DE3144849A1 - Opto-elektronisches justierverfahren bei der herstellung von mehrlagenschaltungen - Google Patents
Opto-elektronisches justierverfahren bei der herstellung von mehrlagenschaltungenInfo
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Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| US3544801A (en) * | 1969-05-01 | 1970-12-01 | Fairchild Camera Instr Co | Mask design for optical alignment systems |
| DE2431960B2 (de) * | 1973-07-27 | 1978-10-19 | Kasper Instruments Inc., Mountain View, Calif. (V.St.A.) | Verfahren zum Erzeugen einer strukturierten Schicht auf einem Substrat mit Hilfe von Photoätzprozessen sowie Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
| DE2812976B1 (de) * | 1978-03-23 | 1979-07-12 | Luether Erich | Verfahren zur Feststellung des Versatzes zwischen Leiterbahnen und Kontaktloechern bei einer Leiterplatte sowie eine Leiterplatte zur Verwendung in diesem Verfahren |
| DE2835353A1 (de) * | 1978-08-11 | 1980-02-21 | Luther Erich | Verfahren zur feststellung des versatzes zwischen kontaktloechern und leiterbahnen bei einer leiterplatte sowie eine leiterplatte zur verwendung in diesem verfahren |
| DE3006578A1 (de) * | 1979-03-12 | 1980-09-25 | Perkin Elmer Corp | Bezugsbild zum ausrichten von masken fuer die herstellung von mikroschaltungen, verfahren zum ausrichten einer maske mit einer mikroschaltungsscheibe und verfahren und vorrichtung zum wahrnehmen und ausrichten von derartigen bezugsbildern |
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1981
- 1981-11-11 DE DE19813144849 patent/DE3144849A1/de active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3544801A (en) * | 1969-05-01 | 1970-12-01 | Fairchild Camera Instr Co | Mask design for optical alignment systems |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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