DE3130214C2 - Maske für Laser-Beschriftungssysteme - Google Patents
Maske für Laser-BeschriftungssystemeInfo
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- DE3130214C2 DE3130214C2 DE3130214A DE3130214A DE3130214C2 DE 3130214 C2 DE3130214 C2 DE 3130214C2 DE 3130214 A DE3130214 A DE 3130214A DE 3130214 A DE3130214 A DE 3130214A DE 3130214 C2 DE3130214 C2 DE 3130214C2
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- marking systems
- systems
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
- B23K26/0661—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks disposed on the workpiece
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B44—DECORATIVE ARTS
- B44C—PRODUCING DECORATIVE EFFECTS; MOSAICS; TARSIA WORK; PAPERHANGING
- B44C3/00—Processes, not specifically provided for elsewhere, for producing ornamental structures
- B44C3/005—Removing selectively parts of at least the upper layer of a multi-layer article
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Description
Die Erfindung betrifft eine Maske für Laser-Beschriftungssysteme nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs
(US-PS 41 56 124).
Für die Kennzeichnung und/oder Beschriftung von Serien-Industrieprodukten finden bereits Laser-Beschriftungssysteme
Anwendung.
Es werden vorzugsweise energiereiche, gepulste CÜ2-Laser verwendet in deren Strahlquerschnitt eine
Beschriftungsvorlage angeordnet ist, die mit Hilfe einer
Verkleinerungsoptik auf das zu beschriftende Teil abgebildet wird. Die vom Laser-Puls abgegebene
Strahlungsenergie beträgt in der Vorlagenebene ca. 0,5—5 J/mm2 und sie hat eine Wellenlänge von 1,06 bzw.
10,6 μπι. Die nach der Fokussierung auf der zu
beschriftenden Teile-Fläche auftreffende Energie wird so dimensioniert daß durch Verdampfen und/oder jo
thermische oder chemische Veränderungen eine sichtbare und dauerhafte Signatur erzeugt wird. Beschriftungsfrequenzer
bis zu 100 Impulsen/Sekunde sind möglich (»Laser Brand Marking«).
Aus der US-PS 42 19 721 ist ein Laserbeschriftungssy- a
stem bekannt, bei dem ais Maskenvorlage mit
schablonenartigem Aufbau eine absorbierende Metall-Maske mit einer Beschriftungsinformation in Form von
strahlungsdurchlässigen Freisparungen zur Anwendung kommt
Der Nachteil dieser Maskentechnik ist darin zu sehen, daß die graphische Gestaltungsfreiheit der Beschriftungsinformation
stark eingeschränkt wird. Es ist nicht möglich, in sich geschlossene, umgreifende transparente
Flächenbereiche darzustellen, weil dann das innenliegende Maskenelement jeden Verbund zur übrigen
Maske verliert. Es werden Haltestege erforderlich und der Beschriftungsinformation haften alle graphischen
Nachteile einer »Spritzschablone« an. Nicht möglich ist auch die Darstellung einer gerasterten Halbton-Information,
weil Rasterpunkte ein tragendes, transparentes Substrat voraussetzen.
In der US-PS 41 56 124 ist ein Laserbeschriftungssystem
offenbart, bei dem auf einem Rahmen ein transparentes Substrat als Träger für eine zeichenbildende
reflektierende Schicht aufgebracht ist Für energiereiche COvLaser im infraroten Bereich wird
anstelle einer transparenten Maske eine Reflexionsmaske vorgeschlagen, da als geeignetes Material für die
transparente Maske nur das hygroskopische Natriumchlorid oder Germanium verwendbar ist das aber sehr
teuer und nicht in großen Formaten verfügbar ist Die vorgeschlagene Reflexionsmaske weist den Nachteil
einer optisch aufwendigen Anordnung mit schiefen Lichtstrahlbündeln und damit verbundenen Abbildungsverzerrungen auf.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Maske der oben genannten Gattung ein transparentes
Substrat anzugeben, das ein preiswertes und einfach aufgebautes Laserbeschriftungssystem ermöglicht
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das kennzeichnende Merkmai des Anspruches geiöst
Die Erfindung ermöglicht eine wirtschaftliche Herstellung der Maskenvorlage für Laser-Beschriftungssysteme,
die sowohl in spektraler Hinsicht als auch bezüglich ihrer thermischen Belastbarkeit optimale
Eigenschaften aufweist
Die Zeichnung zeigt schematisch ein Ausführungsbeispiel der Erfindung.
Auf einem Rahmen 1 ist mittels einer Klebeschicht 2 eine aus Polyimid (z. B. unter dem Warenzeichen
»Kapton« der Firma Du Pont bekannt) bestehende Substratfolie 3 aufgeklebt Es ist auch denkbar, die
Polyimidfoüe 3 statt durch Kleben durch Spannen am Rahmen t zu befestigen. Die Polyimidfoüe 3 besitzt eine
Dicke von 5— 15μπι, vorzugsweise 10 μπι. Auf der
Polyimidfolie 3 ist die zeichenbüdende, absorbierende Schicht 4 aufgebracht. Die zeichenbüdende Schicht 4
besteht aus einem Metallfilm, zweckmäßig Gold, Kupfer oder Nickel. Die Dicke der Metallschicht 4 ist auf den
geforderten ausreichenden Kontrast abgestimmt, beispielsweise bei einer Goldschicht 4 etwa 0,5 μπι dick.
Die zeichenbüdende Metallschicht 4 wird durch Aufdampfen, Sputtern oder, auf galvanischem Wege
aufgebracht. Die Strukturierung der zeichenbildenden Metallschicht 4 erfolgt durch bekannte Verfahren der
Fotolithographie.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
- Patentanspruch:Maske für Laserbeschriftungssysteme, insbesondere mit gepulsten CO2-Lasern, bei der ein Tragring oder Rahmen vorgesehen ist, der ein transparentes Substrat als Träger für eine zeichenbildende metallische Schicht hält, dadurch gekennzeichnet, daß das transparente Substrat (3) aus einer annähernd 5 bis 15 μπι starken Polyimidfoüe besteht
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3130214A DE3130214C2 (de) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Maske für Laser-Beschriftungssysteme |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3130214A DE3130214C2 (de) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Maske für Laser-Beschriftungssysteme |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3130214A1 DE3130214A1 (de) | 1983-02-17 |
DE3130214C2 true DE3130214C2 (de) | 1983-06-16 |
Family
ID=6138173
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3130214A Expired DE3130214C2 (de) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | Maske für Laser-Beschriftungssysteme |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3130214C2 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU584563B2 (en) * | 1986-01-31 | 1989-05-25 | Ciba-Geigy Ag | Laser marking of ceramic materials, glazes, glass ceramics and glasses |
FR2650521B1 (fr) * | 1989-08-04 | 1994-09-23 | Aubertel Guy | Procede pour dessiner sur une surface metallique, par depot de matiere |
WO2013190444A2 (en) * | 2012-06-18 | 2013-12-27 | Indian Institute Of Technology Kanpur | Systems and methods for dry processing fabrication of binary masks with arbitrary shapes for ultra-violet laser micromachining |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4156124A (en) * | 1977-04-14 | 1979-05-22 | Optical Engineering, Inc. | Image transfer laser engraving |
US4219721A (en) * | 1978-08-23 | 1980-08-26 | Revlon, Inc. | Marking of lenses |
-
1981
- 1981-07-31 DE DE3130214A patent/DE3130214C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3130214A1 (de) | 1983-02-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8125 | Change of the main classification |
Ipc: B23K 26/00 |
|
8126 | Change of the secondary classification |
Ipc: B23K 26/18 |
|
D2 | Grant after examination | ||
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8331 | Complete revocation |