DE3035125A1 - Integrierter schaltkreis - Google Patents
Integrierter schaltkreisInfo
- Publication number
- DE3035125A1 DE3035125A1 DE19803035125 DE3035125A DE3035125A1 DE 3035125 A1 DE3035125 A1 DE 3035125A1 DE 19803035125 DE19803035125 DE 19803035125 DE 3035125 A DE3035125 A DE 3035125A DE 3035125 A1 DE3035125 A1 DE 3035125A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- earthing
- tinned
- links
- short
- test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/58—Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
- H01L23/60—Protection against electrostatic charges or discharges, e.g. Faraday shields
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01058—Cerium [Ce]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01068—Erbium [Er]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01075—Rhenium [Re]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
- Integrierter Schaltkreis.
- Die Erfindung betrifft einen integrierten Schaltkreis, der in einem Filmträger mit geätzten Leiterstrukturen montiert ist (Mikropack) und dessen Anschlüsse zum Schutz von statischen Aufladungen während des Transports und dergleichen an einen Kurzschlußpunkt, der mit einer Erdungsschiene verbunden ist, geführt sind.
- Die Empfindlichkeit von integrierten Schaltkreisen in MOS-Technologie gegenüber elektrostatischen Ladungen, die durch den Umgang mit den Schaltkreisen bzw. mit Baugruppen, die mit solchen Schaltkreisen bestückt sind, aufgebracht werden und zur Zerstörung dieser Schaltkreise führen können, ist allgemein bekannt.
- Aber auch bei allen anderen Schaltkreisen, die in einer anderen Technologie aufgebaut sind (z. B. bipolar), ist eine Gefährdung gegeben, die mit zunehmender Integrationsdichte dieser Schaltkreise an Bedeutung zunimmt.
- So kann davon ausgegangen werden, daß in Zukunft ein genereller Schutz von integrierten Schaltkreisen gegen elektrostatische Entladungen erforderlich ist, der durch entsprechende Maßnahmen erreicht werden muß. Dies gilt auch in besonderem Maße für Schaltkreise, die in einem Filmträger mit geätzten Leiterstrukturen montiert (tape automated bonding) als Mikropacks gehandhabt und verarbeitet werden.
- Die übliche Methode, Schaltkreise vor elektrostatischen Ladungen zu schützen, ist, diese zu erden. Bei filmmontierten Schaltkreisen (Mikropacks) ist bekannt, daß die Anschlüsse eines Schaltkreises außerhalb des äußeren Kontaktbereiches (oufflead) durch Verlängerung der Leiterstruktur zu einem oder mehreren Kurzschluß-Punkten zusammgenfaßt werden und an eine auf der gesamten Filmlänge durchlaufenden Erdungsschiene angeschlossen werden.
- Zur dynamischen Prüfung müssen die Anschlüsse des MILropacks wieder vereinzelt und von der Erdungsschiene getrennt werden und nach der Prüfung für die weitere Handhabung wieder an diese angeschlossen werden. Das geschieht dadurch, daß diese Kurzschlußpunkte ausgeschnitten werden und nach dem Prüfen, z. B. mit einer Art Lotniet, wieder verschlossen werden.
- Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Schaltkreis zu schaffen, dessen Leitungen zum Schutz gegen statische Aufladungen nach dem Prüfen in einfacher Weise mit der Erdungsschiene verbindbar sind.
- Zur Lösung dieser Aufgabe wird gemäß der Erfindung der integrierte Schaltkreis derart ausgebildet, daß in der Ätzstruktur zwischen dem Kurz schlußpunkt und der Erdschiene eine beide miteinander verbindende Strukturfläche vorgesehen ist, die an zwei Seiten von dieser getrennt ist und über einen Ausschnitt im Film angeordnet und so dimensioniert ist, daß sie nach dem Aufschneiden der dritten Seite über die vierte Seite so umklappbar ist, daß sie alle zu dem Kurzschlußpunkt führenden Leiter überdeckt.
- Weiterhin ist vorgesehen, daß die Ätzstruktur einschließlich der Strukturfläche verzinnt ist.
- Eine andere Möglichkeit besteht darin, daß die Ätzstruktur einschließlich der Strukturfläche vergoldet ist, und daß die Strukturffläche und die Leiterenden der Leiter mit einem Leitkleber beaufschlagt sind.
- Durch diese Maßnahmen erhält man ein einfaches Mittel, um nach dem Prüfen der Funktionsfähigkeit des Mitropacks die einzelnen im Außenbereich liegenden Leiter wieder miteinander kurzzuschließen, wodurch die Gefahr der Zert störung vor statischer Aufladung während des Transports und der Verarbeitung verhindert wird.
- Anhand der Ausführungsbeispiele nach den Figuren 1 bis 4 wird die Erfindung näher erläutert.
- Fig. 1 zeigt einen Ausschnitt aus einem Leiterbild eines Nikropack- Bausteins, der mit einem Kurzschlußrahmen zum Kurzschließen der einzelnen außerhalb des äußeren Kontaktierbereiches liegenden Anschlüsse versehen ist, Fig. 2 zeigt einen Ausschnitt aus der Leiterkonfiguration bei noch nicht aufgeschnittener Strukturfläche, Fig. 3 zeigt den gleichen Ausschnitt bei aufgeschnittener und umgeklappter Strukturfläche, Fig. 4 zeigt einen Querschnitt nach Fig. 3.
- In Fig. 1 wird eine Anordnung eines Kurzsöhlußrahmens (Kurzschlußpunkt und Erdungsschiene) gezeigt, bei dem das Teil, das zum Verschließen des geöffneten Kurzschlußpunktes nach dem Prüfen dient, in die geätzte Struktur mit einbezogen ist. Die geätzte Struktur ist in diesem Fall aus Cu, die mit einer Sn-Oberfläche versehen ist. Die Schaltungsanschlüsse (1) werden an Prüffiecken (2) herangeführt und zu einem Kurzschlußpunkt (3) zusammengeschlossen, der wiederum an die durchlauf ende Erdungsschiene (4) angeschlossen ist. In die Erdungsschiene eingelassen ist eine Strukturfläche (5), die an zwei Seiten von-dieser getrennt ist und über einem Ausschnitt im Film (6) angeordnet ist.
- Zum Prüfen des Mikropacks wird der Kurz schlußpunkt bzw.
- werden die Kurzs.#hlußpunkte (falls mehrere vorhanden) ausgeschnitten (7)(Fig. 2)und damit alle ScEattungsansc3hlüsse aufgetrennt. Nach dem Prüfen wird nun der Cu-Lappen (5) an der Kante (8) durchgeschnitten und um die Kante (9) so geklappt, daß er auf den offenen Anschlüssen aufliegt (Fig.
- 3). Der Lappen muß in seiner Größe so ausgelegt sein, daß der alle Anschlußenden sicher überdeckt. Das Sn auf dem Verschlußlappen und auf den Leiterenden wird aufgeschmolzen (Reflow-Verfshren), so daß eine Lötverbindung zwischen den Strukturen entsteht und der Kurzschlußrahmen wieder geschlossenist.
- Für den Fall, daß die Struktur eine andere Oberfläche als Sn hat (z. B. Au), ist vorstellbar, den Verschließlappen und die Leiterenden mit einem Leitkleber zu verbinden.
- Fig. 4 zeigt einen Querschnitt durch'des Ausschnitt nach Fig. 3. Die strichlierte Linie stellt den Kupferlappen der Strukturfläche 5 vor und nach dem Aufkleben bzw. Auflöten auf die Leiterstruktur nach dem Prüfen dar. Es ist erkennbar, wie nach dem Umkalppen der Kupferlappen der Leitungsfläche 5 auf den verlängerten gedruckten Leiterbahnen, die zu den Chipanschlüssen führen, aufgelegt ist.
- 4 Figuren 3 Patentansprüche.
Claims (3)
- Patentansprüche Integrierter Schaltkreis, der in einem Filmträger mit geätzten Leiterstrukturen montiert ist (Micropack) und dessen Anschlüsse zum Schutz von statischen Aufladungen während des Transports und dergl., an einen Kurzschlußpunkt, der mit einer Erdungsschiene verbunden ist, geführt sind, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß in der Erdstruktur zwischen dem Kurzschlußpunkt (3) und der Erdschiene (4) eine beide miteinander verbindende Strukturfläche (5) vorgesehen ist, die an zwei Seiten von dieser getrennt ist und über einen Ausschnitt (6) im Film angeordnet und so dimensioniert ist, daß sie nach dem Aufschnegen der dritten Seite über die vierte Seite so umklappbar ist, daß sie alle zu dem Kurzschlußpunkt (3) führenden Leiter (1, 2) überdeckt.
- 2. Integrierter Schaltkreis nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß die Ätzstruktur einschließlich der Strukturfläche (5) verzinnt ist.
- 3. Integrierter Schaltkreis nach Anspruch 1, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t, daß die Ätzstruktur einschließlich der Stukturfläche (5) vergoldet ist,und daß die Strukturfläche (5) und die Leiterenden der Leiter (2) mit einem Leitkleber beaufschlagt sind.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3035125A DE3035125C2 (de) | 1980-09-17 | 1980-09-17 | Integrierter Schaltkreis |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3035125A DE3035125C2 (de) | 1980-09-17 | 1980-09-17 | Integrierter Schaltkreis |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3035125A1 true DE3035125A1 (de) | 1982-03-25 |
DE3035125C2 DE3035125C2 (de) | 1986-07-31 |
Family
ID=6112221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3035125A Expired DE3035125C2 (de) | 1980-09-17 | 1980-09-17 | Integrierter Schaltkreis |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3035125C2 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3234745A1 (de) * | 1982-09-20 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zum schuetzen von filmmontierten integrierten schaltkreisen (mikropacks) vor zerstoerung durch elektrostatische aufladung |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4132856A (en) * | 1977-11-28 | 1979-01-02 | Burroughs Corporation | Process of forming a plastic encapsulated molded film carrier CML package and the package formed thereby |
-
1980
- 1980-09-17 DE DE3035125A patent/DE3035125C2/de not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4132856A (en) * | 1977-11-28 | 1979-01-02 | Burroughs Corporation | Process of forming a plastic encapsulated molded film carrier CML package and the package formed thereby |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3234745A1 (de) * | 1982-09-20 | 1984-03-22 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren und vorrichtung zum schuetzen von filmmontierten integrierten schaltkreisen (mikropacks) vor zerstoerung durch elektrostatische aufladung |
EP0103888A2 (de) * | 1982-09-20 | 1984-03-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Schützen von filmmontierten integrierten Schaltkreisen (Mikropacks) vor Zerstörung durch elektrostatische Aufladung |
EP0103888A3 (en) * | 1982-09-20 | 1985-11-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Method and device to protect film-mounted integrated circuits (micropacks) against disturbance by electrostatic charges |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3035125C2 (de) | 1986-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3408216C2 (de) | ||
DE69011233T2 (de) | Einbrennstruktur für TAB-montierte Chips. | |
EP0961531B1 (de) | Hochintegrierte elektronische Schaltung, insbesondere zum Einsatz in Herzschrittmachern | |
EP0071031A2 (de) | Trägerelement für einen IC-Baustein | |
DE3234668A1 (de) | Ic-bauteil mit eigendaempfung fuer eine vielzahl von zuleitungen | |
EP0762817A1 (de) | Abschirmung für Flachbaugruppen | |
WO1998039733A1 (de) | Chipkartenmodul und diesen umfassende chipkarte | |
DE69126115T2 (de) | Direkte Entkupplung einer Mikroschaltung | |
DE4134389A1 (de) | Tragbare speichereinrichtung | |
DE3428881A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer integrierten schaltungsvorrichtung | |
DE3234745C2 (de) | Verfahren zur Handhabung von filmmontierten integrierten Schaltkreisen und Vorrichtung zu seiner Durchführung | |
DE3809999C2 (de) | ||
DE4111049A1 (de) | Steckverbindung fuer eine schichtfoermige elektrode zur ionenkonzentrationsmessung | |
DE69730174T2 (de) | Montagestruktur zur Befestigung eines elektrischen Modules auf einer Platte | |
DE2348630B2 (de) | Einrichtung zum Schütze von MOS-Bausteinen gegen Beschädigung durch elektrostatische Aufladungen | |
EP0489958A1 (de) | Leiterplatte für elektronische Steuergeräte und Verfahren zum Herstellen einer solchen Leiterplatte | |
DE3035125A1 (de) | Integrierter schaltkreis | |
DE4036079A1 (de) | Elektronisches bauteil und elektronische vorrichtung mit einem derartigen bauteil | |
DE4329251C2 (de) | Anordnung zum Schutz von gegen Überspannungen empfindlichen Bauelementen auf gedruckten Schaltungsplatten | |
EP0468275A2 (de) | Filmträger zur bandautomatischen Verdrahtung | |
EP0886991A1 (de) | Leiterfolie zur leitenden verbindung von elektrischen und/oder elektronischen baukomponenten | |
DE4404312C1 (de) | Anordnung zum Verbinden zweier planarer Leitungen | |
EP0418508B1 (de) | Elektrischer Steckverbinder | |
EP0576708A1 (de) | Integrierter Schaltkreis mit Leiterrahmen | |
DE3316184C2 (de) | Anordnung zur Verbesserung der elektromagnetischen Verträglichkeit bei Niederfrequenz-Verstärkern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |