DE3211282A1 - Verfahren zum beschichten von glasgegenstaenden - Google Patents

Verfahren zum beschichten von glasgegenstaenden

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DE3211282A1
DE3211282A1 DE19823211282 DE3211282A DE3211282A1 DE 3211282 A1 DE3211282 A1 DE 3211282A1 DE 19823211282 DE19823211282 DE 19823211282 DE 3211282 A DE3211282 A DE 3211282A DE 3211282 A1 DE3211282 A1 DE 3211282A1
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August Dr.-Ing. 5430 Montabaur Albers
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ALBERS, AUGUST, DR.-ING., 7843 HEITERSHEIM, DE
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001General methods for coating; Devices therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D1/00Processes for applying liquids or other fluent materials
    • B05D1/02Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying
    • B05D1/04Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying involving the use of an electrostatic field
    • B05D1/045Processes for applying liquids or other fluent materials performed by spraying involving the use of an electrostatic field on non-conductive substrates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05DPROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D2203/00Other substrates
    • B05D2203/30Other inorganic substrates, e.g. ceramics, silicon
    • B05D2203/35Glass

Description

  • Beschreibung
  • Verfahren zum Beschichten von Glasgegenständen Bei der Herstellung von dünnen Schichten auf den verschiedensten Gegenständen haben sich verschiedeneVirn durchgesetzt. Die Vakuum-Beschichtung wird in mehreren Varianten in großem Umfang durchgeführt.
  • So kann man verschiedene Stoffe im Vakuum auf beliebige Gegenstände aufdampfen. Es gelingt im Vakuum die Ionen-Plattierung, bei der eine Gasentladung in einer Vakuum-Kammer ein Plasma erzeugt, wodurch verdampftes Material zum Teil ionisiert wird und zugleich das auf negativem Potential liegende Substrat und die aufwachsende Schicht durch Ionenbeschuß aktiviert und verfestigt werden. Zu den Vakuum-Verfahren gehört auch die Kathodenzerstäubung, deren Bedeutung in der Festkörper-Physik und insbesondere Halbleitertechnik liegt.
  • Eine weitere große Gruppe von Verfahren zur Herstellung dünner Schichten auf Gegenstände beruht auf Reaktionen in der Gasphase, zu denen die sogenannte CVD-Technik (Chemical Vapor Deposition) zu rechnen ist. Verbindungen der abzuscheidenden Metalle werden thermisch und/oder in Gegenwart von Wasserstoff zersetzt und das jeweilige Metall auf dem Substrat abgeschieden. Auch die Bildung von dünnen Schichten aus Metalloxiden durch Zersetzung von Metallchloriden in Wasserdampf-Atmosphäre wird vielfach angewandtlum Gegenstände beispielsweise mit TiO2, Al203 aber auch mit Hartmetallen wie Siliciumnitrid zu überziehen, Das Hauptanwendungsgebiet der CVD-Technik liegt auf dem Halbleitergebiet.
  • Zu der Klasse der Beschichtungen durch Reaktionen in der Gasphase zählen auch Sprühverfahren, bei denen im Unterschied von der CVD-Technik Lösungen der entsprechenden Verbindungen-gegebenenfalls mit Unterstützung eines Trägergases - aus Düsen verspritzt werden und die abgeschiedenen Teilchen die angestrebte Schicht auf dem Gegenstand bilden. Dieses Verfahren eignet sich besonders zur Herstellung von dünnen Schichten aus Metalloxiden, insbesondere auf Glas, aus leicht zersetzlichen oder hydrolysierbaren Verbindungen in vorzugsweise organischen Lösungsmitteln. Auf diese Weise lassen sich Verspiegelungs- oder Entspiegelungsschichten aus bestimmten Metallen, Metalloxiden oder deren Kombinationen einschließlich Halbleitern herstellen.
  • Andererseits ist die Lackierung von Metallgegenständen unter Anwendung von speziell für die Auftragsweise abgestimmten Anstrichmitteln bekannt. Bei diesen Lack-Auftragsverfahren werden die gereinigten Oberflächen der Metallgegenstände durch Spritzlackieren mit einem Anstrichmittel auf der Basis von Kunststoffen überzogen. Dies kann entweder durch Zerstäubung des Änstrichmittels mit Hilfe eines Zerstäubungsgases (Luft) unter entsprechendem Druck oder elektrostatisch geschehen.
  • Beim elektrostatischen Lackieren sind die aus einer Sprühdüse austretenden Lacktröpfchen negativ aufge-und und folgen den Feldlinien von der Sprühdüse zur positiv geladenen Oberfläche des zu lackierenden Metallgegenstands. Will man nach elektrostatischen Spritzverfahren nicht-metallische Werkstücke lackieren, ist es erforderlich, diese vorher mit einem Leitlack zu überziehen.
  • Eine Sprühbeschichtung von Glasgegenständen ist bekannt, wobei das Beschichtungsmaterial mit Hilfe eines Trägergases, dasim allgemeinen Luft ist, zerstäubt und der Nebel aus Beschichtungsmaterial auf der Oberfläche der Glasgegenstände abgeschieden wird. Da die Haftung des Beschichtungsmaterials auf dem Glas und die Wirksauskeit des Beschichtungsmaterials hinsichtlich der angestrebten Änderung der Eigenschaften der Glasoberfläche verbessert werden kann,wenn die Beschichtung auf noch warme Glasgegenstände, also mit einer Temperatur in der Größenordnung von etwa 850 bis 300 °C, aufgetragen wird, war man bemüht, das bekannte Sprühverfahren auch auf noch warme Glasgegenstände anzuwenden. Es zeigte sich jedoch, daß der mit dem Beschichtungsmaterial auf die Glasfläche gerichtete Luftstrom zu einer Ver-.
  • änderung der Oberfläche der Glasgegenstände führen kann. Es kommt dadurch zu ar,.benen Flächen, Unterschieden in der Beschichtungsstärke, Mattstellen, Blasen, Fehlfarben, Farbänderungen;mit anderen Worten zu einem beträchtlichen Ausschuß.
  • Die Anwendung der Ublichen Sprühbeschichtung auf noch warme Glasflächen führt somit zu großen Problemen hinsichtlich der Gleichmäßigkeit des Auftrags und der Homogenität der Eigenschaften der Glasoberfläche, weil es durch die Blasluft zu örtlichen Abkühlungen der Grenzschicht, zu unkontrollierbarer Wirbelbildung, zu Inhomogenitäten hinsichtlich der Tröpfchengröße und damit zu Inhomogenitäten in der Beschichtung selbst kommen kann. Die so erhaltenen Überzüge sind häufig nicht dicht, zeigen Blasen und Poren, zonenweise Mattflecke und Verfärbungen, so daß - ganz allgemein gesprochen - die Übliche Sprühbeschichtung für die Anwendung auf warme Glasgegenstände als ungeeignet bezeichnet werden muß.
  • Um diese Nachteile zu vermeiden, war man bisher gezwungen, Vakum>Bedampfungsverfahren anzuwenden.
  • Diese sind jedoch bekanntlich mit hohem apparativen Aufwand und beträchtlichen Betriebskosten verbunden.
  • Aufgabe der Erfindung ist nun ein Verfahren zur Beschichtung von Glasgegenständen, die die hohen Kosten eines Vakuum-Bedampfungsverfahrens ebenso wie die mit bekannten Sprühverfahren verbundenen Nachteile vermeidet und in einfacher und sicherer Weise die Auftragung der gewünschten Schicht zur Beeinflussung der Glasoberfläche in der gewünschten Richtung sicher gestattet.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zum Beschichten von Glasgegenständen durch Zerstäuben einer pulverförmigen oder flüssigen Beschichtungsmasse und Abscheiden der Teilchen oder Tröpfchen ist dadurch gekennzeichnet, daß man die Teilchen oder Tröpfchen einerseits und die Glasgegenstände andererseits elektrostatisch mit entgegengesetzter Polarität auflädt, während die Glasgegenstände eine Temperatur von 400 bis 900 °C haben. Die Teilchen oder Tröpfchen der Beschichtungsmasse werden infolgedessen von dem Glasgegenstand angezogen und an der Glasoberfläche abgeschieden. Die so entstehende Bes,ichtung zeichnet sich durch eine besondere Homogeni-«X§t aus und ihre Dicke läßt sich je nach Wunsch regeln.
  • Von besonderem Interesse ist es, wenn die elektrisch geladenen Teilchen oder Tröpfchen auf die noch jungfräuliche, aus der Formgebung der Glasgegenstände noch warme Oberfläche geschleudert werden, also nach der Formgebung noch nicht abgekühlt war Glas ist bekanntlich bei Raumtemperaturen ein extrem schlechter elektrischer Leiter, solange es trocken ist.
  • Eine feuchte Glasfläche kann leitend und damit aufladbar werden. Es war nicht bekannt, daß Glas bei Temperaturen in der Größenordnung von Rotglut eine Oberflächenleitfähigkeit besitzt, die ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren ermöglicht. Im Hinblick auf die bekannte Tatsache, daß Glas ein Isolator ist, war der Fachmann also davon abgehalten, ein elektrostatisches Beschichtungsverfahren von Glasgegenständen überhaupt zu erwägen. Es war also ein Vorurteil zu überwinden, um von der Sprühbeschichtung durch Zerstäubung einer Beschichtungsmasse mit Hilfe eines Trägergasstroms von kalten oder auch warmen Glasgegenständen und der elektrostatischen Lack-Beschichtung von Metallgegenständen zu der erfindungsgemäßen elektrostatischen Sprühbeschichtung von warmen Glasgegenständen zu kommen.
  • Durch Vermeidung lokaler Abkühlung der Glasoberfläche, wie sie bei der Zerstäubungsbeschichtung nach dem Stand der Technik zwangsläufig eintritt, wird die Beschichtungsmasse nach dem erfindungsgemäßen Verfahren auf die gleichmäßig warme, außerordentlich reaktionsfähige Glasfläche aufgetragen.
  • Daraus ergibt sich eine gute Haftung, eine einwandfreie Homogenität und eine erstklassige Qualitet hinsichtlich des angestrebten Zwecks der erfindungs gemäß aufgebrachten dünnen Schicht.
  • Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können beliebige elektrisch aufladbare Substanzen verarbeitet werden, vorausgesetzt, daß sie in der Lage sind, einen speziellen Effekt auf dem Glasgegenstand hervorzurufen. Die bedeutendsten Anwendungsgebiete des erfindungsgemäßen Verfahrens liegen in der UV-Verspiegelung, Herstellung von IR-Sperrschichten oder dekorativen ÜberzÜgen, denn die Beschichtung nach demnerfindun gemäßen Verfahren muß nicht ueber die gesamte Oberfläche des Gegenstands stattfinden, sondern kann bereichsweise - durch Abdecken mit Masken - vorgenommen werden; natürlich können auch mehrere unterschiedliche Schichten in verschiedenen Mustern aufgetragen werden. Man erreicht damit druckähnliche Effekte.
  • Abgesehen von einer dekorativen Ausgestaltung von Glasgegenständen lassen sich auf diese Weise auch Halbleiterplatten mit Leiterbahnen und mikroelektronischen Bauelementen herstellen. Durch entsprechende Wahl der aufzutragenden Substanzen läßt sich auch die Verschleiß- oder Abriebfestigkeit und vor allem Kratzfestigkeit der Glasgegenstände verbessern.
  • Die Beschichtung kann nach dem erfindungsgemäßen Verfahren nicht nur mit einer Substanz im Hinblick auf eine Wirkung vorgenommen werden, sondern auch mit Substanzgemischen bzw. durch Auftragung von verschiedenen Schichten übereinander, so daß mehrere Wirkungen gleichzeitig erreicht werden können. Für die angestrebte Wirkung sind die Dichte und die 9eichmäßigkeit der Beschichtung von wesentlicher Bedeutung, während die Dicke der Schicht oberhalb einem Mindestwert eine geringere Rolle spielt.
  • Je nach Art des Glases und des Beschichtungsmittels entsteht eine intensive Bindung zwischen Glasfläche und Schichtauftrag durch eine chemische Reaktion oder es entstehen verschiedene Bindungszustände in der Art einer Sorption oder Bindung zweiter Ordnung oder auch durch eine rein mechanische Verzahnung des Beschichtungsmittels mit der Oberflächenrauhigkeit des Glasgegenstands.
  • Ein besonderer Vorteil des erfindungs¢rmKßen Verfahrens liegt darin, daß zur Zerstäubung der Beschichtungsmasse ein gasförmiges Zerstäubungsmedium, tYte Luft, nicht erforderlich ist und man deshalb höchstens zur Unterstützung des Transports der Pulver oder Tröpfchen der Beschichtungsmasse von der Sprühdüse auf den Glasgegenstand einen schwachen Trägergasstrom, insbesondere Luftstrom, anwendet. Dadurch erfolgt keine ungebührliche lokale Abkühlung des Glas gegenstands beim Beschichten und die Beschichtung des Glas gegenstands erfolgt nicht bevorzugt auf der Anblasseite sondern Über die gesamte Oberfläche; mit anderen Worten ist das Streuvermögen des erfindungsgemäßen Verfahrens außerordentlich gut.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren läßt sich beispielsweise mit einer Vorrichtung durchführen, bei der auf einem metallischen Förderband Glasgegenstände mit einer Temperatur in der Größenordnung von 400 bis 800 0C an einer elektrostatischen Sprllheinrichtung englangbewegt werden. Das Frd.rtand steht mit dem einen Pol, und die Zerstäubungsvorrichtung mit dem anderen Pol einer Stromquelle in Verbindung. Auf diese Weise ist es möglich, Je nach Bedarf die Tröpfchen der Beschichtungsmasse negativ oder positiv aufzuladen, während die zu beschichtenden Glasgegenstände eine positive bzw. eine nenativ. Ladung tragen. In der Sprüheinrichtung wird die Beschichtungsmasse elektrostatisch zerstäubt. Die so gebildeten TflSpfchen oder Pulverteilchen tragen eine elektrische Ladung und werden daher von dem Glasgegenstand, der die entgegengesetzte Ladung trägt, angezogen. Es wird ii allgemeinen mit einer Gleichspannung von 10 bis 90 kV und einer Stromstärke in der Größenordnung von maximal einigen Zehnteln mA gearbeitet.
  • Als Stromquelle eignet sich beispielsweise ein Hochspannungsgenerator (90 kV) mit einer Stromstärke von 0,1 bis 0,2 mA.
  • Die Zerteilung des Pulver- oder Fliissigkeitsstroms kann auch auf mechanische Weise erfolgen. Die so erhaltene Dispersion wird dann unmittelbar nach ihrer Entstehung, z.B. mit Hilfe eines in einem Ring oder Rohrstutzen herrschenden elektrostatischen Feldes, aufgeladen, worauf die geladenen Teilchen oder Tröpfchen - wie oben beschrieben - auf den Glasflächen zur Abscheidung gebracht werden.
  • Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich trockene Pulver und Lösungen der entsprechenden Substanzen in Wasser oder in organischen Lösungsmitteln anwenden.
  • Durch die Wahl der autzutragenden Substanz(en) kann man die 0 erfläche der Glasgegenstände in verschiedener Hinsicht beeinflussen. So lassen sich dichte, glatte Schichten erzeugen, die infolge ihrer Transparanz den Glanz der Glasgegenstände wesentlich erhöhen. Auch läßt sich die Oberfläche der Glasgegenstände kratzfest und korrosionsbeständig, insbesondere gegenüber heißer verdünnter Natronlauge, machen. Zur Erhöhung der Kratzfestigkeit eignet sich beispielsweise ein Überzug aus Zinnoxid oder Titanoxid, erhalten aus einer Lösung von ?,inntetrachlorid bzw. Titantetrachlorid. In dieser R1 htung wirkt auch eine dünne Schicht aus Indiumoxid, aie erhalten worden ist aus Indiumtetrachlorid. Diese Beschichtung beruht auf folgender Umsetzung: Wird gegen eine Glas fläche wit einer Temperatur von etwa 350 bis vorzugsweise 900 °C,/500 bis 750 °C,ein Halogenid, insbesondere Chlorid, von Zinn, Indium oder Titan in Gegenwart von Wasser bzw. Dampf gerichtet, so zersetzt sich das Metall halogenid und bildet Metalloxid unter Freisetzung von Halogenwasserstoff. Die Abscheidung des Metalloxids geschieht auf der heißen Fläche des Gegenstands. Die Metallhalogenid - im allgemeinen geht man wohl von den Chloriden aus - werden als wässrig/methanolische oder wässrig/ethanolische Lösungen zerstäubt. Die Wahl der Konzentration der Zerstäubungslösung und das Auftragsgewicht richtet sich nach dem angestrebtn Effekt und läßt sich anhand weniger orientierender Versuche leicht ermitteln.
  • Eine dünne Schicht aus Zinnoxid SnO2 erhöht die mechanischen Eigenschaften von Kalk-Natron-Gläsern.
  • Eine dünne Schicht aus Indiumoxid Ion203 stellt eine Sperrschicht dar, mit deren Hilfe die Durchlässigkeit eines GlasgegenstandsfUr IR-Strahlung von 90 96 auf etwa 20 % herabgesetzt werden kann, ohne daß dies zu einer Beeinträchtigung der optischen Transparenz des Glasgegenstands führt. Diese Sperrwirkung gegen Wärmestrahlung ist beispielsweise für Fenster, optische Geräte und Behälter für chemische, medizinische und biologische Prä- parate interessant. In ähnlicher Weise kann man Glasgegenstände mit einer Sperrschicht für UV-Strahlung überziehen, was nicht nur für Fenstergläser sondern auch für die Lebensmittelkonservierung und dergleichen von Interesse sein kann.
  • Mit Ausnahme von den Fällen, bei denen mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens eine Färbung des Glasgegenstands angestrebt wird, soll das Aussehen der Schicht möglichst neutral sein.
  • Ist die Beschichtungsmasse - im Gegensatz zu den oben beschriebenen Lösungen - ein trockenes Pulver, so wird man zweckmäßigerweise einen schwachen Trägergasstrom bei der Zerstäubung anwenden, der zur Unterstützung der elektrostatischen Anziehung ausreicht, das Pulver bis an die Glasoberfläche heranzutragen, ohne daß jedoch die Strömungsintensität des Trägergases ein solches Ausmaß annimmt, wie dies bei den üblichen Beschichtungsverfahren durch SprWhzerstEubung der Fall ist. Als Beispiele für Beschichtungs-Pulver sind in erster Linie Metalloxide zu nennen. Zum Tönen von Glasgegenständen verwendet man z.B. Metalloxide, wie die Oxide von Kobalt, Chrom, Kupfer, Eisen, Nickel und Uran.
  • Die Schichtdicke der erfindungsgemäß hergestellten dünnen Schichten wird im allgemeinen durch Reflexionsmessung bestimmt. Zweckmäßig sind - insbesondere für die Verbesserung der Kratzfestigkeit von Flaschen - 1 bis 2 nm Bei mehr als 5 nm können bereits Newton'sche Farbringe und eine Blaugrau-Färbung an der Oberfläche auftreten, wenn bekannte Verfahren angewandt worden sind. Erfindungsgemäß gelingt jedoch der Auftrag bis zu einer Stärke von 30 nm; sogar bei derartigen Schichtstärken erweisen sich die Glasoberflächen nach der Erfindung noch als neutral transparent.

Claims (6)

  1. Patentansprüche Verfahren zum Beschichten von Glasgegenständen durch stäuben einer pulverförmigen oder flüssigen Beschichtungsmasse und Abscheiden der Teilchen bzw.
    Tröpfchen, dadurch g e k e n n z e i c h n e t daß man die Teilchen oder Tröpfchen einerseits und die Glas gegenstände andererseits mit entgegengesetzter Polarität elektro statisch auflädt, wahrend die Glasgegenstände eine Temperatur von 400 bis 900 °C haben.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e n n -z e i c h n e t , daß man die elektrostatisch aufgeladenen Teilchen oder Tröpfchen unter der Einwirkung einer elektrostatischen -Anziehung auf den Glasgegenständen nach deren Formgebung in der Wärme ohne vorherige Abkühlung abscheidet.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch g e -k e n n z e i c h n e t , daß man 1 Beschichtungsmasse elektrostatisch zerstäubt.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch g e -k e n n z e i c h n e t , daß man die elektrostatisch geladenen Teilchen oder Tröpfchen zusätzlich mit einem schwachen Trägergasstrom auf die Glasgegenstände zu bewegt.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß man ein Metalloxidpulver als Beschichtungsmasse verwendet.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch g e k e n n z e i c h n e t , daß man eine wässrige und/oder organische Lösung eines Salzes, das sich nach der Zerstäubung vor oder auf dem Glasgegenstand zu dem abzuscheidenden Metall bzw.
    Metalloxid zu zersetzen vermag, als Beschichtungsmasse verwendet.
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