DE29715846U1 - Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen - Google Patents
Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von SchmelzenInfo
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Description
ALD Vacuum Technologies GmbH
Rückinger Straße 12
63526 Erlensee
Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen
Die Neuerung betrifft eine gattungsgemäße Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen nach
dem Oberbegriff des Schutzanspruchs 1.
Bei dem Stande der Technik nach der DE-OS 22 30 317 wird ein unten offener Tiegel bzw.
eine unten offene Gießform aus einem keramischen Werkstoff auf eine gekühlte Bodenplatte aufgesetzt.
Die gesamte Anordnung befindet sich in einer Heizeinrichtung, die von einer Wärmedämmung
umgeben ist. Die Schmelze wird in einer hiervon getrennten* Vorrichtung erzeugt und in die Gießform
abgegossen, worauf der Erstarrungsvorgang, ausgehend von der gekühlten Bodenplatte beginnt. Von
Anfang an ist also in der Gießform ein Temperaturgradient vorhanden. Durch eine Relativbewegung
zwischen Gießform und Heizeinrichtung tritt die Gießform kontinuierlich aus der Heizeinrichtung
aus. Damit beginnt eine anfänglich geringe, zuletzt aber überwiegende Wärmeabgabe von der Gießform
an die Umgebung in radialer bzw. horizontaler Richtung. Die Folge ist eine bei Fortschreiten des
Erstarrungsvorgangs von unten nach oben zunehmend stärker werdende Krümmung der Phasengrenze
fest/flüssig, die nicht mehr tolerierbar ist. Weitere Nachteile sind in einer aufwendigen mechanischen
Einrichtung entweder für das Absenken der Gießform oder für das Anheben der Heizeinrichtung
mit Wärmedämmeinrichtung zu sehen.
Durch die DE-AS 22 52 548 ist es bekannt, die zur Erstarrung zu bringende Schmelze kontinuierlich in
eine unten geschlossene Gießform mit Bodenkühlung einzubringen, und zwar in einer solchen Menge pro
Zeiteinheit, daß der Abstand der Schmelzenoberfläche von der Erstarrungsfront gering und konstant
ist. Es wird also in der Gießform zu Beginn des Verfahrens keine isotherme Schmelze erzeugt. Die
Vorratshaltung und Zufuhr einer entsprechend temperierten Schmelze ist eine aufwendige Maßnahme,
und auch das örtliche Aufschmelzen eines zentral zugeführten Drahtes ist ein schwer zu regelnder
Vorgang, will man nicht eine örtliche Störung des Wärmegleichgewichts herbeiführen. Die kontinuierliche
und punktuelle Zuführung der Schmelze erfolgt jedoch unvermeidbar mit einem gewissen Gefalle,
das eine merkliche Strömungsgeschwindigkeit bedingt, die wiederum den ErstarrungsVorgang am
Ort des Schmelzeneintritts stört. Eine isotherme Schmelze ist auf diese Weise im allgemeinen nicht
zu erreichen. Immerhin muß ja die zentral zugeführte Schmelze in radialer Richtung verteilt werden,
um überhaupt ein Gußstück entsprechenden Querschnitts erzeugen zu können. Es wird auch
nicht näher erläutert, in weicher Weise die Kühlung der Schmelze von unten in Abhängigkeit von
dem sich durch die zunehmende Stärke der erstarrten Legierung ändernden Wärmeübergang gesteuert
wird
Durch die US-PS 3,898,051 ist es bekannt, Einkristalle dadurch herzustellen, daß man eine in einem
Tiegel befindliche Schmelze durch einen in der Mitte des Tiegelbodens befindlichen Wärmetauscher
abkühlt. Durch einen den Tiegel umgebenden Heizzylinder wird nicht nur ein axialer, sondern vor allem
auch ein radialer Temperaturgradient erzeugt, so daß sich in etwa kugelförmige Phasengrenzen
einstellen. Dieser Kristallisationsvorgang ist für die Herstellung polykristalliner Gußstücke nicht
brauchbar, bei denen achsparallele Strukturen erzeugt werden sollen. Einzelheiten über eine Regelung
des Kühlvorganges werden gleichfalls nicht angegeben.
Durch die GB-PS 1,303,027 ist es wiederum bekannt, zum Zwecke einer gerichteten Erstarrung die gekühlte
Bodenplatte mit der Gießform nach unten kontinuierlich aus einer Heizvorrichtung mit Wärmedämmeinrichtung
herauszuziehen. Damit erfolgt in entsprechendem Umfange ein allmählicher Übergang
von einer überwiegend axialen zu einer überwiegend radialen Wärmeabfuhr mit der Folge, daß sich eine
merklich gekrümmte Phasengrenze einstellt.
Aus der DE 33 23 896 ist weiterhin bekannt, eine Schmelze unter Ausbildung einer praktisch völlig
ebenen Phasengrenze in einer unten geschlossenen Gießform mit Bodenkühlung abzukühlen. Der Einsatz
der in der DE 33 23 896 beschriebenen Kühlverfahren und der hierzu verwendeten Kühlvorrichtung ist
jedoch auf den Einsatz unter Atmosphärenbedingungen beschränkt, da die zur Wärmeabfuhr vorgesehenen
gasförmigen Kühlmittel apparativ aufwendige Dichtungsmaßnahmen z. B. zum Einsatz in Unterdruckatmosphäre
erfordern.
Der Neuerung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs beschriebenen Art anzugeben,
bei der der Vorgang der gerichteten Erstarrung bei einfachem Aufbau der Vorrichtung entlang
einer praktisch völlig ebenen Phasengrenze kontrolliert erfolgt und wobei die bekannten apparativen
Einschränkungen vermieden werden.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt erfindungsgemäß durch die Merkmale des Schutzanspruchs
Die Merkmale im Oberbegriff und im Kennzeichen sind natürlich gemeinsam zu betrachten:
Durch das Merkmal a) wird jegliche Wärmeabfuhr in radialer bzw. horizontaler Richtung unterdrückt.
Diese Maßnahme steht im Gegensatz zu demjenigen Stand der Technik, bei dem die Seitenflächen der
Gießform einem Abkühleffekt ausgesetzt werden. Es versteht sich, daß der Schutz gegen eine seitliche
Wärmeabfuhr um so größer ist, je besser die Isolierwirkung der Wärmedämmeinrichtung ist. Es läßt
sich aber bereits eine ausgezeichnete Wärmedämmung durch Anwendung einer Umhüllung des Tiegels mit
Graphitfilz von wenigen Zentimetern Dicke erzielen. Die seitliche Wärmeabfuhr kann dadurch leicht
merklich geringer gehalten werden als 0,1 W/cm3 .
Durch das Merkmal b) wird die Bodenplatte mit dem Tiegel stets innerhalb der Wärmedämmeinrichtung
gehalten, so daß eine merkliche seitliche Wärmeabfuhr, insbesondere eine zeitlich veränderliche
seitliche Wärmeabfuhr soweit wie irgend möglich ausgeschaltet sind.
Durch das Merkmal c) wird in Verbindung mit den übrigen Merkmalen erreicht, daß sich eine praktisch
vollständig ebene und horizontale Phasengrenze einstellt, die allmählich von der Bodenplatte
bis zum ursprünglichen Schmelzenspiegel im Tiegel fortschreitet und auch hierbei ihre ebene
Form behält.
Im Gegensatz zu demjenigen Stande der Technik, bei dem die Schmelze in einer getrennten Aufschmelzvorrichtung
erzeugt und dann in den Tiegel bzw. die Gießform dosiert eingeleitet wird, wird die
Schmelze erfindungsgemäß in dem genannten Tiegel selbst erzeugt, der infolgedessen eine Doppelfunktion
als Aufschmelzbehälter einerseits und Gießform andererseits erfüllt. Bei einer isothermen
Schmelze haben alle Schmelzenpartikel praktisch die gleiche Temperatur. Dies setzt voraus,
daß die Bodenplatte während des Aufschmelzvorgangs nicht gekühlt ist und infolgedessen die gleiche
Temperatur wie die Schmelze annehmen kann. Durch nachträgliches Einschalten der Kühlung läßt sich
der Erstarrungsvorgang räumlich und zeitlich exakt einleiten, so daß es nicht erst zu einem unkontrollierten
teilweisen Erstarrungsvorgang kommen kann, wie beim Aufgießen einer Schmelze auf eine
bereits gekühlte Bodenplatte.
Durch Beheizen der Schmelze von oben während des Erstarrungsvorganges ist der Temperaturgradient
beiderseits der Phasengrenze im gesamten Wanderungsbereich beeinflußbar, so daß damit eine Möglichkeit
gegeben ist, die Kristallisationsgeschwindigkeit im Wanderungsbereich zu beeinflussen
und insbesondere konstant zu halten. Eine Steuerung, die auf empirisch gefundenen Werten beruhen
kann, wird in der Regel dazu führen, daß die Heizleistung während des Erstarrungsvorganges kontinuierlich
zurückgenommen wird. Dies geschieht besonders vorteilhaft in der Weise, daß das Verhältnis
von Heizleistung zu Kühlleistung in der Weise gesteuert wird, daß die Wanderungsgeschwindigkeit
der Phasengrenze im gesamte Wanderungsbereich der Phasengrenze konstant gehalten wird.
Die Wärme der Bodenplatte wird sowohl durch Wärmestrahlung als auch durch Wärmeleitung gemäß
Merkmal d) über das in dem unteren Hohlraum be-
findliche Gas auf den Wärmeabsorber übertragen. Die Menge der pro Zeiteinheit übertragenen Wärme
ist dabei um so größer, je näher der Wärmeabsorber und die Bodenplatte in räumlichem Abstand zueinander
positioniert sind. Erfindungsgemäß ist durch Erhöhung der Dichte des in den unteren Hohlraum
eingebrachten Gases vorteilhaft der Wärmeleitwert k über das Füllgas einstellbar. Je höher der Gasdruck
gewählt ist, desto größer ist der Wärmeleitwert zwischen der Bodenplatte und dem Wärmeabsorber
aufgrund von Wärmeleitung.
Es ist nämlich zu berücksichtigen, daß der bereits erstarrte Teil des Gußstücks einen im Verlaufe der
Erstarrung zunehmenden Wärmewiderstand in vertikaler Richtung zum Boden hin darstellt, so daß die
Wanderungsgeschwindigkeit der Phasengrenze ohne Regelungsvorrichtung allmählich abnehmen würde.
Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung findet jedoch ein Ausgleich dahingehend statt, daß der Kühleffekt
im Bereich des Bodens mit fortschreitender Entfernung der Phasengrenze durch Wahl des Abstandes
zwischen der Bodenplatte und dem Wärmeabsorber und damit der wachsende Wärmewiderstand kompensiert
wird.
Hierdurch ist es auch vorteilhaft möglich, innerhalb des Bereichs der minimalen und maximalen mög-
lichen Erstarrungsgeschwindigkeit, welche u. a. von der Art des Schmelzgutes abhängt, eine wählbare
Erstarrungsgeschwindigkeit zu weitgehend konstanten Erstarrungsbedingungen innerhalb des gesamten
Wanderungsbereiches der Phasengrenze vom gekühlten Boden bis zum ursprünglichen Flüssigkeitsspiegel
einzustellen. Hierzu wird in Abhängigkeit der abzuführenden Wärmemenge der Wärmeabsorber
näher oder weiter zur Wärme abstrahlenden Bodenplatte verfahren, wodurch der Wärmeübergangswert
k von der Bodenplatte auf den Wärmeabsorber verändert wird.
Erfindungsgemäß wird vorgeschlagen, den Wärmeabsorber
aus mindestens zwei parallel zueinander und im wesentlichen parallel zur Bodenplatte und jeweils
durch elastisch verformbare Abstandshalter miteinander verbundene Plattenkörper auszubilden.
Durch Verschieben der Plattenkörper in Richtung der und auch gegen die Bodenplatte z. B. mittels
einer Hubstange sind die Abstände der Plattenkörper zueinander einstellbar. Hierdurch sind die
WärmeIeitwerte zwischen den Plattenkörpern und damit der totale Wärmeleitwert zwischen der Bodenplatte
und dem Wärmeabsorber in Abhängigkeit der Position des Wärmeabsorbers veränderbar. Vorzugsweise
sind die Plattenkörper aus Graphit und/oder Metall gefertigt. Hierzu werden insbesondere Gra-
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phitfolien oder aus Tantal, Wolfram oder Molybdän gefertigte Metallbleche vorgeschlagen.
Weitere Möglichkeiten für eine solche Lösung werden im Zusammenhang mit den Ausführungsbeispielen
noch angegeben.
Die erfindungsgemäße .Vorrichtung ist für die gerichtete
Erstarrung von Halbleitermaterialien, insbesondere von Silizium geeignet. Anwendbar ist
die Vorrichtung aber auch für Metalle und Legierungen mit Schmelzpunkten oberhalb 6000C, also
beispielsweise für Aluminium sowie für hochwarmfeste Superlegierungen wie Nickel- und Kobalt-Basis-Legierungen.
Eine Grenze ist im Hinblick auf die Werkstoffauswahl nur dadurch gegeben, daß man die
anfallenden Wärmemengen noch mit technisch realisierbaren Wärmetauschflächen abführen kann. Dies
hängt wiederum von den Eigenschaften des jeweils verwendeten Kühlmediums ab, wobei allerdings gesagt
werden kann, daß die auszutauschenden Wärmemengen bei Schmelzen mit Schmelzpunkten oberhalb
SOO0C durchaus beherrschbar sind. Als Wärmetauschmedien
kommen beispielsweise Flüssigkeiten, bevorzugt gekühlte Flüssigkeiten, in Frage. Eine Gaskühlung
ist insbesondere für hochschmelzende Materialien mit geringer Wärmeleitfähigkeit und einer
nicht zu hohen Kristallisationsgeschwindigkeit ge-
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eignet. Eine Gaskühlung ist auch verhältnismäßig problemlos zu handhaben und bei hochschmelzenden
Materialien infolgedessen vorzuziehen.
Bei einer Forderung nach geringen Kristallisationsgeschwindigkeiten
kann mit Gas unter vermindertem Druck im Bereich 10" mbar bis 200 mbar, vorzugsweise
im Druckbereich 10"2 mbar bis 100 mbar, gekühlt werden. Dadurch wird der Wärmetransport
reduziert, so daß die Vorgänge leichter steuer- bzw. regelbar sind.
In Frage kommt auch eine Flüssigkeitskühlung durch flüssige Metalle, die jedoch bei hohen Temperaturen
problematisch ist. Eine Flüssigmetallkühlung macht bestimmte Voraussetzungen hinsichtlich der
Werkstoffauswahl für die mit dem Flüssigmetall in Berührung kommenden Teile erforderlich. Denkbar
ist auch eine Kühlung mit sogenannten "heat pipes", bei denen eine Flüssigkeit an einem Ende
einer langen Röhre verdampft und an deren anderem Ende kondensiert wird.
Die vorstehend mit ihren Merkmalen beschriebene Vorrichtung zeichnet sich wegen des Wegfalls sämtlicher
Antriebseinrichtungen für die Tiegelbewegung und/oder die Bewegung von Heizeinrichtung und
Wärmedämmeinrichtung in vorteilhafter Weise durch
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besondere Einfachheit und Zuverlässigkeit im Betrieb aus.
Ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegenstandes wird nachfolgend anhand der Fig.
1 noch näher erläutert. Die einzige Fig. 1 zeigt einen Vertikalschnitt durch eine Vorrichtung mit
einem Tiegel.
In Fig. 1 ist eine Vorrichtung zum gerichteten Erstarren dargestellt, die aus einer Ofenkammer 1
mit einem abnehmbaren Oberteil 2 besteht. Die Ofenkammer befindet sich innerhalb einer evakuierbaren
und in der Fig. 1 nicht dargestellten Vakuumkammer. In der Ofenkammer 1 befindet sich ein
auswechselbarer Tiegel 3 mit einer zylindrischen Tiegelwand 4, in deren Mitte, d. h. etwa auf halber
Höhe, ein kühlbarer Boden 5 angeordnet ist. Der Tiegel besitzt dadurch einen H-förmigen Längsschnitt
mit einem oberen Hohlraum 6 und einem unteren Hohlraum 7.
Wie bereits ausgeführt, dient der Tiegel 3 gleichzeitig als Aufschmelzbehälter und als Gießform.
Hierfür ist der obere Hohlraum 6 vorgesehen, in dem sich anfänglich {nicht dargestellt) das feste
Ausgangsmaterial befindet. Nach dem Aufschmelzvorgang,
welcher bei einem Druck in der Vakuumkammer
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von &Igr;&Ogr;"3 mbar bis 10"1 mbar durchgeführt wird, ist
der obere Hohlraum 6 zunächst mit Schmelze 8 angefüllt, d. h. der Boden 5 wird hierbei keiner Kühlung
unterworfen. Sobald jedoch die Kühlung einsetzt, wandert vom Boden 5 allmählich eine Phasengrenze
9 (Erstarrungsfront) nach oben, unterhalb welcher sich der erstarrte Teil 10 des Gußstücks
befindet. Es ist zu erkennen, daß die Phasengrenze 9 horizontal verläuft und eben ist.
Zur Beheizung des Tiegels 3 dient eine Heizeinrichtung 13, die im Bereich des oberen Hohlraums 6
angeordnet ist und die als Widerstandsheizleiter ausgebildet ist und die Beheizung des Schmelzgutes
8 von oben ermöglicht.
Der untere Hohlraum 7 wird dadurch gebildet, daß die Tiegelwand 4 nach unten über die Bodenplatte 5
hinausragt, so daß die Baueinheiten des Tiegels 3 und der Bodenplatte 5 H-förmig sind. Alternativ
ist auch eine U-förmige Ausbildung des Tiegels 3 verwendbar. In diesem unteren Hohlraum 7 ist ein
Wärmeabsorber 14 angeordnet, der gegenüber der Bodenplatte 5 in variabel verstellbarem Abstand positionierbar
ist. Dies geschieht dadurch, daß der Wärmeabsorber 14 aus einem Stapel von Graphitplattenkörpern
22a, 22b,... gebildet wird, die übereinander im wesentlichen parallel angeordnet sind und
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rait Federn 15,15',-; 16,16',... elastisch aufeinander
lagern. Im entspannten Zustand der Federn 15,15',...; 16,16',... sind die Plattenkörper im Abstand
a zueinander gehalten. Der Stapel aus Plattenkörpern 22a, 22b,... lagert ebenfalls federnd auf
dem einen Kühlmittelkanal 23 aufweisenden Kühlstempel 25. Der Kühlmittelkanal 23 wird von einem
Kühlmedium, &zgr;. B. Gas oder einer Flüssigkeit, durchströmt, wodurch die von den Plattenkörpern
22a, 22b,... auf den Kühlstempel 25 übertragene Wärme aus dem unteren Hohlraum 8 und aus dem erstarrten
Schmelzgut 10 abgeführt wird. Außerhalb der Ofenkammer 2 und in der Fig. 1 nicht dargestellt, wird
das Kühlmedium abgekühlt und anschließend wieder durch den Kühlmittelkanal 23 geleitet. Als Kühlmedium
hat sich vorteilhaft die Verwendung von Wasser erwiesen. Der Kühlstempel 25 lagert auf einer
in vertikaler Richtung H verschiebbaren Hubstange 21, die von einer in Fig. 1 nicht dargestellten
Betätigungsvorrichtung angetrieben wird. Der Wärmeabsorber 14 erhält seine Wärme überwiegend in
axialer Richtung von der Bodenplatte 5 durch Wärmestrahlung und zusätzlich in isotroper Richtung
durch Wärmeleitung über das in dem unteren Hohlraum über die Fülleitung 2 0 eingebrachte Gas, welches
durch Kontakt mit der Bodenplatte 5 oder durch Wärmeleitung im Gas erwärmt wird. Der Gas-
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druck in dem unteren Hohlraum 7 wird mittels eines Manometers 29, welches mit der Fülleitung 20 verbunden
ist, kontrolliert. Als Füllgas eignet sich ein Edelgas oder ein Edelgasgemisch, welches auch
bei höheren Temperaturen ausreichend inert gegenüber chemischen Reaktionen mit dem Graphit der
Plattenkörper ist.
Die einzelnen Plattenkörper 22a, 22b,... bestehen bevorzugt aus mit Graphitfolie oder Metallblechen,
die z. B. aus Tantal, Wolfram oder Molybdän gefertigt sind und eine Dicke von 0,01 mm bis 0,2 mm
aufweisen. Es sind auch Kombinationen aus aufeinander liegenden Graphitfolien und Metallblechen
verwendbar, um das Wärmeleitverhalten dem angestrebten Erstarrungsverhalten der Schmelze anzupassen.
Es ist erkennbar, daß die Tiegelwand 4 und die Bodenplatte 5 eine Baueinheit darstellen. Zwischen
dem Tiegel 3 und der Ofenkammer 1 ist allseitig eine Wärmedämmexnrichtung 18 angeordnet, die einen
solchen Isolationswert und eine solche Wandstärke aufweist, daß der Wärmedurchgang merklich kleiner
ist als 0,1 W/cm . Die Wärmedämmeinrichtung 18 besteht bevorzugt aus Graphitfilz. Auch das Oberteil
2 ist mit einer entsprechenden Wärmedämmeinrichtung 19 ausgekleidet. Auf diese Weise wird verhin-
»&phgr; ■··· « t
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dert, daß merkliche Wärmemengen in seitlicher Richtung abgeführt werden. Vielmehr ist eine Abfuhr
der Erstarrungswärme praktisch ausschließlich über die Bodenplatte 5 möglich. Es ist weiterhin
ersichtlich, daß die gekühlte Bodenplatte 5 gegenüber der Wärmedämmeinrichtung 18 stationär angeordnet
ist, und daß der untere Hohlraum 7 mit einer Bohrung 17 versehen ist.
Ohne eine variable Einstellung der pro Zeiteinheit abzuführenden Wärmemenge würde die Erstarrungsgrenze
unterschiedlich schnell wandern, da sich die Phasengrenze 9, an der die Erstarrungswärme
freigesetzt wird, zunehmend von der Bodenplatte 5 entfernt und der zwischen der Phasengrenze 9 und
der Bodenplatte 5 liegende erstarrte Teil 10 des Gußstücks einen zunehmend größer werdenden Wärmewiderstand
bildet. Dies äußert sich anfänglich bei gleichem Kühlmitteldurchsatz - in einer Temperaturabsenkung
und damit in einer verringerten pro Zeiteinheit abgeführten Wärmemenge. Dieser Vorgang
wird nun durch das Verfahren des Wärmeabsorbers 14 in Richtung der Bodenplatte 5 entsprechend erhöht
wird.
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Bezugszeichenliste
1 | Ofenkammer |
2 | Oberteil |
3 | Tiegel |
4 | Tiegelwand |
5 | Bodenplatte |
6 | Hohlraum |
7 | unterer Hohlraum |
8 | Schmelze |
9 | Phasengrenze |
10 | erstarrter Teil |
13 | Heizeinrichtung |
14 | Wärmeabsorber |
15,15' | Abstandshalter |
16,16' | Abstandshalter |
17 | Bohrung |
18 | Wärmedämmeinrichtung |
19 | Wä rme dämmung |
20 | Füllleitung |
21 | Hubstange |
2 2 a, b, c,... | Plattenkörper |
23 | Kühlmittelkanal |
25 | Kühlstempel |
29 | Manometer |
k | Wärmeübe rgangswe rt |
a | Abstand |
H | Bewegungsrichtung |
Claims (5)
1. Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen mit Schmelzpunkten von mindestens
6000C in einem Tiegel durch Wärmeabfuhr in Richtung auf eine gekühlte Bodenplatte, bestehend
aus einer Ofenkammer mit einer einem Tiegel zugeordneten Heizeinrichtung sowie mit einer
kühlbaren Bodenplatte, wobei
a) der Tiegel (3) auf seiner gesamten Höhe von einer Wärmedämmeinrichtung (18) umgeben
ist,
b) die Bodenplatte (5) stationär gegenüber der Wärmedämmeinrichtung (18) angeordnet
ist,
c) der Tiegel (3) und die kühlbare Bodenplatte (5) vorzugsweise eine Baueinheit darstellen,
d) in dem dadurch gebildeten unteren Hohlraum (7) ein Wärmeabsorber (14) angeordnet ist,
der mit der Bodenplatte (5) in wärmeleitender Verbindung steht,
dadurch gekennzeichnet , daß
der Wärmeabsorber (14) mindestens zwei parallel zueinander und parallel zur Bodenplatte
(5) und jeweils durch elastisch verformbare
18 97554
Abstandshalter (15,15',...; 16,16',...) miteinander
verbundene Plattenkörper (22a, 22b, 22c,...) aufweist, und daß Mittel (21) vorgesehen sind,
mittels derer der Abstand a zwischen den Plattenkörpern (22a, 22b,...) und der Bodenplatte (5)
veränderbar ist, wodurch die von der Bodenplatte (5) auf den Wärmeabsorber (14) übertragene
Wärmemengenrate veränderbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Plattenkörper {22a,22b, 22c,...) aus Graphit oder aus mit Graphitfolien
überzogenen Metallblechen gefertigt sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Plattenkörper (22a,22b, 22c,...) mit einer Hubstange (21) in dem unteren
Hohlraum verschiebbar sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Mittel (21) Kühlmittelkanäle zur Durchleitung eines Kühlmediums aufweisen,
wodurch die von dem Wärmeabsorber (14) absorbierte Wärmemenge aus dem unteren Hohlraum (7)
ableitbar ist.
5. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
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Schmelze (8) und/oder das erstarrte Schmelzgut (10) aus Silizium besteht.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE29715846U DE29715846U1 (de) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE29715846U DE29715846U1 (de) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE29715846U1 true DE29715846U1 (de) | 1997-12-11 |
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ID=8045505
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE29715846U Expired - Lifetime DE29715846U1 (de) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Vorrichtung zum gerichteten Erstarren von Schmelzen |
Country Status (1)
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---|---|
DE (1) | DE29715846U1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009156440A1 (de) | 2008-06-26 | 2009-12-30 | Schott Ag | Wärmeisolationsanordnung mit variablem wärmeisolationsvermögen und deren verwendung sowie vorrichtung und verfahren zur herstellung von ein- oder multikristallinen oder glasigen materialien |
CN108380140A (zh) * | 2018-03-08 | 2018-08-10 | 赵桂香 | 一种高效固体物料熔化系统 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2230317A1 (de) * | 1971-06-22 | 1973-01-11 | Secr Defence Brit | Verfahren zum giessen von metallgegenstaenden |
GB1303027A (de) * | 1970-08-12 | 1973-01-17 | ||
DE2252548B2 (de) * | 1971-11-05 | 1974-12-19 | Office National D'etudes Et De Recherches Aerospatiales Chatillon-Sousbagneux, Hauts-De-Seine (Frankreich) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Legierungen mit einer durch orientiertes Erstarren erzeugten Struktur |
DE2441835A1 (de) * | 1973-10-29 | 1975-04-30 | Hewlett Packard Co | Kristallzuechtungsofen |
US3898051A (en) * | 1973-12-28 | 1975-08-05 | Crystal Syst | Crystal growing |
DE2609949A1 (de) * | 1975-03-07 | 1976-09-09 | Battelle Memorial Institute | Verfahren zur herstellung eines gusstuecks aus einer in einer richtung erstarrten metallegierung |
DE2933761C2 (de) * | 1979-08-16 | 1984-02-23 | Gebrüder Sulzer AG, 8401 Winterthur | Verfahren zur Herstellung gerichtet erstarrter Gußstücke |
DE2451464C2 (de) * | 1973-11-01 | 1984-04-26 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Vakuum-Gießvorrichtung und Verfahren zum gerichteten Erstarren |
DE3629231A1 (de) * | 1986-08-28 | 1988-03-03 | Heliotronic Gmbh | Verfahren zum aufschmelzen von in einen schmelztiegel chargiertem siliciumpulver und schmelztiegel zur durchfuehrung des verfahrens |
EP0299417A2 (de) * | 1987-07-14 | 1989-01-18 | Mitsubishi Materials Corporation | Verfahren zur Herstellung von Gussstücken aus aktivem Metall oder einer Legierung daraus, bestehend aus einem gerichteten Erstarrungsgefüge |
US5040590A (en) * | 1990-07-20 | 1991-08-20 | Brandriff Robert C | Method of cooling a centrifugal casting mold |
DE3323896C2 (de) * | 1983-07-02 | 1991-08-22 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
DE4321640A1 (de) * | 1993-06-30 | 1995-01-12 | Leybold Durferrit Gmbh | Verfahren zum gerichteten Erstarren einer Metallschmelze und Gießvorrichtung zu seiner Durchführung |
-
1997
- 1997-09-04 DE DE29715846U patent/DE29715846U1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1303027A (de) * | 1970-08-12 | 1973-01-17 | ||
DE2230317A1 (de) * | 1971-06-22 | 1973-01-11 | Secr Defence Brit | Verfahren zum giessen von metallgegenstaenden |
DE2252548B2 (de) * | 1971-11-05 | 1974-12-19 | Office National D'etudes Et De Recherches Aerospatiales Chatillon-Sousbagneux, Hauts-De-Seine (Frankreich) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Legierungen mit einer durch orientiertes Erstarren erzeugten Struktur |
DE2441835A1 (de) * | 1973-10-29 | 1975-04-30 | Hewlett Packard Co | Kristallzuechtungsofen |
DE2451464C2 (de) * | 1973-11-01 | 1984-04-26 | General Electric Co., Schenectady, N.Y. | Vakuum-Gießvorrichtung und Verfahren zum gerichteten Erstarren |
US3898051A (en) * | 1973-12-28 | 1975-08-05 | Crystal Syst | Crystal growing |
DE2609949A1 (de) * | 1975-03-07 | 1976-09-09 | Battelle Memorial Institute | Verfahren zur herstellung eines gusstuecks aus einer in einer richtung erstarrten metallegierung |
DE2933761C2 (de) * | 1979-08-16 | 1984-02-23 | Gebrüder Sulzer AG, 8401 Winterthur | Verfahren zur Herstellung gerichtet erstarrter Gußstücke |
DE3323896C2 (de) * | 1983-07-02 | 1991-08-22 | Leybold Ag, 6450 Hanau, De | |
DE3629231A1 (de) * | 1986-08-28 | 1988-03-03 | Heliotronic Gmbh | Verfahren zum aufschmelzen von in einen schmelztiegel chargiertem siliciumpulver und schmelztiegel zur durchfuehrung des verfahrens |
EP0299417A2 (de) * | 1987-07-14 | 1989-01-18 | Mitsubishi Materials Corporation | Verfahren zur Herstellung von Gussstücken aus aktivem Metall oder einer Legierung daraus, bestehend aus einem gerichteten Erstarrungsgefüge |
US5040590A (en) * | 1990-07-20 | 1991-08-20 | Brandriff Robert C | Method of cooling a centrifugal casting mold |
DE4321640A1 (de) * | 1993-06-30 | 1995-01-12 | Leybold Durferrit Gmbh | Verfahren zum gerichteten Erstarren einer Metallschmelze und Gießvorrichtung zu seiner Durchführung |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009156440A1 (de) | 2008-06-26 | 2009-12-30 | Schott Ag | Wärmeisolationsanordnung mit variablem wärmeisolationsvermögen und deren verwendung sowie vorrichtung und verfahren zur herstellung von ein- oder multikristallinen oder glasigen materialien |
DE102008029951A1 (de) | 2008-06-26 | 2009-12-31 | Schott Ag | Wärmeisolationsanordnung für Schmelztiegel und deren Verwendung sowie Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von ein- oder multikristallinen Materialien |
DE102008029951B4 (de) * | 2008-06-26 | 2011-06-09 | Schott Ag | Wärmeisolationsanordnung für Schmelztiegel und deren Verwendung sowie Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von ein- oder multikristallinen Materialien |
CN108380140A (zh) * | 2018-03-08 | 2018-08-10 | 赵桂香 | 一种高效固体物料熔化系统 |
CN108380140B (zh) * | 2018-03-08 | 2021-09-24 | 苏州乐米凡电气科技有限公司 | 一种高效固体物料熔化系统 |
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