DE3211022A1 - Verfahren und vorrichtung zur bereitstellung einer fuer die untersuchung mit einem elektronenmikroskop geeigneten probe - Google Patents
Verfahren und vorrichtung zur bereitstellung einer fuer die untersuchung mit einem elektronenmikroskop geeigneten probeInfo
- Publication number
- DE3211022A1 DE3211022A1 DE19823211022 DE3211022A DE3211022A1 DE 3211022 A1 DE3211022 A1 DE 3211022A1 DE 19823211022 DE19823211022 DE 19823211022 DE 3211022 A DE3211022 A DE 3211022A DE 3211022 A1 DE3211022 A1 DE 3211022A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- sample
- radiation source
- penetration
- source
- uncharged
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 18
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 14
- 230000035515 penetration Effects 0.000 claims description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000010790 dilution Methods 0.000 claims description 6
- 239000012895 dilution Substances 0.000 claims description 6
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 10
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/32—Polishing; Etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
Müller. Schupfner & Gauger · Postfach 8013 69 ■ D-8000 München 80
D: Schupfner Hans-Pete'r'Gauger
Patentanwälte
European Patent Attorneys Mandataires en brevets europeens
Dr.-Ing. Robert Poschenrieder
(1931-1972) +
Dr.-Ing. Elisabeth Boettner
Dr.-Ing. Elisabeth Boettner
(1963-1975)
Dlpl.-Ing. Hans-Jürgen Müller
Dipl.-Chem. Dr. Gerhard Schupfner*
Dlpl.-Ing. Hans-Petor Gauger
Dipl.-Chem. Dr. Gerhard Schupfner*
Dlpl.-Ing. Hans-Petor Gauger
Postfach 80 13 69 Lucile-Grahn-Straße 38 D-8000 München 80
Telefon: (0 89) 4 70 60 55/56 Telex: 05 23016 Telegramm/cable:
Zetapatont München
Ihr Zeichen / Your ref.
Unser Zeichen /Our ref.
ION-2969
ION-2969
München/Munich,
25. März 1982
Betrifft:/Ref.·. Anwaltsakte: ION-2969
ION TECH LIMITED, TEDDINGTON, MIDDLESSEX (ENGLAND)
Verfahren und Vorrichtung zur Bereitstellung einer für die Untersuchung mit einem Elektronenmikroskop geeigneten Probe
Konten:
Stadtsparkasse München: 29 -16 73 50 (BLZ 701 500 00)
•Büro/Office Hanburg: KaristraBe5, D-2110 Buchholz
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zur Bereitstellung einer für die Untersuchung
mit einem Elektronenmikroskop geeigneten Probe.
Das mit einem Elektronenmikroskop erreichbare hohe Auflösungsvermögen
eignet sich insbesondere für die Untersuchung des Mikrogefüges von allen möglichen Materialien.
Für eine solche unmittelbare Untersuchung ist es dabei aber erforderlich, daß eine betreffende Materialprobe gegenüber
den Elektronen transparent ist, womit deren Dicke auf 100 bis 200 nm beschränkt werden muß.
Zur Bereitstellung solcher Proben, die sehr unterschiedliche mechanische und chemische Eigenschaften aufweisen
können, stehen bereits verschiedene Verfahren zur Verfügung. So können beispielsweise weiche Materialproben, wie
biologische Proben, durch Mikrotomschnitte erzeugt werden, wobei es aber manchmal schwierig ist, diese Mikrotomschnitte
an Materialien durchzuführen, die harte Teilchen aufweisen. Für einige Metalle, Halbleiter und andere anorganische
Materialien kann sich auch die chemische Ätz- und Elektrolysetechnik als zweckmäßig erweisen, bei der beispielsweise
das zu verdünnende Material in einem Strahlätzbehälter angeordnet und der Ätzprozeß mit der Anordnung einer Lichtquelle
hinter der Probe durch eine Linse überwacht wird. Dabei wird die Ätzung solange durchgeführt, bis die Probe
durch den Strahl durchlöchert ist, wobei diese Durchdringung in der Mitte der Probe beginnt und sich von dort in
die Randbereiche der Probe ausbreitet. Der Ätzprozeß wird
bei diesem Verfahren unmittelbar dann aufgehalten oder gehemmt, wenn die Durchdringung bei einer Spülung der Probe
mit einem Schutzmittel stattfindet, wodurch die zu der Durchdringung benachbarten Flächen in der Regel genügend
dünn sind, um bei der Untersuchung der Probe unter einem Elektronenmikroskop Mikroaufnahmen herstellen zu können.
Für solche Materialien, für die geeignete chemische Ätzmittel nicht existieren, wie für einige Gläser, Keramiken
und geologische Proben, sind verschiedene mechanische Techniken zur Bereitstellung entsprechender Proben entwickelt
worden. So ist beispielsweise vorgesehen, solche Proben insbesondere durch ein Mahlen zu zerkleinern und dann aus dem
zerkleinerten Material entsprechend feine Splitter für die
Untersuchung auszuwählen, oder es können solche dünnen Materialproben auch durch ein sehr sorgfältiges mechanisches
Polieren erhalten werden. In beiden Fällen muß ein sehr großes handwerkliches Geschick vorausgesetzt werden, wobei
diese Verfahren insbesondere für sprödere körnige Materialien mit Leerräumen nicht generell anwendbar sind.
Viele Materialien, die sich nicht für eine chemische Behandlung eignen, können auch durch eine Ionenerosion verdünnt
werden. Dabei werden zwei Ionenstrahlen von etwa 2 mm Durchmesser von zwei Seiten zentral auf eine Probe
gelenkt, wodurch die Probe ähnlich wie bei dem chemischen Ätzprozeß eine zentrale Durchdringung erfährt. Wenn die
Durchdringung einsetzt, wird die Ionenbestrahlung sofort abgestoppt, wodurch um die Durchdringung herum dünne Flächen
geschaffen sind, die für die Elektronen transparent sind. Eine solche Ionenerosion erweist sich insbesondere
für Keramiken, mit Verunreinigungen versehene Halbleiter und Legierungen als zweckmäßig. Solche Ionenstrahlen können
jedoch das Materialgefüge nachteilig beeinflussen, insbesonsere
bei solchen Materialien, die ionisch und covalent sind.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Bereitstellung einer für die Untersuchung mit
einem Elektronenmikroskop geeigneten Probe bereitzustellen, das sich insbesondere zur Anwendung auf solche ionischen
und covalenten Materialien eignet.
Zur Lösung dieser Aufgabe ist erfindungsgemäß vorgesehen,
die Proben mit einem aus energienreichen ungeladenen oder neutralen Partikeln bestehenden Strahl bis zur Durchdringung
erodierend zu bestrahlen und damit eine die Durchdringung umgebende Fläche mit einer für die Durchlässigkeit
von Elektronen geeigneten Dicke zu erzeugen. Dieses Verfahren eignet sich insbesondere zum Verdünnen von Proben aus
ionischen und covalenten Materialien, da die Abwesenheit einer Oberflächenladung jede Wanderung von mobilen Ladungsträgern
des Materials verhindert oder zumindest verringert.
Für eine solche Verdünnung einer Probe kann auch dabei eine gleichzeitige Bestrahlung von zwei Seiten vorgesehen
sein, jedoch ist es zweckmäßiger, die Bestrahlung nur mit einer Strahlenquelle durchzuführen und dabei
dann die Probe so nahe wie möglich an der Austrittsstelle der Strahlen aus der Strahlenquelle dort anzuordnen,
wo die Intensität und damit die Erosionskraft der Strahlen
für eine rasche Verdünnung der Probe bis zu der Durchdringung am größten ist. Als Strahlenquelle kommt jede
beliebige Strahlenquelle in Betracht, die einen aus aufgeladenen Partikeln bestehenden Strahl erzeugen kann und diese
aufgeladenen Partikel dann neutralisieren läßt, bevor der Strahl auf die Probe auftrifft. So kann beispielsweise
eine Ionenquelle in Verbindung mit einer Resonanzladungsaustauschröhre
verwendet werden, welche die von der Ionenquelle ausgestrahlten Ionen neutralisiert, bevor sie auf
die Probe auftreffen. Obwohl auch andere Strahlenquellen
in Betracht kommen, wird jedoch eine Sattelfeldquelle mit
einem neutralen Ausgang bevorzugt, da damit die doch aufwendigere Verwendung einer Ladungsaustauschröhre vermieden
wird.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert, die eine Schemadarstellung
einer Vorrichtung zeigt, die zur Bereitstellung einer für die Untersuchung mit einem Elektronenmikroskop geeigneten
Probe verwendet werden kann.
Die Vorrichtung umfaßt zwei Strahlenquellen 1 und 2, die als Sattelfeldquellen ausgebildet sind und neutrale Strahlen
3 und 4 einer Dicke von etwa 1,5 mm im Durchmesser an den Kathodenöffnungen 5 erzeugen. Diese neutralen Strahlen
3 und 4 sind auf die Mitte P einer drehbar angeordneten Plattform 6 ausgerichtet, wobei diese Mitte P auf der Drehachse
eines Armes 7 angeordnet ist, an welchem die beiden Strahlenquellen montiert sind. Der Arm 7 ist durch einen
Servomotor 8 über eine Welle 9 angetrieben. Er kann bezüglich der durch die Plattform 6 geschaffenen Ebene in
jeden beliebigen Neigungswinkel zwischen 0° und 180° eingestellt werden.
Wenn eine in der Mitte P der Plattform 6 angeordnete Probe den beiden Strahlen 3 und 4 ausgesetzt wird, dann wird
von der Probe solange Material entfernt, bis die Probe die für die Untersuchung unter einem Elektronenmikroskop
gewünschte Verdünnung erhalten hat.. Um diese Materialentfernung kontrollieren zu können, ist die Vorrichtung noch
mit einer auf die Probe ausgerichteten Beleuchtungsquelle und einem Binokular-Mikroskop ausgerüstet, die beide in
der Zeichnung nicht dargestellt sind. Wenn eine Bestrahlung der Probe gleichzeitig mit zwei Strahlen von verschiedenen
Seiten vorgenommen wird, dann ist die Probe beispielsweise in einem Abstand von 2 cm von der Austrittsstelle der Strahlen angeordnet. Eine schnellere Verdünnung
kann jedoch mit der Verwendung nur einer Strahlen-
quelle erreicht werden, wobei dann die Probe so nahe wie möglich an der Austrittsstelle der Strahlen aus der Strahlenquelle
dort anzuordnen ist, wo die Intensität und damit die Erosionskraft der Strahlen am größten ist. Bevorzugt
wird eine Strahlenquelle, die in einem Bereich zwischen 4 und 8 kv bei einem Plasmastrom bis zu 0,5 mA arbeitet.
Im Vergleich zu einer Bestrahlung der Proben mit einem Ionenstrahl oder mit einem aus Ionen und neutralen Partikeln
zusammengesetzten Strahl derselben Energie und derselben Flußdichte kann mit einem solchen nur aus neutralen
Partikeln bestehenden Strahl eine viel raschere Verdünnung der Proben erreicht worden. Für diesen Vergleich wurden
Proben aus Magnesiumoxid von einer Seite her getrennt mit
einem Ionenstrahl und mit einem aus neutralen Partikeln bestehenden Strahl bestrahlt. Dabei zeigte die Röntgenstrahlanalyse
bei einer Bestrahlung der Proben mit einer Sattelfeldquelle mit 6 kV, daß an der unverdünnten Oberfläche
der Probe eine Erhöhung der Kationenkonzentration um 80% bei einer Bestrahlung mit Ionenstrahlen stattfindet,
während sich die Kationenkonzentration nur um 20% erhöht, wenn neutrale Strahlen verwendet werden. Bei derselben
Flußdichte ist außerdem die Zerstäubungsrate des Oxids bei den neutralen Strahlen um 15% größer als bei den Ionenstrahlen.
Eine Erklärung für dieses Phänomen kann darin gefunden werden, daß die positiv aufgeladenen Ionen
in einem Ionenstrahl elektrosiatische Kräfte auf die Ionen
in der Probe ausüben, wobei die auf die Anionen ausgeübte Anziehungskraft eine Erhöhung in der bevorzugten Zerstäubung
der Sauerstoffionen mit der gleichzeitigen Schaffung eines positiv aufgeladenen Oberflächenbereichs erzeugt.
Die elektrostatischen Abstoßkräfte sowohl von dem Strahl als auch von der Oberfläche erzeugen daher eine
Antriebskraft für die Kationen weg von der verdünnten Oberfläche. Bei einem neutralen Strahl sind diese An-
triebskräfte geringer, wobei aber eine positive Oberflächenladung wegen einer sekundären Elektronenemission immer
noch übrig bleiben kann.
Leerseite
Claims (11)
1. /Verfahren zur Bereitstellung einer für die Untersuchung
— mit einem Elektronenmikroskop geeigneten Probe, dadurch
gekennzeichnet , daß die Probe mit einem aus energiereichen ungeladenen oder neutralen Partikeln
bestehenden Strahl bis zur Durchdringung erodierend bestrahlt und- damit eine die Durchdringung umgebende Fläche
mit einer für die Durchlässigkeit von Elektronen geeigneten Dicke erzeugt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Probe so nahe wie möglich an
der Austrittsstelle der Strahlen aus der Strahlenquelle dort angeordnet wird, wo die Intensität und damit
die Erosionskraft der Strahlen für eine rasche Verdünnung der Probe bis zu der Durchdringung am größten ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß die Probe bis zu ihrer Durchdringung
gleichzeitig von zwei Seiten mit je einem Strahl bestrahlt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet , daß als Strahlenquelle eine Sattelfeldquelle verwendet wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet , daß die Strahlenquelle eine Ionenquelle und eine Resonanzladungsaustauschröhre
umfaßt.
W · · O
6. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem
der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch eine der Auflage einer Probe dienende Plattform
(6) und eine der Erzeugung eines aus energiereichen ungeladenen oder neutralen Partikeln bestehenden Strahles
dienende Strahlenquelle (1,2), die so auf jede Probe ausrichtbar ist, daß der damit erzeugte Strahl (3,4)
die Probe bis zur Durchdringung verdünnt.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß zwei Strahlenquellen (1,2) für
eine gleichzeitige Bestrahlungsmöglichkeit einer Probe von zwei Seiten der Plattform (6) vorgesehen sind.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch g e k e η η
zeichnet , daß die Strahlenquelle(η) (1,2) an einem bezüglich der Plattform (6) drehbar angeordneten
Arm (7) montiert ist bzw. sind.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, g e kennzeichnet
durch ein zur Beobachtung einer Probe während der Bestrahlung dienendes Binokular-Mikroskop.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, gekennzeichnet durch eine Sattelfeldquelle
als Strahlenquelle (1,2), die zur Erzeugung eines aus
ungeladenen oder neutralen Partikeln bestehenden Strahles abgeändert ist.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, gekennzeichnet durch eine Ionenquelle und
eine Resonanzladungsaustauschröhre als Strahlenquelle
zur Erzeugung eines aus ungeladenen oder neutralen Partikeln bestehenden Strahles.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8110073 | 1981-03-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3211022A1 true DE3211022A1 (de) | 1982-11-11 |
Family
ID=10520802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823211022 Withdrawn DE3211022A1 (de) | 1981-03-31 | 1982-03-25 | Verfahren und vorrichtung zur bereitstellung einer fuer die untersuchung mit einem elektronenmikroskop geeigneten probe |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4510386A (de) |
JP (1) | JPS57178127A (de) |
DE (1) | DE3211022A1 (de) |
FR (1) | FR2503367B1 (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU601188B2 (en) * | 1986-06-16 | 1990-09-06 | Huron/St. Clair Company. | Load-bearing slat for vehicle luggage carriers |
US5989779A (en) * | 1994-10-18 | 1999-11-23 | Ebara Corporation | Fabrication method employing and energy beam source |
US5472566A (en) * | 1994-11-14 | 1995-12-05 | Gatan, Inc. | Specimen holder and apparatus for two-sided ion milling system |
US5922179A (en) * | 1996-12-20 | 1999-07-13 | Gatan, Inc. | Apparatus for etching and coating sample specimens for microscopic analysis |
CN108181487B (zh) * | 2018-03-15 | 2020-03-06 | 上海交通大学 | 一种超高真空样品截断装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3657542A (en) * | 1970-05-04 | 1972-04-18 | Atomic Energy Commission | Production of beams of excited energetic neutral particles |
FR2203509A5 (de) * | 1972-10-16 | 1974-05-10 | Anvar | |
US4128765A (en) * | 1976-10-29 | 1978-12-05 | Joseph Franks | Ion beam machining techniques and apparatus |
GB2010577B (en) * | 1977-11-07 | 1982-05-06 | Ion Tech Ltd | Preparation of materials for examination of transmission electron microscopy techniques |
US4340815A (en) * | 1977-11-07 | 1982-07-20 | Ion Tech Limited | Preparation of material for examination by transmission electron microscopy techniques |
US4284952A (en) * | 1977-11-21 | 1981-08-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Neutral beam monitoring |
-
1982
- 1982-03-25 DE DE19823211022 patent/DE3211022A1/de not_active Withdrawn
- 1982-03-29 US US06/362,531 patent/US4510386A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-03-31 FR FR8205573A patent/FR2503367B1/fr not_active Expired
- 1982-03-31 JP JP57054727A patent/JPS57178127A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4510386A (en) | 1985-04-09 |
FR2503367B1 (fr) | 1986-03-21 |
FR2503367A1 (fr) | 1982-10-08 |
JPS57178127A (en) | 1982-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102006062667B4 (de) | Vorrichtung für die Ausgabe von Hoch- und/oder Niederenergieröntgenstrahlen | |
DE69634125T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von überlagerten statischen und zeitlich-veränderlichen Magnetfeldern | |
DE112011100403B4 (de) | Ultraschnelle Elektronenbeugungsvorrichtung und Verfahren zur ultraschnellen Elektronenbeugung | |
DE2937004A1 (de) | Chromatisch korrigierte ablenkvorrichtung fuer korpuskularstrahlgeraete | |
EP0120834A1 (de) | Optisch strukturiertes Filter und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2425184A1 (de) | Verfahren und anordnung zur erzeugung von ionen | |
DE2436160A1 (de) | Rasterelektronenmikroskop | |
DE69133256T2 (de) | Rasterelekronenmikroskop und Bilderzeugungsverfahren | |
DE2730985A1 (de) | Bestrahlungsvorrichtung | |
DE102010048276A1 (de) | Ionentransporter, Ionentransportverfahren, Ionenstrahlstrahler und medizinischer Teilchenstrahlstrahler | |
DE102015204091A1 (de) | Verfahren und Vorrichtungen zur Ladungskompensation | |
DE3126575C2 (de) | Vorrichtung zur Erfassung der Sekundärelektronen in einem Rasterelektronenmikroskop | |
DE3734442A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bestrahlung grosser flaechen mit ionen | |
DE102008013511A1 (de) | Vorrichtung zum Bearbeiten und Beobachten von Proben sowie Verfahren zum Bearbeiten und Beobachten von Querschnitten | |
DE3211022A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bereitstellung einer fuer die untersuchung mit einem elektronenmikroskop geeigneten probe | |
EP0216750B1 (de) | Ionenstrahlgerät und Verfahren zur Ausführung von Änderungen, insbesondere Reparaturen an Substraten unter Verwendung eines Ionenstrahlgerätes | |
DE2136460A1 (de) | Röntgenstrahlenquelle | |
DE2431036A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum aufnehmen von roentgenbildern | |
DE60033374T2 (de) | Röntgenmikroskop mit einer röntgenstrahlungsquelle für weiche röntgenstrahlungen | |
DE3020281C2 (de) | Vorrichtung zur Doppelablenk-Abtastung eines Partikelstrahls | |
DE3046629A1 (de) | Verfahren zur herstellung von isolatoroberflaechen | |
DE2703047A1 (de) | Verfahren zur erzeugung ausgesuchter massenspektren | |
DE3705361A1 (de) | Einrichtung zur zerstoerungsfreien bilderzeugung und ortsselektiven oberflaechenbearbeitung in fokussierten ionenstrahlsystemen | |
DE102018131609B3 (de) | Partikelstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben eines Partikelstrahlsystems | |
DE10255032A1 (de) | Verringerung von Aberrationen, die in einem Rasterelektronenmikroskop oder Ähnlichem durch ein Wien-Filter erzeugt werden |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |