittelbar über
dem vorhandenen Satz angeordnet. Der zusätzliche Satz dient dazu, die reflektierten Strahlen auf den Fotorezeptor
17 zu richten, während der bereits vorhandene Satz nur die Aufgabe hat, den Strahl vom polygonalen
Spiegel 12 auf die Maske 1 und das Plättchen 2 zu richten. Es versteht sich, daß hierbei der Strahlenteiler
11 nicht erforderlich ist.
Yfie vorstehend erläutert, werden durch die vorliegende
Erfindung, bei der der Polarisationsstrahlenteiler zwischen der Kaske 1 und dem Plättchen 2 angeordnet
und die 3ezugsflache δ damit in Verbindung gebracht
ist, gleichzeitig die bei den Systemen des Standes der Technik vorhandenen Beschränkungen eleminiert.
Mit der vorliegenden Erfindung kann der Einfluß der chromatischen Aberrationsdifferenz zwischen dem Ausrichtungsstrahl
und dem Belichtungsstrahl beseitigt werden. Die Fokussierung mit dem Ausrichtungsstrahl
ist möglich, ohne die Beziehung zwischen der Maske 1 und dem Plättchen 2 zu verändern, die eine optisch
konjugierte Lage einnehmen. Die Wellenlänge des Ausrichtungsstrahles
kann in einer weniger begrenzten
«ft W · W «» * w * *
- 20 -
/.'eise ausgewählt werden.
Darüberhinaois findet durch die vorliegende Erfindung
keine Überlagerung zwischen dem T,:asken3trahl und dem
Pia Stehenstrahl statt, so daß diese unabhängig voneinander
aufgenommen werden können und eine beständige und zuverlässige Lies sung mögl. ch gemacht wird, die mit einer Verbesserung
in der Srfassungsgenauigkeit verbunden ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung kann das Plättchen unmittelbar mit einer größeren numerischen
.Apertur beobachtet werden. Durch dieses System, mit dem die Beschränkungen in bezug auf die IiA des optischen Pro-
^ektionssystems beseitigt werden können, ist man in der Lage,
die Genauigkeit der automatischen Ausrichtung zu verbessern.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung kann die Anordnung so ausgebildet werden, daß sie dem Ubertragungsfaktor
des optischen Projektionssystems gerecht wird. Es
ist somit möglich,ein optisches Projektionssystem zu
verwenden, das einen niedrigen Übertragungsfaktor für den Ausrichtungsstrahl aufweist.
Erfindungsgemäß wird somit ein optisches System zur Erfassung von Ausrichtungsmarken vorgeschlagen, das bei
einer automatischen Ausrichtungsvorrichtung verwendbar ist, bei der Ausrichtungsmarken eines Plättchens und
einer Llaske von einem Laserstrahl abgetastet werden, um
deren !'ehlausrichtung zu erfassen. Der Laserstrahl
tastet die der Maske gegenüberliegende Oberfläche des Plättchenc und die dem Plättchen gegenüberliegende Oberfläche
der Maske ab, d.h. die Vorderseite des Plättchens und die Rückseite der Maske. Die von den Flächen reflektierten
Lichtstrahlen werden einem oder mehreren Potodetektoren
zugeführt.
Claims (1)
- TlEDTKe - BüHUNG - KiNnV- GftUfcE '··"·*' SiiJSSi^eim EPAPellmann - Grams - StruifDipl.-Ing. R. Kinne Dipl-Ing. R Grupe Dipl.-Ing. B. Pellmann Dipl.-Ing. K. Grams Dipl.-Chem. Dr. B. StruifBavariaring 4, Postfach 2< 8000 München 2Tel.: 0 89-539653 Telex: 5-24845 tipat Telecopier: 0 89-537377 cable: Germaniapatent Mi18. Oktober 1983 DE 3414Patentansprüche1 .ι Optisches'Cysten zur Erfassung von Ausrichtungsraarkenir die Ausrichtung einer Maske, bei dem ein Bild der ■;s Liaske über ein optisches Projektionssystem, das zwischen ;' der «laske und einem Plättchen angeordnet ist, auf demv 5 Plättchen erzeugt wird, gekennzeichnet durch:Eine Strahlenteilereinrichtung (5,11), die zwischen der -I: ■ liJaske (1) und dem Plättchen (2) angeordnet ist, einen |j. Lichtstrahl empfängt und mit diesem Lichtstrahl eine ||- des Plättchen, (2) gegenüberliegende Fläche der Maske (1) :«·-."■ 10 und eine der Uaske (1) gegenüberliegende Fläche des If^- Plättchens (2) direkt anstrahlt und die in der Lage ist, S ' den von der Fläche der Maske direkt reflektierten Licht- ;■]_ . strahl und den von der Fläche des Plättchens direkt re- !'; flektierten Lichtstrahl herauszuführen; und r 15 einen Fotodetektor (17) der die von der Strahlenteilereiririchtung (5,11) herausgeführten Strahlen empfängt.ff; 2. Optisches System. nach Anspruch 1, dadurch gekennf;-. ■ zeichnet, daß die Strahlenteilereinrichtung (5,11) einen J- 20 ersten Strahlenteiler aufweist, der den Lichtstrahl empfängt und mit diesem Lichtstrahl die gegenüberliegenden ' Flächen der Maske (1) und des Plüttchens (2) direkt anstrahlt, sowie einen zweiten Strahlenteiler, der den von der Kaskenflache direkt reflektierten und den von derPlättchenfläche direkt reflektierten lichtstrahl herausführt .3. Optisches System zur Erfassung von-Ausrichtungsmarken einer lüaske und eines Plättchens, das bei einer Vorrichtung verwenbar ist, bei der ein Bild der Iilaske über ein optisches Projektionssystem auf dem Plättchen erzeugt wird, gekennzeichnet durch:
Ein optisches Beleuchtungssystem (40)j und eine Strahlenteilereinrichtung (5, 11), die einen rolarisationsstrahlenteiler ( 5) umfasst, der relativ zu einer optischen Achse des optischen Projektionssystems (40) geneigt angeordnet ist, sowie Einrichtungen zum Andern der Polarisation des auftreffenden Strahles, so daß der von dem optischen Beleuchtungssystem (40) abgegebene Strahl auf eine dem Plättchen (2) gegenüberliegende Fläche der Maske (i) und auf eine der Maske (1) gegenüberliegende Fläche des Plättchens (2) gerichtet wird, wobei die Strahlenteilereinrichtung (5,11 ) einen der von dem Polarisationsstrahlenteiler (5) aufgeteilten Strahlen direkt auf eine der Flächen-richtet und den anderen Strahl auf die Einrichtungen zur Polarisationsänderung und dann zum Polarisationsstrahlenteiler (5) zurückrichtet, welcher wiederum den Strahl auf die andere Fläche richtet.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57184000A JPS5972728A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 自動整合装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3337874A1 true DE3337874A1 (de) | 1984-04-26 |
DE3337874C2 DE3337874C2 (de) | 1991-02-07 |
Family
ID=16145562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833337874 Granted DE3337874A1 (de) | 1982-10-20 | 1983-10-18 | Optisches system zur erfassung von ausrichtungsmarken |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5048968A (de) |
JP (1) | JPS5972728A (de) |
DE (1) | DE3337874A1 (de) |
GB (1) | GB2130738B (de) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6052021A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Canon Inc | 位置検出方法 |
JPS6327016A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置 |
JPH0746680B2 (ja) * | 1986-09-24 | 1995-05-17 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
JP2535889B2 (ja) * | 1987-03-26 | 1996-09-18 | 株式会社ニコン | 投影光学装置 |
EP0568478A1 (de) * | 1992-04-29 | 1993-11-03 | International Business Machines Corporation | Dunkelfeld-Ausrichtsystem unter Verwendung von einem konfokalen räumlichen Filter |
US5231536A (en) * | 1992-05-01 | 1993-07-27 | Xrl, Inc. | Robust, LED illumination system for OCR of indicia on a substrate |
US5737122A (en) * | 1992-05-01 | 1998-04-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | Illumination system for OCR of indicia on a substrate |
JPH06310400A (ja) * | 1993-04-12 | 1994-11-04 | Svg Lithography Syst Inc | 軸上マスクとウェーハ直線配列システム |
WO1995035506A2 (en) * | 1994-06-17 | 1995-12-28 | Kensington Laboratories, Inc. | Scribe mark reader |
US5805290A (en) * | 1996-05-02 | 1998-09-08 | International Business Machines Corporation | Method of optical metrology of unresolved pattern arrays |
GB2323664A (en) | 1997-03-25 | 1998-09-30 | Dek Printing Machines Ltd | Viewing and imaging systems |
US5929997A (en) * | 1997-07-02 | 1999-07-27 | Winbond Electronics Corp. | Alignment-mark measurements on the backside of a wafer for synchronous wafer alignment |
US6469793B1 (en) | 1999-08-10 | 2002-10-22 | Svg Lithography Systems, Inc. | Multi-channel grating interference alignment sensor |
US6525818B1 (en) * | 2000-02-08 | 2003-02-25 | Infineon Technologies Ag | Overlay alignment system using polarization schemes |
US7067763B2 (en) * | 2002-05-17 | 2006-06-27 | Gsi Group Corporation | High speed, laser-based marking method and system for producing machine readable marks on workpieces and semiconductor devices with reduced subsurface damage produced thereby |
US7118370B2 (en) * | 2002-08-30 | 2006-10-10 | The Boeing Company | Composite spar drape forming machine |
US20050010310A1 (en) * | 2003-07-11 | 2005-01-13 | Touzov Igor Victorovich | Method of alignment for precision tools. |
JP2005279659A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-13 | Toshiba Corp | レーザマーキング方法、レーザマーキング装置、マーク読取方法 |
US7116403B2 (en) * | 2004-06-28 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7177012B2 (en) * | 2004-10-18 | 2007-02-13 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
IL188029A0 (en) * | 2007-12-10 | 2008-11-03 | Nova Measuring Instr Ltd | Optical method and system |
CN103429985B (zh) * | 2011-01-19 | 2016-10-19 | 诺威量测设备股份有限公司 | 用于光学测量具有通孔的图案化结构的方法 |
CN103309163B (zh) * | 2012-03-07 | 2015-08-26 | 上海微电子装备有限公司 | 外参考干涉硅片对准系统 |
CN106292203B (zh) * | 2015-05-24 | 2019-01-29 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种自动调焦的对准系统及对准方法 |
DE102015224522B4 (de) * | 2015-12-08 | 2018-06-21 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems |
CN107331643B (zh) * | 2016-04-29 | 2021-02-12 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 对准装置及其方法 |
CN116469785A (zh) * | 2022-01-11 | 2023-07-21 | 长鑫存储技术有限公司 | 一种晶圆键合设备以及晶圆键合方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2211476A1 (de) * | 1971-03-11 | 1972-10-26 | Asahi Kogaku Kogyo K K , Tokio | Verfahren zur Ausrichtung von zur Deckung zu bringender Bilder in einer Projektions Belichtungseinnchtung |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3355979A (en) * | 1963-12-31 | 1967-12-05 | Theodore E Wirtanen | Attachment for a sighting device for sighting in opposite directions perpendicular to the optical axis of the device |
US3684384A (en) * | 1969-03-17 | 1972-08-15 | Hitachi Ltd | Positioning arrangement and face down bonder incorporating the same |
GB1287025A (en) * | 1969-05-02 | 1972-08-31 | Ts Lab Optyki | A photometer arrangement for observation instruments |
US3704061A (en) * | 1970-03-25 | 1972-11-28 | David Neil Travis | Wavelength selective mirror systems |
CH600362A5 (de) * | 1976-12-23 | 1978-06-15 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
DE2843282A1 (de) * | 1977-10-05 | 1979-04-12 | Canon Kk | Fotoelektrische erfassungsvorrichtung |
DE2900921C2 (de) * | 1979-01-11 | 1981-06-04 | Censor Patent- und Versuchs-Anstalt, 9490 Vaduz | Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück |
DE2905636C2 (de) * | 1979-02-14 | 1985-06-20 | Censor Patent- Und Versuchs-Anstalt, Vaduz | Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück |
JPS56110234A (en) * | 1980-02-06 | 1981-09-01 | Canon Inc | Projection printing device |
JPS57138134A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-26 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Positioning device |
JPS57142612A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | Alignment optical system of projection type exposure device |
JPS5852826A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-29 | Canon Inc | 位置合わせ信号処理装置 |
US4474469A (en) * | 1982-04-19 | 1984-10-02 | Northern Telecom Limited | Precise positioning of optical fibers |
-
1982
- 1982-10-20 JP JP57184000A patent/JPS5972728A/ja active Granted
-
1983
- 1983-10-18 DE DE19833337874 patent/DE3337874A1/de active Granted
- 1983-10-19 GB GB08327927A patent/GB2130738B/en not_active Expired
-
1989
- 1989-05-23 US US07/355,871 patent/US5048968A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2211476A1 (de) * | 1971-03-11 | 1972-10-26 | Asahi Kogaku Kogyo K K , Tokio | Verfahren zur Ausrichtung von zur Deckung zu bringender Bilder in einer Projektions Belichtungseinnchtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8327927D0 (en) | 1983-11-23 |
JPH0121614B2 (de) | 1989-04-21 |
DE3337874C2 (de) | 1991-02-07 |
JPS5972728A (ja) | 1984-04-24 |
US5048968A (en) | 1991-09-17 |
GB2130738B (en) | 1986-04-16 |
GB2130738A (en) | 1984-06-06 |
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DE3343181C2 (de) |
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