DE3150637A1 - Aetzloesung zum aetzen von photopolymerfilmen und verfahren zum punktaetzen - Google Patents
Aetzloesung zum aetzen von photopolymerfilmen und verfahren zum punktaetzenInfo
- Publication number
- DE3150637A1 DE3150637A1 DE19813150637 DE3150637A DE3150637A1 DE 3150637 A1 DE3150637 A1 DE 3150637A1 DE 19813150637 DE19813150637 DE 19813150637 DE 3150637 A DE3150637 A DE 3150637A DE 3150637 A1 DE3150637 A1 DE 3150637A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- etching
- etching solution
- solution
- acid
- alkali
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F5/00—Screening processes; Screens therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Description
• ·»
• · · ο
• ·
""" "" "· ai 50637
DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH Ätzlösung zum Ätzen von Photopolymerfilmen.
Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien haben in der
photographischen Reproduktionstechnik zahlreiche Anwendungsmöglichkeiten
gefunden. So werden sie vor allem zur Herstellung von Druckformen und auf dem Gebiet der Photofabrikation zur
Herstellung von gedruckten Schaltungen verwendet, in neuerer
Zeit sind auch photopolymerisierbare Aufzeichnungsmaterialien bekannt geworden, die in der graphischen Technik zur Herstellung
von Strich- und Rasterkontaktarbeiten verwendet werden können und die geeignet sind, die bisher für diesen Zweck verwendeten
Lithfilme auf Silberhalogenidbasis zu ersetzen. Solche Aufzeichnungsmaterialien sind zum Beispiel in der DE-AS 26 51 864
beschrieben. Besondere praktische Bedeutung kommt dabei solchen Materialien zu, die in wässrig alkalischen Lösungen entwickelt
werden können. Ein bevorzugtes Anwendungsgebiet dieser Materialien ist die Herstellung von gerasterten Negativen und Positiven,
sowie von gerasterten Farbauszügen für reprographische Zwecke,
insbesondere für die Herstellung von Druckplatten. Eine wichtige Voraussetzung für die Brauchbarkeit dieser
photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterialien ist, dass die
erhaltenen gerasterten Bilder punktätzbar sind, d.h. dass die Grosse der erhaltenen Punkte in ausgewählten Bereichen verringert
werden kann, um etwa erforderliche Tonwert- beziehungsweise Farbwertkorrekturen vornehmen zu können.
Gemäss den Angaben der DE-AS 26 51 864 kann das Ätzen der
polymeren Rasterpunkte durch Behandlung mit der Entwicklerlösung erfolgen, wobei der Entwicklungsvorgang solange durchgeführt
wird, bis eine wesentliche Unterätzung der belichteten Bereiche stattgefunden hat. Anschliessend wird dann der polymerisierte
Rasterpunkt durch mechanischen Abrieb in der Grosse verkleinert.
Geeignete Entwicklerlösungen sind je nach verwendetem Bindemittel
entweder organische Lösungsmittel, oder wässrig alkalische Lösungen. Nachteilig ist jedoch, dass es mit dieser sogenannten
Lösungsmittelätzmethode nicht möglich ist, kontrolliert zu ätzen, das heisst, eine gleichmässige Punktverkleinerung auf
grösseren Flächen zu erzielen, da der Grad der Punktreduzierung sehr stark von der Anwendungszeit, sowie der verwendeten Menge an
Ätzlösung abhängig ist. Ausserdem erfolgt bei längeren Einwirkezeiten der Entwicklerlösungen auf die belichteten Bildstellen
eine starke Quellung der Rasterpunkte, was häufig zu erheblichen Dichteverlusten führt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, Ätzlösungen anzugeben,
die es ermöglichen, punktätzbare photopolymerisierte Materialien, die ein polymeres Bindemittel mit alkalilöslichmachenden
Gruppen enthalten und deren optische Dichte im aktinischen Bereich mindestens 1,0 beträgt, kontrolliert zu ätzen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine wässrige Ätzlösung, die gekennzeichnet ist durch einen Gehalt an einem wasserlöslichen
Alkalisalz einer wasserunlöslichen polymeren Polycarbonsäure, deren Säurestärke gleich oder kleiner ist als diejenige des
in dem photopolymerisierten Material enthaltenen wässrig alkalisch entwickelbaren Bindemittels. Nach einer vorteilhaften
Ausgestaltung der Erfindung können die Ätzlösungen einen Überschuss
an freiem Alkali enthalten. Mit Hilfe der beschriebenen Ätzlösungen ist es möglich, den Ätzvorgang kontrolliert durchzuführen,
das heisst, eine gleichmässige Punktverkleinerung auf grösseren Flächen zu erreichen. Die maximale Dichte des Rasterbildes
wird von den beschriebenen Ätzlösungen nicht beeinflusst. Die überlegene Wirkung der beschriebenen Ätzlösungen beruht darauf,
dass sie ihre Ätzfähigkeit nach einer bestimmten Einwirkungszeit verlieren. Es wird angenommen, dass ein Ionenaustausch
zwischen Ätzmittel und den salzbildenden Gruppen des Bindemittels erfolgt, wobei ätzfähige wasserlösliche Alkalisalze des Bindemittels
entstehen.
Im Kontaktbereich zwischen polymerisiertem Punkt und Ätzlösung entsteht dabei infolge dieses Ionenaustausches eine Phase aus
der wasserunlöslichen freien polymeren Polycarbonsäure, die als Diffusionsschranke für weiteres Alkali aus der Ätzlösung in
das Bindemittel wirkt, so dass der Ätzvorgang zum Stillstand kommt.
Zur Herstellung der Ätzlösungen geeignete polymere Polycarbonsäuren
sind zum Beispiel Vinyladditionspolymere, die freie Carbonsäuregruppen enthalten und aus 30 bis 94 Mol-% eines oder mehrerer
Alkylacrylate und 70 bis 6 Mol-% eines oder mehrerer ^ (3-äthylenisch
ungesättigter Carbonsäuren, vorzugsweise aus 61 bis 94 Mol-% von zwei Alkylacrylaten und 39 bis 6 Mol-% einer^.ß-äthylenisch
ungesättigten Carbonsäure hergestellt werden. Als Alkylacrylate eignen sich beispielsweise Methylacrylat, Äthylacrylat, Propylacrylat,
Butylacrylat, Methylmethacrylat, Äthylmethacrylat und Butylmethacrylat. Geeignete^, ß-äthylenisch ungesättigte Carbonsäuren
sind Beispielsweise Acrylsäure und Methacrylsäure.Geeignet sind ferner Copolymerisate aus einem Vinylmonomeren vom Styroltyp
und einem ungesättigte Carboxylgruppen enthaltenden Monomeren,
Copolymerisate von Vinylacetat und Crotonsäure, Copolymerisate aus Äthylacrylat, Methylmethacrylat und Acrylsäure,
Copolymerisate aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure, Copolymerisate aus Methylmethacrylat, Äthylacrylat und Hydrogenmaleat,
Copolymerisate aus Vinylchlorid, Vinylacetat und Maleinsäure, Copolymerisate aus Styrol und Maleinsäureanhydrid
oder Maleinsäurehalbestern sowie Copolymerisate aus Methyimethacrylat,
Äthylacrylat und Methacrylsäure.
Zur Herstellung der Ätzlösungen wird die polymere Polycarbonsäure
zunächst in.Wasser dispergiert und dann nach Zugabe der Alkalilösung bis zur vollständigen Auflösung gerührt. Die
verwendete Alkalimenge ist dabei so zu bemessen, dass sie mindestens der Säurezahl der Polycarbonsäure entspricht.
Eine spezifische Ätzlösung gemäss der Erfindung kann wie folgt hergestellt werden:
Man dispergiert das Polymere in Wasser und fügt, falls erwünscht, bis zu 30% mehr Alkalilösung hinzu als der Säurezahl des Bindemittels
entspricht.
Die Säurestärke der polymeren Polycarbonsäure kann durch
Titration in alkoholischer Lösung ermittelt werden. Man löst zum Beispiel 500 mg des Polymeren in 75 ml Äthanol und titriert
mit 0,1-n wässriger NaOH-Lösung bis zum Äquivalenzpunkt, wobei der pH mit einer Glaselektrode während der Titration verfolgt
wird. Aus der graphischen Auftragung des pH gegen die Titerlösung wird der pH bestimmt, bei dem die Hälfte aller Carboxylgruppen
neutralisiert ist. Dieser pH entspricht dem pK -Wert der Carbonsäure, (Houben-Weyl, 4. Auflage 1955, Band 3/2, S. 166)
Zur praktischen Durchführung des Ätzvorganges wird die Ätzlösung
zum Beispiel mit einem Pinsel auf die zu ätzenden Bildstellen aufgebracht und nachdem der Ätzprozess zum Stillstand gekommen
ist, mittels eines saugfähigen Papieres wieder entfernt. Durch leichtes Reiben mit einem.Schwamm und Wasser wird dann der
ätzbar gewordene Anteil der Rasterpunkte entfernt. Der Endpunkt des Ätzvorganges kann leicht erkannt werden, wenn der
Ätzlösung ein Indikator zugesetzt wird, dessen Umschlagspunkt dem Äquivalenzpunkt der in der Ätzlösung verwendeten Polycarbonsäure
entspricht. Nach dem Farbumschlag ist die Reaktion praktisch beendet. Der Ätzprozess kann so oft wiederholt werden, bis der
gewünschte Ätzgrad erreicht ist. Unter Verwendung der beschriebenen Ätzlösungen können bei nachbelichteten Materialien
Punktverkleinerungen bis zu 9% erreicht werden, während bei Materialien, die keiner Nachbelichtung unterworfen werden,
Punktverkleinerungen bis zu 25% möglich sind.
Nach einer bevorzugten Ausführungsform kann die Ätzlösung einen
Überschuss an freiem Alkali enthalten. In diesem Falle läuft der Ätzvorgang in zwei Stufen ab. In der ersten Stufe wird das
freie Alkali wirksam und es findet praktisch eine Lösungsmittelätzung statt. Nach Verbrauch des Alkalis setzt dann die
kontrollierte Ätzung ein bis der Ionenaustausch beendet ist und der Ätzprozess zum Stillstand kommt. Die Konzentration an
freiem Alkali muss natürlich so bemessen sein, dass sie nicht ausreicht den gewünschten Ätzgrad allein durch Lösungsmittel-Ätzung
zu erreichen. Die zur Erreichung des jeweiligen Ätzgrades erforderliche optimale Menge an freiem Alkali kann leicht durch
eine Versuchsreihe an Ätzlösungen mit unterschiedlichem Gehalt an freiem Alkali ermittel werden.
Die Anwendung der Kombination freies Alkali/Alkalisalz einer
polymeren Polycarbonsäure gibt dem Fachmann die Möglichkeit, sich auf einfache Weise ein Sortiment von Ätzlösungen herzustellen,
mit denen jeder gewünschte Ätzgrad gezielt erreicht werden kann, ohne dass die Gefahr einer Über- oder Unterätzung
besteht. Bevorzugte ätzfähige Materialien im Sinne der vorliegenden Erfindung bestehen im wesentlichen aus einem
Schichtträger und einer photopolymerisierbaren Schicht, die als wesentliche Bestandteile ein wässrig alkalisch entwickelbares
Bindemittel, ein Monomeres und einen Initiator enthält und eine optische Dichte von mindestens 1,0 im aktinischen
Bereich besitzt. Geeignete wässrig alkalisch entwickelbare Bindemittel sind in grosser Zahl bekannt. Diese Bindemittel
enthalten meist alkalilöslich machende Gruppen, wie Säureanhydrid-, Carboxyl- oder Sufonsäure-Gruppen. Im einzelnen
seien genannt:
Acrylsäure beziehungsweise Methacrylsäure Polymere beziehungsweise
deren Copolymere mit anderen geeigneten Monomeren, wie zum Beispiel Acrylsäureester oder andere Acrylderivate,
Vinylverbindungen, wie Vinylather, Vinylacetat oder dessen
Verseifungsprodukt, Styrol, Vinylpyrrolidon, Butadien und
verwandte Monomere, Polyacrylsäureanhydride, Copolymerisate
von Maleinsäureanhydrid , Maleinsäure, Maleinsäurehalbestern, -halbamiden bzw. Anhydride und Derivate verwandter Verbindungen,
wie z.Bw Itakonsäure, mit geeigneten Comonomeren, wie z.B.
Styrol, Vinyläthern, Vinylacetaten usw. Polystyrolsulfonsäure bzw. deren Copolymerisate, Cellulosederivate wie z.B.
Cellülosephthalat oder -succinat, Alginsäure und deren Derivate.
Geeignete Bindemittel Bind ferner auch die als Ätzmittel beschriebenen polymeren Polycarbonsäuren. Geeignete Monomere
können der DE-AS 26 51 864 entnommen werden. Zur Erzielung einer optischen Dichte von mindestens 1,0, die erforderlich ist
um einen Polymerisatiohsgradienten auszubilden, der die
Unterätzung des polymeren Rasterbildes ermöglicht, werden der lichtempfindlichen Schicht UV-stabile Farbstoffe und/oder
Pigmente zugesetzt, wobei kolloidaler Kohlenstoff als Pigment besonders bevorzugt ist. Brauchbare UV-Absorber sind ebenfalls
in grosser Zahl bekannt, z.B. aus der DE-AS 26 51 864. Besonders bewährt hat sich 2,2'-Dihydroxy-4-methoxy-benzophenon.
Die nachfolgenden Beispiele sollen dazu dienen, die Erfindung zu
erläutern:
Es wurde ein photopolymerisierbares Material folgender
Zusammensetzung hergestellt:
Zusammensetzung hergestellt:
a) Terpolymeres aus Äthylacrylat, Methylmethacrylat 16,2%
und Acrylsäure (56/37/7)/ Molekulargewicht etwa
260.000, Säurezahl 76-85, pKa in Äthanol 8,3
260.000, Säurezahl 76-85, pKa in Äthanol 8,3
b) 1:1 Copolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid 3 0,3% mit sek. Butanol teilweise verestert,
Molekulargewicht etwa 10.000, Säurezahl 190,
Molekulargewicht etwa 10.000, Säurezahl 190,
pKa in Äthanol 8,3
c) 2,2"-Bis (2-chlorphenyl)-4,4', 5,5'· tetraphenylbisimidazol
5,8%
d) 4,4"-Bis (dimethylamino) benzophenon 2,3%
e) Nichtionogener oberflächenaktiver Fluorkohlenwasserstoff 0,10%
f) Trimethylolpropantriacrylat 27,2%
g) Mischester aus Triäthylenglykoldicaproat und
Diacrylat 1,7%
Diacrylat 1,7%
h) Kolloidaler Kohlenstoff 16,4%
Zur Herstellung der BeschichtungslÖsung wurde zunächst eine
10%-ige Feststofflösung der Komponenten b) bis g) in Methylenchlorid
hergestellt. Die Komponenten a) und h) wurden ebenfalls in Methylenchlorid mit einem Hochgeschwindigkeitsrührer
dispergiert. Zu dieser Dispersion wurde dann die Lösung der Komponenten b) bis g) zugegeben. Die BeschichtungslÖsung
wurde dann auf einen Schichtträger aus Polyäthylenterephthalat, der mit einer Zwischenschicht gemäss' den Angaben von
Beispiel 3 der DE-AS 26 51 864 versehen war, so aufgetragen, dass die Schichtdicke nach dem Trocknen 6 \im betrug. Die
optische Dichte im sichtbaren Bereich betrug 3,2 und im Spektralbereich von 300 bis 500 nm betrug sie 4,5.
Auf die lichtempfindliche Schicht wurde ein Überguss nachfolgender Zusammensetzung aufgetragen:
dest. Wasser 122,5 g
Polyvinylalkohol (zu 98% verseift,
niedriges Molekulargewicht) 2,25 g
Kolloidales Siliciumdioxyd 2,70 g
Nichtionogener oberflächenaktiver
Kohlenwasserstoff 0,45 g
Die Schichtdicke der getrockneten Übergußschicht betrug 2 μπι.
Das Material wurde dann 7 Sekunden im Abstand von 65 cm mit einer Metallhalogenidlampe (1.000 W) durch einen als
Vorlage'dienenden 50% Raster belichtet. Nach der Belichtung wurde die Übergußschicht durch Waschen Mt Wasser entfernt und das
Material mit einer Lösung folgender Zusammensetzung.5 Sekunden bei 3O0C entwickelt:
52,5 g K2CO3 * s;i-cc
3,1 g KHCO3
Wasser auf 1 Ltr.
Das unbelichtete Material wurde dann durch Aufsprühen von Wasser
entfernt. Man erhält eine genaue Negativkopie der Rastervorlage. Das getrocknete Material wurde dann in üblicher Weise von der
Vorder- und Rückseite her nachbelichtet, und dann mit einer Ätzlösung folgender Zusammensetzung behandelt:
7,5 g 1:1 Copolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid, teilweise verestert mit sek. Butanol
Molekulargewicht etwa 10.000, Säurezahl
190, pKa in Äthanol 8,3
50 ml
dest. Wasser
16,5 ml
2n NaOH
Zur Durchführung der Ätzung wurde die Ätzlösung mit einem Pinsel auf das Material aufgetragen und nach beendeter Einwirkzeit
mit saugfähigem Papier aufgenommen. Durch leichtes Reiben mit einem Schwamm und Wasser wurde der ätzbare Anteil
der Punkte entfernt.
Die erreichten Punktverkleinerungen an dem aufbelichteten 5 0%
Punkt sind in der Tabelle 1 zusammengefasst; Tabelle 1
Anwendungszeit der | Punktgrösse nach | Opt. Dichte im |
Ätzlösung | dem Ätzen | sichtbaren Bereich |
1 χ 15 see | 45% | 3,2 |
2 χ 15 see | 41% | 3,2 |
1 χ 30 see | 45% | 3,2 |
2 χ 30 see | 41% | 3,2 |
Aus der Tabelle ist ersichtlich, dass der erreichbare Ätzgrad unabhängig von der Einwirkzeit der Ätzlösung ist, und dass der
Ätzprozess nach einer bestimmten Einwirkzeit zum Stillstand kommt. Ferner ist ersichtlich, dass die optische Dichte nicht
beeinflusst wird.
Ein gemäss den Angaben von Beispiel 1 hergestelltes, belichtetes und entwickeltes Material wurde mit einer
Ätzlösung folgender Zusammensetzung
7,5
- /ίο -
Terpolymeres aus Äthylacrylat, Methylmethacrylat und Acrylsäure (56/37/7) , Molekulargewicht
etwa 260.000, Säurezahl 76-85, pKa in
Äthanol 8,3
50
ml dest. Wasser
6,7 ml 2n NaOH
gemäss den Angaben von Beispiel 1 geätzt.
Die erhaltenen Punktverkleinerungen sind in der Tabelle 2 zusammengefasst:
Tabelle 2 | V | Punktgrösse nach dem Ätzen |
Opt. Dichte im sichtbaren Bereich |
Anwendungszeit der Ätzlösung |
47% 44% 46% 42% |
3,2 3,2 3,2 3,2 |
|
1 χ 15 see 2 χ 15 see 1 χ 30 see 2 χ 30 see |
Aus der- Tabelle ist ersichtlich, dass der Ätzvorgang nach
einer gewissen Einwirkzeit abgeschlossen ist und eine Überätzung praktisch ausgeschlossen ist. Ferner ist ersichtlich,
dass die optische Dichte nicht beeinflusst wird.
Auf ein photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial gemäss
Beispiel 1 wurden unterschiedliche Rasterpunktgrössen unter
Verwendung geeigneter Rastervorlagen aufbelichtet. Das Material wurde gemäss den Angaben von Beispiel 1 entwickelt
und dann mit einer einen Indikator enthaltenden Ätzlösung folgender Zusammensetzung geätzt:
133 ml dest. Wasser
15 g 1:1 Copolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid,
teilweise mit sek. Butanol verestert, . Molekulargewicht etwa 10.000, Säurezahl 190,
pKa in Äthanol 8,3
2,78 g NaOH 100 mg Phenolphthalein
Nach dem Aufbringen der Ätzlösung wurde eine Entfärbung beobachtet, die nach etwa 30 see abgeschlossen war und das
Ende des Ätzvorganges anzeigte. Die erreichten Punktverkleinerungen sind in der Tabelle
zusammengefasst:
Ursprüngliche Punktgrösse | Punktgrösse nach dem Ätzen |
5 % | 3 % |
40 % . | 32 % |
50 % | 40 % |
60 % | 52 % |
■;. 90 % | 86 % |
95 % | 93 % |
98 % | 97 % |
Aus der Tabelle ist ersichtlich, dass beim Ätzen unterschiedlicher
Punktgrössen ein ähnliches Ergebnis wie beim Ätzen von Silberhalogenidf ilmen erzielt wird, das heisst, Mitteltöne werden
stärker reduziert als die beiden Enden der Tonwertskala. Vorteilhaft ist ferner, dass spitze Punkte neben hohen Tonwerten geätzt werden können, ohne dass die Gefahr besteht, dass
die spitzen Punkte zerstört werden.
Ein nach den Angaben von Beispiel 1 hergestelltes, belichtetes und entwickeltes Material wurde mit Ätzlösungen, die einen
unterschiedlichen Gehalt an freiem Alkali enthielten, gemäss den Angaben von Beispiel 1 geätzt. Die verwendeten Ätzlösungen
hatten die nachfolgende Zusammensetzung:
Zu je 66,5 ml 7,5 g
H2O dest. und
1:1 Copolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid/ welches teilweise
mit sek. Butanol verestert ist, MG 10.000, Säurezahl 190, pKa in Äthanol 8,3
wurden
a) b) c)
zugesetzt.
1,01 g NaOH 1,15 g NaOH 1,32 g NaOH
Die erhaltenen Punktverkleinerungen sind in der"Tabelle
zusammengestellt.
Anwendungszeit der | Lösung a] | Punktgrösse | nach dem |
Ätzlösung | 48 % | Ätzen | |
48 % | Lösung b) | Lösung c) | |
1 χ 30 see | 48 % | 47 % | 46 % |
2 χ 30 see | 47 % | 45 % | 43 % |
1 χ 60 see | 46 % | 45 % | |
2 χ 60 see | 43 % | 40 % | |
Aus der Tabelle ist ersichtlich, dass durch die Zusammensetzung der Ätzlösung der Grad der Punktreduzierung pro Anwendungszyklus
vorherbestimmt werden kann, ohne Gefahr zu laufen, dass die Punkte überätzt werden.
BEISPIEL 5
J\\
Ein gemäs-s den Angaben von Beispiel 1 hergestelltes, belichtetes
und entwickeltes Material wurde mit Ätzlösungen der nachfolgenden Zusammensetzung gemäss den Angaben von Beispiel 1 geätzt:
Ätzlösung a)
ml H2O dest.
ml H2O dest.
7,5 g Copolymeres aus Methylmethacrylat, Äthylacrylat, Methacrylsäure (48/27/25), 2,4' 10"2MoI-COOH,
Säurezahl 178, pKa in Äthanol 8,7 ml 2 η NaOH (2,4* 1θ"2 Mol)
Ätzlösung b)
ml H2O dest.
7,5 g lsi Copolymerisat aus Styrol und Maleinsäureanhydrid,
welches teilweise mit sekundärem Butanol verestert ist, 2,54 * 10 MoI-COOH, Säurezahl 19O1
pK in Äthanol 8,3
1,01 g NaOH (2,54 * 1θ"2 Mol)
1,01 g NaOH (2,54 * 1θ"2 Mol)
Ätzlösung c)
ml H2O dest.
7,5 g Copolymeres aus Methylmethacrylat, Acrylsäure
t-octylacrylamid, Hydroxypropylmethacrylat,
t-Butylamino-äthylmethacrylat (35/16/40/5/4),
1,34 ' 10~2 MoI-COOH, Säurezahl 100, pK
*~ el
in Äthanol 8,2
6,7 ml 2 η NaOH (1,34 * 10~2Mol)
6,7 ml 2 η NaOH (1,34 * 10~2Mol)
Die mit den einzelnen'Ätzlösungen erhaltenen Punktreduzierungen
sind in der Tabelle 5 zusammengestellt:
Anwendungszeit der
Ätzlösung
Ätzlösung
Lösung a)
Punktgrösse
nach dem Ätzen Lösung b)
nach dem Ätzen Lösung b)
Lösung c)
30 see
60 see
90 see
60 see
90 see
49 % 49 % 49 %
48 %
48 %
48 %
48 %
48 %
50 % 50 % 50 %
Aus der Tabelle ist ersichtlich, dass die Alkalisalze polymerer
Polycarbonsäuren,deren Säurestärke gleich oder kleiner als diejenige des Bindemittels ist, ein kontrolliertes Ätzen
bewirken, während die Alkalisalze von polymeren Polycarbonsäuren, deren Säurestärke grosser als diejenige des Bindemittels
ist unwirksam sind, das heisst, keine Ätzwirkung zeigen.
Es wurde ein Material gemäss den Angaben von Beispiel 1
verwendet mit dem einzigen Unterschied, dass das Material nicht nachbelichtet wurde. Dieses Material wurde dann gemäss
den Angaben von Beispiel 1 mit den nachfolgenden Ätzlösungen geätzt:
A Ätzlösung a) aus Beispiel 5, der zusätzlich noch 1 ml 2 η NaOH zugefügt wurden, so dass der Überschuss
an freiem Alkali 8,3% betrug.
B Ätzlösung c) aus Beispiel 5, der zusätzlich noch 0,55 ml 2 η NaOH zugefügt wurden, so dass der Überschuss
an- freiem Alkali ebenfalls 8,3% betrug.
Die mit beiden Ätzlösungen erhaltenen Punktreduzierungen sind in der Tabelle 6 zusammengestellt:
Anwendungszeit
der Ätzlösung
Punktreduzierung nach dem Ätzen Lösung A) . Lösung B)
30 see 60 sec 90 sec
Aus der Tabelle ist ersichtlich, dass der Ätzvorgang bei Verwendung
von Lösung A bereits nach kurzer Zeit zum Stillstand kommt, das heisst, kontrolliert abläuft, während mit Lösung B
eine reine Lösungsmittel-Ätzung abläuft, das heisst, der Ätzgrad ist sehr stark abhängig von der Anwendungszeit der
Ätzlösung.
Claims (4)
- PATENTANSPRÜCHE ' 'Wässrige Ätzlösung zum Punktätzen von photopolymerisxerten Materialien, die ein polymeres Bindemittel mit alkalilöslich machenden Gruppen enthalten und deren optische Dichte im aktinischen Bereich mindestens 1,0 beträgt, dadurch gekennzeichnet, dass die Ätzlösung als Ätzmittel ein wasserlösliches Salz einer wasserunlöslichen polymeren Polycarbonsäure enthält, deren Säurestärke gleich oder kleiner ist als diejenige des in dem photopolymerisxerten Material enthaltenen Bindemittels.
- 2. Ätzlösung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Ätzlösung zusätzlich bis zu 30% mehr freies Alkali enthält, als der Säurezahl des Bindemittels entspricht.
- 3» Ätzlösung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,, dass die Ätzlösung als Ätzmittel das Alkalisalz des in dem polymerisierten Material enthaltenen Bindemittels enthält=
- 4. Ätzlösung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Ätzlösung .als Ätzmittel das Alkalisalz eines 1:1 Copolymerisates aus Styrol und Maleinsäureanhydrid, welches teilweise mit sekundärem Butanol verestert ist, enthält.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3150637A DE3150637C2 (de) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Ätzlösung zum Ätzen von Photopolymerfilmen und Verfahren zum Punktätzen |
US06/420,480 US4409115A (en) | 1981-12-21 | 1982-09-20 | Etching solution for etching of photopolymeric films |
EP82306617A EP0082650B1 (de) | 1981-12-21 | 1982-12-10 | Ätzlösung zum Ätzen von Fotopolymerfilmen |
JP57219365A JPS58111031A (ja) | 1981-12-21 | 1982-12-16 | 光重合体フイルム用エツチング溶液 |
CA000417958A CA1195595A (en) | 1981-12-21 | 1982-12-16 | Etching solution for etching of photopolymeric films |
AU91677/82A AU550910B2 (en) | 1981-12-21 | 1982-12-20 | Etching solution |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3150637A DE3150637C2 (de) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Ätzlösung zum Ätzen von Photopolymerfilmen und Verfahren zum Punktätzen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3150637A1 true DE3150637A1 (de) | 1983-07-07 |
DE3150637C2 DE3150637C2 (de) | 1983-11-10 |
Family
ID=6149328
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3150637A Expired DE3150637C2 (de) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | Ätzlösung zum Ätzen von Photopolymerfilmen und Verfahren zum Punktätzen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4409115A (de) |
EP (1) | EP0082650B1 (de) |
JP (1) | JPS58111031A (de) |
AU (1) | AU550910B2 (de) |
CA (1) | CA1195595A (de) |
DE (1) | DE3150637C2 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4504566A (en) * | 1982-11-01 | 1985-03-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Single exposure positive contact multilayer photosolubilizable litho element with two quinone diazide layers |
US4565770A (en) * | 1984-11-13 | 1986-01-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for dot etching acid soluble photopolymerizable elements utilizing chemically soluble pigments |
US9782748B2 (en) * | 2008-08-08 | 2017-10-10 | The University Of Toledo | Synthesis of polymeric ionic liquids using a photochemical polymerization process |
DE112020000052T5 (de) | 2020-03-23 | 2022-07-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines keramischen Formkörpers und Keramikstruktur |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2651864A1 (de) * | 1975-11-17 | 1977-05-18 | Du Pont | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial, seine verwendung und verfahren zur bildreproduktion |
DE3015077A1 (de) * | 1979-04-18 | 1980-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur bildausbildung und entwicklungsloesung hierfuer |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4173673A (en) * | 1975-11-17 | 1979-11-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dot-etchable masks from photopolymerizable elements |
-
1981
- 1981-12-21 DE DE3150637A patent/DE3150637C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-09-20 US US06/420,480 patent/US4409115A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-12-10 EP EP82306617A patent/EP0082650B1/de not_active Expired
- 1982-12-16 CA CA000417958A patent/CA1195595A/en not_active Expired
- 1982-12-16 JP JP57219365A patent/JPS58111031A/ja active Granted
- 1982-12-20 AU AU91677/82A patent/AU550910B2/en not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2651864A1 (de) * | 1975-11-17 | 1977-05-18 | Du Pont | Photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial, seine verwendung und verfahren zur bildreproduktion |
DE3015077A1 (de) * | 1979-04-18 | 1980-11-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur bildausbildung und entwicklungsloesung hierfuer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
AU9167782A (en) | 1983-06-30 |
JPS58111031A (ja) | 1983-07-01 |
AU550910B2 (en) | 1986-04-10 |
EP0082650A1 (de) | 1983-06-29 |
CA1195595A (en) | 1985-10-22 |
EP0082650B1 (de) | 1985-06-05 |
JPH0136928B2 (de) | 1989-08-03 |
US4409115A (en) | 1983-10-11 |
DE3150637C2 (de) | 1983-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2706633C2 (de) | ||
DE2027467C3 (de) | Photopolymerisierbare Kopiermasse | |
DE1572153B2 (de) | Fotopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial | |
EP0028749A2 (de) | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial | |
DE2924294A1 (de) | Lichtempfindliche lithographische druckplatte | |
DE3938108A1 (de) | Entwicklerkonzentrat und daraus hergestellter entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten mit deckschicht sowie verfahren zur herstellung von druckformen | |
EP0295547B1 (de) | Durch Photopolymerisation vernetzbares Gemisch | |
DE2725730A1 (de) | Photomaterial | |
CH644211A5 (de) | Verfahren zur herstellung von lichtempfindlichem material fuer die gerbende entwicklung. | |
DE2807933A1 (de) | Photopolymerisierbares gemisch | |
DE2932035A1 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE1797308B2 (de) | Lichtempfindliches gemisch | |
DE3150637C2 (de) | Ätzlösung zum Ätzen von Photopolymerfilmen und Verfahren zum Punktätzen | |
DE3118884A1 (de) | Verfahren zur herstellung von reliefkopien | |
DE2926235A1 (de) | Photopolymerisierbares kopiermaterial und verfahren zur herstellung von reliefbildern | |
EP0469375A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Druckzylindern mit nahtloser photolymerer Reliefschicht für den Rotationsdruck | |
DE3045149A1 (de) | Verfahren zur herstellung von reliefkopien | |
DE2652464A1 (de) | Fotografische filmeinheit zur herstellung farbiger uebertragsbilder | |
DE3413103C2 (de) | ||
DE1950120A1 (de) | Heterogene fotopolymerisierbare Masse | |
EP0384366B1 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
DE2204244C3 (de) | Fotopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial | |
EP0383200B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von photopolymerisierten Reliefdruckplatten mit klebfreier Oberfäche | |
DE2446056A1 (de) | Mit wasser entwickelbare photoempfindliche platte, deren verwendung und dafuer brauchbare photopolymerisierbare zusammensetzungen | |
CH506099A (de) | Photopolymerisierbares Material |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |