DE3337227C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3337227C2
DE3337227C2 DE3337227A DE3337227A DE3337227C2 DE 3337227 C2 DE3337227 C2 DE 3337227C2 DE 3337227 A DE3337227 A DE 3337227A DE 3337227 A DE3337227 A DE 3337227A DE 3337227 C2 DE3337227 C2 DE 3337227C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
area
test area
etching
film
etching process
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3337227A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE3337227A1 (de
Inventor
Reimar 6100 Darmstadt De Spohr
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
GESELLSCHAFT fur SCHWERIONENFORSCHUNG MBH DARMSTADT 6100 DARMSTADT DE
Original Assignee
GESELLSCHAFT fur SCHWERIONENFORSCHUNG MBH DARMSTADT 6100 DARMSTADT DE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by GESELLSCHAFT fur SCHWERIONENFORSCHUNG MBH DARMSTADT 6100 DARMSTADT DE filed Critical GESELLSCHAFT fur SCHWERIONENFORSCHUNG MBH DARMSTADT 6100 DARMSTADT DE
Priority to DE19833337227 priority Critical patent/DE3337227A1/de
Priority to FR848404017A priority patent/FR2553505B1/fr
Publication of DE3337227A1 publication Critical patent/DE3337227A1/de
Priority to US06/933,279 priority patent/US4725332A/en
Application granted granted Critical
Publication of DE3337227C2 publication Critical patent/DE3337227C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N15/00Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
    • G01N15/02Investigating particle size or size distribution

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
DE19833337227 1983-10-13 1983-10-13 Verfahren zum bestimmen des durchmessers von mikroloechern Granted DE3337227A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833337227 DE3337227A1 (de) 1983-10-13 1983-10-13 Verfahren zum bestimmen des durchmessers von mikroloechern
FR848404017A FR2553505B1 (fr) 1983-10-13 1984-03-15 Procede pour la determination du diametre de micropores
US06/933,279 US4725332A (en) 1983-10-13 1986-11-20 Method for monitoring microhole growth during production of microholes having a predetermined diameter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833337227 DE3337227A1 (de) 1983-10-13 1983-10-13 Verfahren zum bestimmen des durchmessers von mikroloechern

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3337227A1 DE3337227A1 (de) 1985-04-25
DE3337227C2 true DE3337227C2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) 1988-03-10

Family

ID=6211717

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833337227 Granted DE3337227A1 (de) 1983-10-13 1983-10-13 Verfahren zum bestimmen des durchmessers von mikroloechern

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4725332A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
DE (1) DE3337227A1 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
FR (1) FR2553505B1 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6199249A (ja) * 1984-10-18 1986-05-17 Matsushita Electronics Corp 受像管装置
JP2810444B2 (ja) * 1988-10-02 1998-10-15 キヤノン株式会社 結晶材料の微細加工方法
US5086248A (en) * 1989-08-18 1992-02-04 Galileo Electro-Optics Corporation Microchannel electron multipliers
US5205902A (en) * 1989-08-18 1993-04-27 Galileo Electro-Optics Corporation Method of manufacturing microchannel electron multipliers
US4988877A (en) * 1989-10-03 1991-01-29 Tencor Instruments Via hole checker
US5296090A (en) * 1991-12-03 1994-03-22 New England Medical Center Hospitals, Inc. High resolution track etch autoradiography
US5264328A (en) * 1992-04-24 1993-11-23 International Business Machines Corporation Resist development endpoint detection for X-ray lithography
US5458731A (en) * 1994-02-04 1995-10-17 Fujitsu Limited Method for fast and non-destructive examination of etched features
US5904846A (en) * 1996-01-16 1999-05-18 Corning Costar Corporation Filter cartridge having track etched membranes and methods of making same
JP2873930B2 (ja) * 1996-02-13 1999-03-24 工業技術院長 カーボンナノチューブを有する炭素質固体構造体、炭素質固体構造体からなる電子線源素子用電子放出体、及び炭素質固体構造体の製造方法
US7154086B2 (en) * 2003-03-19 2006-12-26 Burle Technologies, Inc. Conductive tube for use as a reflectron lens
US20080073516A1 (en) * 2006-03-10 2008-03-27 Laprade Bruce N Resistive glass structures used to shape electric fields in analytical instruments

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3303085A (en) * 1962-02-28 1967-02-07 Gen Electric Molecular sieves and methods for producing same
US3612871A (en) * 1969-04-01 1971-10-12 Gen Electric Method for making visible radiation damage tracks in track registration materials
US3852134A (en) * 1969-05-05 1974-12-03 Gen Electric Method for forming selectively perforate bodies
US3677844A (en) * 1970-11-19 1972-07-18 Gen Electric Process for making an elastic stretchy sheet containing apertures having a diameter of at least five angstroms and being suitable as a molecular sieve
DE2717400C2 (de) * 1977-04-20 1979-06-21 Gesellschaft Fuer Schwerionenforschung Mbh, 6100 Darmstadt Ätzverfahren zur Herstellung von Strukturen unterschiedlicher Höhe
DD149845A3 (de) * 1979-04-05 1981-08-05 Hans B Lueck Verfahren zur steuerung der porendurchmesser bei der aetzung von teilchenspuren
DE2951376C2 (de) * 1979-12-20 1983-09-15 Gesellschaft für Schwerionenforschung mbH, 6100 Darmstadt Verfahren zur Erzeugung einer Kernspur oder einer Vielzahl von Kernspuren von schweren Ionen und von aus den Kernspuren durch Ätzung gebildeten Mikrolöchern, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Also Published As

Publication number Publication date
FR2553505A1 (fr) 1985-04-19
FR2553505B1 (fr) 1991-12-13
US4725332A (en) 1988-02-16
DE3337227A1 (de) 1985-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3337227C2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
DE2624832C3 (de) Verfahren zum Herstellen von Lackmustern
EP0051166B1 (de) Verfahren für die spannungsfreie Entwicklung von bestrahlten Polymethylmethacrylatschichten
DE102008004660B4 (de) Gradientenspule und Verfahren zur Herstellung einer Gradientenspule
DE4024275A1 (de) Verfahren zur herstellung von mikrostrukturen mit bereichsweise unterschiedlicher strukturhoehe
DE2951287A1 (de) Verfahren zur herstellung von ebenen oberflaechen mit feinsten spitzen im mikrometer-bereich
DE3842354C2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
DE3416124A1 (de) Feuchtigkeits-sensor sowie verfahren zu seiner herstellung
EP0098919B1 (de) Verfahren zum Herstellen von aus Trennkörpern mit Abschlussplatten bestehenden Trenndüsenelementen zur Trennung gas- oder dampfförmiger Gemische
DE2553685A1 (de) Verfahren zur herstellung von optischen richtkopplern
DE68925774T2 (de) Feinbearbeitungsmethode für kristallines Material
DE3408849C2 (de) Verfahren zur Herstellung geschichteter Vielkanalplatten aus Metall für Bildverstärker und Verwendung der so hergestellten Vielkanalplatten
WO1997002108A1 (de) Verfahren zur herstellung von formeinsätzen
DE69913060T2 (de) Verfahren zur Behandlung eines Resists
DE3046629A1 (de) Verfahren zur herstellung von isolatoroberflaechen
DE2722655C2 (de) Verfahren zur Ermittlung von Eigenspannungen in Bauteilen des Maschinenoder Apparatebaues
DE2951376C2 (de) Verfahren zur Erzeugung einer Kernspur oder einer Vielzahl von Kernspuren von schweren Ionen und von aus den Kernspuren durch Ätzung gebildeten Mikrolöchern, sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE1764611A1 (de) Verfahren zur Herstellung von magnetischen Elementen
DE2717400C2 (de) Ätzverfahren zur Herstellung von Strukturen unterschiedlicher Höhe
DE3309658C2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html)
DE2833891A1 (de) Amorphe magnetische schicht und verfahren zur aenderung der richtung leichter magnetisierung einer duennen amorphen magnetischen schicht
DE1162005B (de) Verfahren und Einrichtung zum Erzeugen starker Magnetfelder zwecks Umgrenzung und Erhitzung eines Plasmas
DD206924A3 (de) Verfahren zum herstellen einer freitragenden abstandsmaske
DE102014207635A1 (de) Verfahren zum Herstellen eines Induktionsbauteils und Induktionsbauteil
DE2724679A1 (de) Verfahren zur herstellung von elektrischen widerstaenden

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G01T 5/10

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee