DE3003011C2 - Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Druckplatte und Verwendung der Druckplatte zur Herstellung von Relief-Druckformen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen Druckplatte und Verwendung der Druckplatte zur Herstellung von Relief-Druckformen

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photosensitive resin
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Seiji Kyoto Arimatsu
Yasuo Yawata Kyoto Haruta
Hideyasu Ikoma Nara Hoshii
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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US4047963A (en) * 1976-06-17 1977-09-13 Hercules Incorporated Photopolymer compositions

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