DE2925363A1

DE2925363A1 - Schutzmittel fuer die oberflaeche lithographischer druckplatten

Info

Publication number: DE2925363A1
Application number: DE19792925363
Authority: DE
Inventors: Yoshio Okishi
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1978-06-23
Filing date: 1979-06-22
Publication date: 1980-01-03
Also published as: US4268613A; DE2925363C2

Description

MÖNCHEN DR. E. WIEGAND DR. M. KÖHLER DIK.-ING. C. GERNHARDT

HAMBURG DIPL.-ING. ]. GlAESER

WIEGAND NIEMANN KÖHLER GERNHARDT GLAESER

PATENTANWÄLTE Zugelassen beim Europäischen Patentamt

DIPL.-ING. W. NIEMANN OF COUNSEL

TELEFON: 089-555476/7 TELEGRAMME.- KARPATENT TELEX: 529068 KARP D

D-8000 MDNCHEN 2 HERZOG-WILHELM-STR. 16

22.Juni 1979

VT. 43477/79 _ Ko/Ne

Fuji Photo Film Co., Ltd. Minami Ashigara-Shi, Kanagawa, (Japan)

Schutzmittel für die Oberfläche lithographischer

Druckplatten

Die Erfindung betrifft ein Schutzmittel für die Oberfläche von lithographischen Druckplatten, insbesondere ein Plattenschutzmittel vom Emulsionstyp.

Die abschliessende Stufe beim Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte wird allgemein als Gummierstufe bezeichnet, da in dieser Stufe

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die Platte mit einer Gummierlösung zum Schutz des Mcht-Bildbereiches, welcher Wasser beibehält und die fettartige Druckfarbe abstösst, überzogen wird- Obwohl der Hauptzweck der Gummierung in der Desensibilisierung oder Erhöhung des hydrophilen Charakters des Bicht-Bildbereiches der lithographischen Druckplatte besteht, dient sie auch anderen Zwecken, nämlich zur Verhinderung einer möglichen Schädigung der lithographischen Druckplatte während des Zeitraumes zwischen der Herstellung der Platte und des Drückens oder während eines Zeitraumes, während dessen das Drucken unterbrochen wird, dazu, dass der Nicht-Bildbereich aufnahmefähig für Druckfarben auf Grund des Talgs an den Fingern und anderem Fremdmaterial während der Handhabung der lithographischen Druckplatte wird, beispielsweise wenn sie in die Druckmaschine eingesetzt wird, und zur Verhinderung der Ausbildung von Kratzern und anderen Flecken auf dem Mcht-Bildbereich oder Bildbereich, welcher Wasser abweist und die Druckfarbe annimmt, während der Handhabung der Platte.

Es wurde bereits ein Plattenschutzmittel vorgeschlagen, welches ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert (Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht) und ein aniönisches oberflächenaktives Mittel in der ölphase eines üblichen Schutzmittels vom Emulsionstyp enthält, welches den Vorteil hat, dass der lipophile Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht verringert wird. Dies ist der Gegenstand der gleichzeitig eingereichten Patentanmeldung der gleichen Anraelderin mit dem Bearbeitungszeichen W 43 479/79 und dem Titel "Mittel zum Schutz der Oberfläche von lithographischen Druckplatten". Weitere Untersuchungen ergaben, dass das vorgeschlagene Plattenschutzmittei nicht fähig ist, in zu-

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friedenstellender Weise eine Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches zu verhindern, wenn es mit einer "Nicht-Waschentwicklung" angewandt wird, d. h. einem Verfahren, wobei eine entwickelte Druckplatte mit dem Schutzmittel ohne Wäsche mit Wasser überzogen wird.

Eine Hauptaufgabe der vorliegenden Erfindung besteht deshalb in einem Schutzmittel für eine lithographische Druckplatte, welches eine Verringerung des lipophilen Charakters des Bildbereiches der Platte unabhängig davon verhindert, ob sich an das Entwicklungsverfahren eine Waschstufe anschliesst oder nicht.

Infolge ausgedehentsr Untersuchungen nach einer Gummierlösung vom Emulsionstyp, die die vorstehend angegebenen Aufgaben erreicht, wurde nun unerwarteterweise gefunden, dass die vorstehende Aufgabe erreicht werden kann, wenn ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, ein oberflächenaktives Mittel vom aliphatischen Säureestertyp und ein anionisches oberflächenaktives Mittel in die Ölphase einer üblichen Gummierläsung vom Emulsionstyp einverleibt werden. Deshalb befasst sich die Erfindung mit einem Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche einer lithographischen Druckplatte und besteht aus einer wässrigen Phase, die gelöst eine hydrophile, hochmolekulare Verbindung enthält, und eine ölphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14, ein oberflächenaktives Mittel vom aliphatischen Säureestertyp und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält.

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Im Rahmen der Beschreibung der Erfindung im einzelnen besteht das erfindungsgemäss eingesetzte oberflächenaktive Mittel vom aliphatischen Säureestertyp vorzugsweise aus einem Ester einer gesättigten oder ungesättigten aliphatischen Säure mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen und vorzugsweise 16 bis 18 Kohlenstoffatomen und einem mehrwertigen Alkohol mit vorzugsweise 3 bis 6 Kohlenstoffatomen und 2 bis 4 Hydroxylgruppen, beispielsweise Sorbit, Sorbitan, Glycerin und dgl., und hat 1 bis 3 und vorzugsweise eine aliphatische Säureeinheit je oberflächenaktive Verbindung. Typische Beispiele des aliphatischen oberflächenaktiven Mittels vom Säureestertyp umfassen Sorbitanester aliphatischer Säuren, wie Sorbitanmonopalmitat, Sorbitanmonostearat, Sorbitantristearat, Sorbitanmonooleat und Sorbitan-trioleat, Glycerinester von aliphatischen Säuren, wie Monoglycerxdstearat, Monoglyceridoleat, Glycerin-monostearat oder Glycerinmonooleat. Bevorzugte Beispiele sind Sorbitanmonooleat, Sorbitanmonostearat und Monoglycerxdstearat.

Das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-w*ert niedriger als 14 ist vorzugsweise eine Verbindung, die durch die folgende Formel (I) wiedergegeben wird und einen HLB-Wert niedriger als 14 besitzt:

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worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m die ganzen Zahlen 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder höher bedeuten.

Die Alkylgruppe R hat vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoff atome, beispielsweise eine Octylgruppe, Nonylgruppe, Decylgruppe, Undecylgruppe, Dodecylgruppe, Laurylgruppe, Tetradecylgruppe oder Hexadecylgruppe (Cetylgruppe). Die am stärksten bevorzugten Alkylgruppen sind Octylgruppen und Nonylgruppen. Obwohl R im allgemeinen in der paraStellung hinsichtlich der Gruppe -0—f^c _m ^H2m"° ^s'^belri'' kann es auch in der meta- oder ortho-Stellung sein. Die bevorzugte Zahl für ρ ist 1 und die bevorzugte Zahl für m ist 2. Obwohl η eine unterschiedliche Zahl entsprechend der Anzahl der Kohlenstoffatome in der Alkylgruppe R darstellt, liegt es innerhalb eines solchen Bereiches, dass der Wert von HLB niedriger als 14 und bevorzugt innerhalb des Bereiches von 4 bis 12 und am stärksten bevorzugt von 7 bis 12 liegt. Ein Schutzmittel unter Anwendung eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert grosser als 14 ist nicht günstig, da dabei der lipophile Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte verringert wird.

Spezifische Beispiele für nichtionische oberflächenaktive Mittel mit einem HLB-Vert niedriger als 14 umfassen Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenyläther, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, PoIyoxyäthylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenyläther, Polyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyl·= äther, Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphenyläther, PoIy-

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oxypropylencetylphenyläther, Polyoxybutylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonylphenylather, Polyoxybutylendecylphenyläther, Polyoxybutylenlaurylphenyläther, PoIyoxybutylencetylphenyläther und Polyoxyäthylendinonylphenyläther, wobei sämtliche derartigen Beispiele einen HLB-Wert niedriger als 14- besitzen. Besonders vorteilhaft für die Zwecke der Erfindung sind die Verbindungen vom Polyoxyäthylentyp, wie Polyoxyathylennonylphenyläther und Polyoxyäthylenoctylphenyläther.

Beispiele für die erfindungsgemäss einzusetzenden anionischen oberflächenaktiven Mittel sind aliphatische Säuresalze, vorzugsweise Salze von Säuren mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen, Salze von Alkylsulfatestern, vorzugsweise Salze von geradkettigen oder verzweigtkettigen Alkylestern mit 8 bis Ί8 Kohlenstoffatomen, Alkylbenzolsulfonaten, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Koh-lenstoffatome besitzt, Alkylnaphthalinsulfonate, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 3 bis 10 Kohlenstoffatome besitzt, Salze von Dialkyl sülfοsuccinatestern, worin die Alkylgruppe geradkettig oder verzweigtkettig ist und 2 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, beispielsweise eine sek.-Butylgruppe, eine tert.-Butylgruppe, eine Hexylgruppe, 2-Äthylhexylgruppe, Nonylgruppe, Decylgruppe oder Dodecylgruppe, Salze von Alkylphosphatestern, worin der Alkylanteil geradkettig oder verzweigtkettig ist und vorzugsweise 8 bis 18 Kohlenstoffatome besitzt, Kondensate von Naphthalinsulfonsäuren mit Formalin und Salze von Polyoxyäthylenalkylsulfatestern, vorzugsweise mit bis zu 6 Polyoxyäthyleneinheiten und einer geradkettigen oder verzweigt-

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kettigen Alkyleinheit mit 8 bis 18 Kohlenstoffatomen. Die am stärksten bevorzugten anionischen oberflächenaktiven Mittel bestehen aus Salzen von Dialkylsulfοsuccinaten.

Das Plattenschutzmittel, welches eine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp, eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels in der vorstehend angegebenen Weise enthält, verhindert die Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches, während ein Schutzmittel, welches nur lediglich eine Art des oberflächenaktiven Mittels unabhängig enthält, ganz gleich ob sich an das Entwicklungsverfahren eine Waschstufe anschliesst oder nicht, die Abnahme des lipophilen Charakters nicht verhindert. Sine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp und eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp oder eine Kombination eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels sind nicht so wirksam wie die Kombination der drei Arten von oberflächenaktiven Mitteln,um die Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches auf einem Minimum zu halten. Eine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp und eines anionischen oberflächenaktiven Mittels senkt den lipophilen Charakter des Bildbereiches, wenn die entwickelte Platte ohne Wasserwäsche gummiert wird.

Die Summe der drei erfindungsgemäss einzusetzenden Arten von oberflächenaktiven Mitteln liegt im Bereich von etitfa 1 bis 15 Gew.%„ vorzugs\i/eise 1 bis 10 Gew.%₄ bezogen auf das Gesamtgewicht des Oberflächenschutzmittels.

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Das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel liegt innerhalb des Bereiches von 10 : 1 bis 1 : 10, vorzugsweise 5 : 1 bis 1 : 5i auf das Gewicht bezogen. Das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureestertyp liegt innerhalb des Bereiches von 10 : 1 bis 1 : 10, vorzugsweise 5 : 1 bis 1 : 5, auf das Gewicht bezogen.

Die vorstehend aufgeführten drei Arten der oberflächenaktiven Mittel werden in einem organischen Lösungsmittel gelöst, um die ölphase des Oberflächenschutzmittels geraäss der Erfindung herzustellen. Die bevorzugten organischen Lösungsmittel sind in Wasser unlöslich und umfassen Lösungsmittel vom Kohlenwasserstofftyp, beispielsweise iex"pentinöl, Xylol, Toluol, n-Heptan, Lösungsnaphtha, Kerosin, Mineralspirit, Erdölfraktionen mit Siedepunkten von etwa 120 bis etwa 250° C, Weichmacher, die sich bei weniger als 15° C verfestigen und bei mehr als 300 C bei einer Atmosphäre sieden, beispielsweise vom Phthalsäurediestertyp, wie zum Beispiel Dibutylphthalat, Diheptylphthalat, Di-n-octylphthalat, Di-(2-äthylhexyl)-phthalat, Dinonylphthalat, Didecylphthalat, Dilaurylphthalat,und Butylbenzylphthalat, vom aliphatischen Estertyp zweibasischer Säuren, wie Dioctyladipat, Butylglykoladipat, Dioctylazelat, Dibutylsebacat, Di-(2-äthylhexyl)-sebacat und Dioctylsebacat, epoxidierte Triglyceride, wie epoxidiertes Sojabohnenöl, Phosphatester, wie Tricresylphosphat, Trioctylphosphat und Trichloräthylphosphat sowie Benzoesäureester, wie Benzylbenzoat.

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Diese Lösungsmittel können in Kombination mit einem aliphatischen Keton, wie Cyclohexanon, aliphatischen Halogeniden, wie Äthylendichlorid und Äthylenglykoläthern, wie Äthylenglykolmonomethyläther, Äthylenglykolmonophenyläther oder iLthylenglykolmonobutyläther, verwendet werden.

Diese Lösungsmittel werden in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 0,1 bis etwa 10 Gew.%, vorzugsweise von 0,5 bis 5 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt.

Die ölphase des Schutzmittels gemäss der Erfindung enthält vorzugsweise gelöst eine lipophile Substanz zum Zweck der Erhöhung der Stabilität des Schutzmittels im emulgierten Zustand und dazu,die mögliche Abnahme des lipophilen Charakters des Bildbereiches auf einem Minimum zu halten. Die bevorzugten lipophilen Substanzen sind solche, die üblicherweise als Träger für lithographische Druckfarben eingesetzt werden. Spezifische Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen Phenolharze von Novolaktyp, wie Phenol-Formaldehydharze, Cresol-Formaldehydharze oder tert.-Butylphenyl-Formaldehydharze, durch Kondensation von Phenol und Xylol mit Formaldehyd hergestellte Xylolharze, durch Kondensation von Phenol und Mesitylen mit Formaldehyd hergestellte Harze, Polyhydroxystyrol, bromiertes Polyhydroxystyrol, Cashewharze, teilweise veresterte Produkte aus einem Copolymeren. aus Styrol und Maleinsäureanhydrid, Melaminharze, Alkydharze, Polyesterharze, Epoxyharze, Naturharze oder Kolophonium oder modifizierte Naturharze oder Kolophonium, beispielsweise hydriertes Kolophonium oder Kolophoniumester und Erdölharze, wie Gilsonit. Phenolharze von Novolaktyp, Kolophonium oder modifiziertes Kolophonium werden bevorzugt.

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Andere Beispiele für geeignete lipophile Substanzen umfassen organische Carbonsäuren mit 5 bis 25 Kohlenstoffatomen, wie Oleinsäure, Laurinsäure, Valeriansäure, Nonylsäure, Caprinsäure, Myristinsäure und Palmitinsäure, sowie Rhizinusöl. Ganz gleich, ob sie einzeln oder als Gemisch eingesetzt werden, werden diese lipophilen Substanzen in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 0,05 bis etwa 5 Gew.%, vorzugsweise von 0,1 bis 1 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.

Die gemäss der Erfindung in der wässrigen Phase des Plattenschutzmittels enthaltene hydrophile hochmolekulare Verbindung wirkt zum Schutz des Nicht-Bildbereiches der lithographischen Druckplatte und ist vorzugsweise aus einem filmbildenden hydrophilen Harz aufgebaut. Beispiele für geeignete f umbilden de hydrophile hochmolekulare Verbindungen sind Dextrin, Gummi arabicum, Alginate, wie Natriumalginat, wasserlösliche Cellulosen, wie Carboxymethylcellulose, Hydroxyäthylcellulose oder Methylcellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, wasserlösliche Copolymere mit dem Gehalt an Acrylamideinheiten, Copolymere aus Vinylmethyläther und Maleinsäureanhydrid oder Copolymere aus Vinylacetat und Maleinsäureanhydrid. Besonders bevorzugt werden Gummi arabicum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und Polyvinylalkohol. Gummi arabicum wird am stärksten bevorzugt. Diese filmbildenden hydrophilen hochmolekularen Verbindungen können einzeln oder als Gemisch eingesetzt werden. Von speziellem Vorteil ist eine Kombination aus Gummi arabicum und Dextrin, die zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bildbereiches ohne Verringerung des lipophilen Charakters des BiIdbe-

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reiches fällig ist. Obwohl diese hydrophilen hochmolekularen Verbindungen in der wässrigen Phase innerhalb eines weiten Konzentrationsbereiches enthalten sein können, werden sie allgemein in Mengen innerhalb des Bereiches von etwa 5 bis etwa 40 Gew.%, vorzugsweise von Ί0 bis 30 Gew.%, bezogen auf das Gesaratgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet und ihre Konzentration in der wässrigen Phase liegt im Bereich von etwa 6 bis etwa 60 Gew.%, vorzugsweise 15 bis 50 Gew.%.

Die wässrige Phase des Plattenschutzmittels gemass der Erfindung enthält vorzugsweise ein Benetzungsmittel, damit die wässrige Phase auf dem Nicht-Bildbereich der lithographischen Druckplatte in geeignetem Ausmass ausgebreitet wird. Bevorzugte Benetzungsmittel sind mehrwertige Alkohole, und spezifische Beispiele hierfür sind Äthylenglykol, Diäthylenglykol, Triäthylenglykol, Propylenglykol, Butylenglykol, Pentandiol, Hexylenglykol, •Tetraäthyl englykol, Polyäthylenglykol, Dipropylenglykol, Tripropylenglykol, Glycerin, Sorbit oder Pentaerythrit. Glycerin wird am stärksten bevorzugt. Diese Benetzungsmittel werden in Mengen von etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.% , vorzugsweise von 1 bis 5 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, eingesetzt.

Die wässrige Phase des Plattenschutzmittels gemäss der Erfindung enthält vorzugsweise ein wasserlösliches Salz zum Zweck der Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bildbereiches der lithographischen Druckplatte, wenn sie mit dem Plattenschutzmittel überzogen wird. Vorteilhafte wasserlösliche Salze umfassen Alkalisalze und Ammoniumsalze und besonders vorteilhaft sind wasserlösliche Alkalisalze und Ammoniumsalze von Säuren, wie Essigsäure, Molybdänsäure, Borsäure, Salpetersäure, Schwefelsäure,

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Phosphorsäure und Polyphosphörsäure. Spezifische Beispiele sind Ammoniumacetat, Natriumacetat, Kaliumacetat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat, Natriumborat, Ammoniumborat, Lithiuranitrat, Natriumnitrat, Kaliumnitrat, primäres Natriumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, tertiäres Natriumphosphat, primäres Kaliumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Atnmoniumphosphat und Natriumpolyphosphat. Besonders bevorzugt werden Kaliumacetat, Natriumborat, Ammoniumborat, Kaliumnitrat, Natriummolybdat, Kaliummolybdat und Kaliumsulfat. Ganz gleich, ob einzeln oder als Gemisch verwendet, werden diese wasserlöslichen Salze in Mengen von etwa 0,05 bis tetwa 2 Gew.%, vorzugsweise 0,1 bis Λ Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Plattenschutzmittels, verwendet.

Falls als hydrophile hochmolekulare Verbindung im Lösungszustand in der wässrigen Phase des PlattenSchutzmittels Gummi arabicum verwendet wird, wird der pH-Wert der wässrigen Phase auf sauer gesteuert, vorzugsweise innerhalb eines Bereiches von 1 bis 5> stärker bevorzugt von 2 bis 4,5. Falls deshalb die wässrige Phase nicht sauer ist, wird eine Säure eingesetzt, um sie sauer zu machen. Die zur pH-Einstellung verwendeten Säuren umfassen Mineralsäuren, wie Phosphorsäure, Schwefelsäure oder Salpetersäure, sowie organische Sauren, wie Zitronensäure, Tanninsäure, Apfelsäure, Eisessig, Milchsäure, Oxalsäure oder p-Toluolsulfonsäure. Phosphorsäure ist besonders vorteilhaft, da sie nicht nur als Mittel zur Einstellung des pH-Wertes der wässrigen Phase wirkt, sondern auch die Fleckenbildung des Nicht-Bildbereiches verhindert und sie wird vorzugsweise in einer Menge von 0,01 bis 8 Gew.%, vorzugsweise

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von 0,1 bis 5 Gew.%, bezogen auf das Gesamtgewicht der wässrigen Phase, verwendet.

Nachfolgend wird ein typisches Beispiel des Verfahrens zur Herstellung des Plattenschutzmittels gemäss der Erfindung angegeben.

Zunächst wird die hydrophile hochmolekulare Verbindung in Wasser zur Bildung der wässrigen Phase gelöst. Erforderlichenfalls werden ein Benetzungsmittel, ein wasserlösliches Salz und/oder eine Säure zu der wässrigen Phase zugesetzt.

Getrennt hiervon werden die oberflächenaktiven Mittel in einem organischen Lösungsmittel zur Bildung der ölphase gelöst. Erforderlichenfalls wird eine lipophile Substanz zu der ölphase zugegeben. Die Ölphase wird tropfenweise zu der wässrigen Phase unter Eühren zugefügt. Zur Förderung der Emulgierung des Gemisches wird ein Homogenisator verwendet, bis das Schutzmittel gemäss der Erfindung hergestellt ist.

Obwohl das Plattenschutzmittel gemäss der Erfindung mit einer Vielzahl von lithographischen Druckplatten eingesetzt werden kann, wird es vorteilhaft für lithographische Druckplatten angewandt, welche durch Ausführung einer bildweisen Belichtung und Entwicklung einer vorsensibili-

J. -ι -j.-, ,. τ .r-bergest eil τ ^i^d ■

sierten lithographischen DrucKplatter, die nachfolgend als PS-Platte bezeichnet wird, welche ein mit einer lichtempfindlichen Schicht überzogenes Aluminiumsubstrat umfasst. Bevorzugte Beispiele für PS-Platten sind: ein Aluminiumsubstrat, welches mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einem Gemisch eines Diazoharzes (Salz eines

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Kondensates von p-Diazodiphenylamin mit Paraformaldehyd) und Shellak überzogen ist, wie in der britischen Patentschrift 1 350 521 beschrieben, eine negative PS-Platte, bestehend aus einem Aluminiumsubstrat, welches mit einer aus einem Gemisch eines Diazoharzes und eines Polymeren mit Hydroxyäthylmethacrylateinheiten oder Hydroxyäthylacrylateinheiten als überwiegenden sich wiederholenden Einheiten aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in den britischen Patentschriften 1 460 978 und 1 505 739 beschrieben, eine positive PS-Platte, bestehend aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer lichtempfindlichen Schicht aus einem Gemisch eines lichtempfindlichen o-Chinondiazidmaterials und eines Phenolharzes vom Novolaktyp überzogen ist, wie in der japanischen Patentanmeldung 125 806/75 beschrieben, eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer aus einem photovernetzbaren Photopolymeren aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in der US-Patentschrift 3 860 426 beschrieben, eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer aus einer photopolymerisxerbaren Photopolymermasse aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in den US-Patentschriften 4 072 528 und 4 072 527 beschrieben, sowie eine PS-Platte aus einem Aluminiumsubstrat, das mit einer aus einem Gemisch eines Azids und einem wasserlöslichen Polymeren aufgebauten lichtempfindlichen Schicht überzogen ist, wie in den britischen Patentschriften 1 235 281 und 1 495 861 beschrieben.

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in

PS-Platten, die von besonderem Vorteil für die Aufgabe gemäß der Erfindung sind, werden nachfolgend im einzelnen erläutert.

Die Aluminiumplatten, welche vorteilhaft als Substrat verwendet werden, umfassen reine Aluminiumplatten und Aluminiumlegierungsplatten sowie mit Aluminium beschichtete oder metallisierte Kunststoffolien«, Diese Aluminiumplatten werden vorzugsweise einer Oberflächenbehandlung wie Körnung, Eintauchen in eine wäßrige Lösung von Natriurasilicat, Kaliumfluorzirconat oder Phosphat oder Anodisierung unterzogen. Weitere vorteilhafte Substrate sind Aluminiumplatten"der in der US-Patentschrift 2 714 066 beschriebenen Art, weiche gekörnt sind! und anschließend in eine wäßrige Lösung von Natriumsilicat eingetaucht werden, sowie Aluminiumplatten "der in der US-Patentschrift 3 181 461 beschriebenen Art,- die anodisiert werden, bevor sie in eine wäßrige Lösung eines Alkalisilicates eingetaucht werden« Die Inodisierung wird unter Anwendung einer Aluminiumanode in einem Elektrolyt ausgeführt, der eine oder mehrere wäßrige-oder nicht-wnßrige Lösungen von anorganischen Säuren wie Phosphorsäure, Chromsäure, Schwefelsäure oder Borsäure oder organischen Säuren wie Oxalsäure.oder .SuIfaminsäure oder deren Salz® " enthält.

Das Verfahren -der Elektroabscheidung von Silicat, wie in der US-Patentschrift 3 658 662 beschrieben, kann gleichfalls vorteilhaft erfindungsgemäß angewandt werden.

Ein weiteres Beispiel für vorteilhafte Substrate ist die Aluminiumplatte der in der US-Patentschrift 4 087 341, der japanischen Patentveröffentlichung 27481/71 und der japanischen Patentanmeldung 30503/77 beschriebenes Art,

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welche zunächst elektrogekörnt wird und dann in der vorstehend beschriebenen Weise anodisiert wird. Ein weiteres Beispiel ist eine Aluminiuraplatte der in der US-Patentschrift 3 834 998 beschriebenen Art, die gekörnt ist, chemisch geätzt ist und in der vorstehenden Weise anodisiert ist. Diese Oberflächenbehandlungen werden nicht nur zu dem Zweck angewandt, die Oberfläche des Substrates hydrophil zu machen, sondern auch zum Zweck der Verhinderung irgendwelcher nachteiliger Reaktionen mit der auf dem Substrat aufgebrachten lichtempfindlichen Masse und zur Ausbildung einer starken Bindung zwischen dem Substrat und der lichtempfindlichen Schicht.

Bevorzugte Beispiele von Massen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf diesen Aluminiumsubstraten umfassen die folgenden:'

(1) Aus Diazoharzen aufgebaute Massen

Die Diazoharze, deren typische Beispiele ein Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformaldehyd sind, können wasserlöslich oder unlöslich sein und sind vorzugsweise in Wasser unlöslich und in den üblichen organischen Lösungsmitteln löslich. Besonders bevorzugte Diazoverbindungen sind Salze eines Kondensates von p-Diazodiphenylamin und Formaldehyd oder Acetaldehyd, beispielsweise Verbindungen mit zwei oder mehr Diazogruppen im Molekül in der Form eines Phenolates, Fluorcaprates oder Salzes von Sulfonsäuren wie Triisopropylnaphthalinsulfonsäure, 4,4-Biphenyldisulfonsäure, 5-Nitro-ortho-toluolsulfonsäure, 5-Sulf©salicylsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, 2-Nitrobenzolsulfonsäure, 3-Chlorbenzolsulfonsäure, 3-Brombenzolsulfonsäure, 2-Chlor-5-nitrobenzolsulfonsäure, 2-Fluorcaprylnaphthalinsulfonsäure, l-Naphthol-5-sulfonsäure, 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure und Paratoluolsulfonsäure. Weitere bevorzugte Diazoharze ura-

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fassen ein Kondensat von 2,5-Dimethoxy~4-p-tolylmercaptöbenzoldiazonium und Formaldehyd in Form der vorstehend erläuterten Salze.

Ein weiteres bevorzugtes Beispiel ist das in der britischen Patentschrift 1 312 925 beschriebene Diazoharz.

Obwohl diese Harze allein als lichtempfindliches Material zur Herstellung eines Widerstandes dienen können, werden sie bevorzugt in Kombination mit einem Binder eingesetzt.

Eine Vielzahl von Polymeren kann als Binder verwendet werden. Die bevorzugten Binder enthalten Hydroxy-, Amino-, Carbonsäure-, Amido-, Sulfonamid-, aktive Methylen-, Thioalkohol- und Epoxygruppen und andere Gruppen. Beispiele für bevorzugte Binder sind Sehellade der in der britischen Patentschrift 1 350 521 beschriebenen Art, ein Polymeres der in der britischen Patentschrift 1 460 und der US-Patentschrift 4 125 276 beschriebenen Art, welches Hydroxyäthylacrylat- oder Hydroxyathylmethacrylat-

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einheiten als überwiegende wxederholende Einheiten enthält, Polyamidharze der in der US-Patentschrift 3 751 beschriebenen Art, Phenolharze und Polyvinylacetalharze wie Polyvinylformalharze oder Polyvinylbutyralharze, die von der in der britischen Patentschrift 1 074 392 beschriebenen Art sind, lineare Polyurethanharze, mit Phthalsäure veresterte Polyvinylalkoholharze, durch Kondensation von Bisphenol A und Epichlorhydrin hergestellte Epoxyharze, Polymere mit einer Aminogruppe wie Polyaminostyrol oder Polyalkylamino^netl^acrylat, Cellulose wie Celluloseacetat, Cellulosealkyläther, Celluloseacetatphthalat, die von der in der US-Patentschrift 3 660 097 beschriebenen Art sind.

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' Diese Binder sind günstigerweise in der den licht-'* empfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von 40 bis 95 Gew.-% enthalten. Ein höherer Bindergehalt, d.h. ein niedrigerer Gehalt an Diazoharz, ergibt natürlich eine größere Empfindlichkeit, jedoch wird dies durch die niedrige zeitabhängige Stabilität ausgeglichen. Der optimale Gehalt des Bindere liegt im Bereich von etwa 70 bis 90 Gew.-%.

Die aus derartigen Diazoharzen aufgebauten Massen können gewünschtenfalls andere Zusätze wie Phosphorsäure, Farbstoff und Pigmente enthalten, wie in der US-Patentschrift 3 236 646 angegeben.

(2) Aus o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute Massen

Besondere bevorzugte o-Chinondiazidverbindungen sind o-Naphthochinondiazidverbindungen der in den US-Patentschriften 2 766 118, 2 767 092, 2 772 972, 2 859 112,

2 907 665, 3 046 110, 3 046 111, 3 046 115, 3 046 118,

3 046 119, 3 046 120, 3 046 121, 3 046 122, 3 046 123, 3 061 430, 3 102 809, 3 106 465, 3 635 709, 3 647 443 und zahlreichen weiteren Veröffentlichungen beschriebenen Art. Besonders bevorzugt werden o-Naphthochinondiazidosulfonsäureester oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureester von aromatischen Hydroxyverbindungen sowie o-Naphthochinondiazidosulfonamid oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäureamide von aromatischen Aminoverbindungen. Sehr wirksame Verbindungen sind Kondensate von Pyrogallol und Aceton, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 3 635 709 beschrieben, Polyester mit einer endständigen Hydroxylgruppe, die mit einer o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert ist, wie in der US-Patent-

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schrift 4 028 111 beschrieben, Homopolymere von p-Hydroxystyrol oder Copolymere hiervon mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren, die mit o-Naphthochinondiazidosulfonsäure oder o-Naphthochinondiazidocarbonsäure verestert sind, wie in der US-Patentschrift 4 139 384 beschrieben.

Obwohl diese o-Chinonazidverbindungen unabhängig verwendet werden können, werden sie bevorzugt als Gemisch mit alkalilöslichen Harzen eingesetzt. Geeignete alkalilösliche Harze umfassen Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz oder m-Cresolformaldehydharz. Stärker bevorzugt werden diese Phenolharze in Kombination mit tert.-Butylphenolformaldehydharzen verwendet, welche ein Kondensat von Formaldehyd und Phenol oder Cresol, die mit einer Alkylgruppe mit 3 bis 8 Kohlenstoffatomen substituiert sind, darstellt, wie in der US-Patentschrift 4 123 279 beschrieben. Diese alkalilöslichen Harze sind in der den lichtempfindlichen Widerstand bildenden Masse in einer Menge von etwa 50 bis 85 Gew.-%, vorzugsweise 60 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Masse, enthalten.

Aus derartigen o-Chinondiazidverbindungen aufgebaute lichtempfindliche Massen können gewünschtenfalls noch andere Zusätze wie Pigmente, Farbstoff und Plastifizierer enthalten.

(3) Aus lichtempfindlichen Azidverbindungen aufgebaute Massen

Geeignete lichtempfindliche Azidverbindungen sind aromatische Azidverbindungen, worin eine Azidgruppe an den aromatischen Ring entweder direkt oder über eine Carbonyl-

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gruppe oder Sulfonylgruppe gebunden ist. Bei der Aussetzung an Licht wird die Azidgruppe der Verbindung unter Bildung von Nitren zersetzt, welches in verschiedene Reaktionen eintritt, die die Verbindung unlöslich machen. Die bevorzugten aromatischen Azidverbindungen sind solche, die eine oder mehrere Gruppen wie Azidophenyl-!·, Azidostyryl-, Azidobenzal-, Azidobenzoyl- und Azidocinnamoylgruppen enthalten. Spezifische Beispiele sind 4,4'-Diazidochalcon, 4-Azido-4'-(azidobenzoyläthoxy)chalcon, Ν,Ν-Bis-p-azidobenzal-p-phenylendiamin, l,2,6-Tri(4'-azidobenzoxy)hexan, 2-Azido-3-chlor-benzochinon, 2,4-Diazido-4'-äthoxy-azobenzol, 2,6-Di-(4*-azidobenzal )-4-methylcyclohexan, 4,4'-Diazidobenzophenon, 2,5-Diazido-3,6-dichlorbenzochinon, 2,5-Bis(4-Azidostyryl)-1,3,4-oxadiazol, 2-(4-Azidocinnamoyl)thiophen, 2,5-Di(4'-azidobenzal)cyclohexanon, 4,4'-Diazidophenylmethan, l-(4-Azidophenyl)-5-furyl-2-penta-2,4-dien-l-on, l-(4-Azidophenyl)-5-(4-methoxyphenyl)-penta-l,4-dien-3-on, l-(4-Azidophenyl)-3~(l-naphthyl)propen-l-on, l-(4-Azidophenyl)-3-(4-dimethylaminophenyl)propan-l-on, l-(4-Azidophenyl)-5-phenyl-l,4-pentadien-3-on, l-(4-Azidophenyl)-3-(4-nitrophenyl)-2-propen-l-on, l-(4-Azidophenyl)-3-(2-furyl)-2-propen-1-on, l,2,6-Tri(4^f-azidobenzoxy)hexan, 2,6-Bis-(4-azidobenzylidin-p-t.-butyl)cyclohexanon, 4,4'-Diazidodibenzalaceton, 4,4'-Diazidostilben-2,2Misulfonsäure, 4'-Azidobenzalacetophenon-2-sulfonsäure, 4,4-Diazidostilben-OC-carbonsäure, Di-(4-azido-2'-hydroxybenzal)aceton-2-sulfonsäure, ^Azidobenzalacetophenon-^-sulfonsäure, 2-Azido-1, 4-dibenzolsulfonylaminonaphthalin oder 4,4-Diazidoetilben-2,2'-disulfonsäureanilid.

Diese niedrig molekularen aromatischen Diazidverbindungen können vorteilhafterweise durch azidhaltige Polymere ersetzt werden, wie sie in den japanischen Patentveröffentlichungen 9047/69, 31837/69, 9613/70, 24915/70, 25713/70 sowie den japanischen Patentanmeldungen 5102/75, 84302/75, 84303/75 und 12984/78 beschrieben sind.

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ORIGINAL INSPECTED

Die vorstehend aufgeführten lichtempfindlichen Azidverbindungen werden bevorzugt in Kombination mit einem Polymeren eingesetzt, welches als Binder wirkt. Die bevorzugten Binder sind alkalilösliche Harze. Beispiele von alkalilöslichen Harzen umfassen Naturharze wie Schellack oder Kolophonium, Phenolharze vom Novolaktyp wie Phenolformaldehydharze oder m-Cresolformaldehydharze, Homopolymere von ungesättigten Carbonsäuren oder Copolymere derselben mit weiteren copolymerisierbaren Monomeren wie Polyacrylsäure, Polymethacrylsäure, Methacrylsäure-Styrolcopolymere, Methacrylsäure-Methylacrylatcopolymere oder Styrol-Maleinsäureanhydridcopolymere, durch Umsetzung eines teilweisen oder vollständigen Verseifungsproduktes von Polyvinylacetat mit Aldehyden wie Acetaldehyd, Benzaldehyd, Hydroxybenzaldehyd oder Carboxybenzaldehyd unter Bildung eines teilweisen Acetals hergestellte Harze und Polyhydroxystyrol. Andere Beispiele für Binder sind in organischen Lösungsmitteln lösliche Harze wie Cellulosealkyläther, beispielsweise Cellulosemethyläther und Celluloseäthyläther.

Der Binder ist vorzugsweise in einer Menge von etwa IO bis etwa 90 Gew.-96, bezogen auf das Gesamtgewicht der aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Masse enthalten.

Die aus der lichtempfindlichen Azidverbindung aufgebauten Massen können gewünschtenfalls einen Farbstoff, Pigment, einen Plastifizierer wie Phthalatester, Phosphatester, aliphatischen Carbonsäureester, Glykol oder Sulfonamid und einen Sensibilisator wie Michlers-Keton, 9-Fluorenon, 1-Nitropyren, 1,8-Dinitropyren, 2-Chlor-l,2-benzanthrachinon, 2-Brom-l,2~benzanthrachinon, Pyren-i,6-chinon, 2-Chlor-l,8-phthaloy!naphthalin oder Cyanoacridin enthalten.

909881/085 1.

. Obwohl die Grundstruktur der PS-Platte, wie sie für die Zwecke der Erfindung besonders geeignet ist, aus einem mit einer aus den vorstehend abgehandelten lichtempfindlichen Materialien aufgebauten lichtempfindlichen Schicht abgedeckten Aluminiumsubstrat besteht, kann die lichtempfindliche Schicht auch gewünschtenfalls mit einer oder mehreren Harzschichten überzogen sein, wie sie spezifisch in der US-Patentschrift 3 136 637 beschrieben sind, worin das Substrat mit in der angegebenen Reihenfolge einer lichtempfindlichen Schicht, einer lipophilen Ilarzschicht, einer hydrophoben Harzschicht, einer wasserunlöslichen Harzschicht und einer weiteren Harzschicht, welche durch ein Lösungsmittel erweicht wird, bedeckt ist. Eine PS-Platte von ähnlicher Struktur ist in den britischen Patentschriften 1 478 333 und 1 478 224 beschrieben und diese Struktur ist ebenfalls im Rahmen der vorliegenden Erfindung brauchbar·

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ORIGINAL INSPECTED

In der folgenden Beschreibung wird erläutert, wie das Plattenschutzmittel gemäss der Erfindung auf eine PS-Platte in bevorzugten Ausführungsfarmen aufgebracht wird. ·

Zunächst wird die PS-Platte bildweise belichtet und entwickelt, um die lithographische Druckplatte herzustellen. Ohne Wäsche der Platte mit Wasser wird eine geeignete Menge des Plattenschutzmittels auf die Platte gegossen und ein Schwamm wird zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Platte eingesetzt. Infolge dieser Verfahren wird der Nicht-Bildbereich der Platte in der Weise geschützt, dass die lithographische Druckplatte eine ausgedehnte Lagerung aushalten kann. Die Platte wird mit Wasser zur Entfernung des Gummis gewaschen, bevor das übliche Druckverfahren beginnt.

Das Schutzmittel gemäss der Erfindung verringert den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht, wohingegen es zur Erhöhung des hydrophilen Charakters des Nicht-Bildbereiches fähig ist.

Die Schutzmittel gemäss der Erfindung arbeiten am wirksamsten, wenn sie mit lithographischen Druckplatten angewandt werden, die aus den in den beiden britischen Patentschriften 1 460 978 ader 1 505 739 beschriebenen PS-Platten hergestellt wurden.

Die Erfindung wird nachfolgend im einzelnen anhand der folgenden Beispiele erläutert, worin sämtliche Prozentsätze auf das Gewicht bezogen sind.

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Beispiele 1 bis 6 und Vergleichsbeispiele 1 und

Eine 0,24 mm dicke Aluminiumunterlage wurde durch Eintauchen in eine wässrige 7%ige Lösung von tertiärem Natriumphosphat bei 60° C entfettet und nach der Wasserwäsche wurde eine Suspension von Bims in Wasser auf das Substrat gegossen, wodurch es durch Reiben mit einer Nylonbürste gekörnt wurde. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das gekörnte Substrat während eines Zeitraumes von 30 bis 60 Sekunden in eine wässrige 5%ige Lösung von Natriumsilicat JIS Nr. 3 (Molarverhältnis von SiO^ zu 3j1 : 3,3)» die auf 70° G eingestellt war, eingetaucht.

Nach gründlicher Wäsche mit Wasser wurde das Substrat getrocknet und mit den folgenden lichtempfindlichen Lösungen A oder B überzogen. Die mit den beiden lichtempfindlichen Lösungen überzogenen Substrate wurden bei 100° C während eines Zeitraums von 2 Minuten getrocknet.

Lichtempfindliche Lösung A

Copolymeres aus 2-Hydroxyäthylmeth-

acrylat (hergestellt nach Beispiel 1

der US-Patentschrift 4 123 276) 0,7 g

Salz der 2-Methoxy-4-hydroxy-5-benzoylbenzolsulfonsäure mit einem Kondensat von p-Diazodiphenylamin und Paraformal dehyd 0,1 g

ölblau 603 (Produkt der Orient Chemical Industries Co., Ltd.) 0,03 S

2-Methoxyäthanol 6 g

Methanol 6 g

ÄthylendiChlorid 6 g

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Lichtempfindliche Lösung B

Empfindliche Lösung A 18,83 g

Halbester aus Styrol/Maleinsäure-

anhydrid (Molekulargewicht: etwa

15OO)· (Molarverhältnis von Styrol

zu Maleinsäureanhydrid = 1,5:2: 1) 0,014 g

Jede lichtempfindliche Lösung wurde aufgetragen,

bis das Trockenüberzugsgewicht 2,0 g /m betrug. Die in dieser Weise hergestellten lichtempfindlichen lithographischen Druckplatten wurden als Platten A bzw. B bezeichnet. Jede Platte wurde bildweise während eines Zeitraums von 4-5 Sekunden an eine Kohlenbogenlampe (30 Ampere), die im Abstand von 70 cm gehalten wurde, ausgesetzt. Anschliessend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung bei Raumtemperatur während eines Zeitraums ^von 1 Minute eingetaucht und die Oberfläche der Platte.schwach mit Watte zur Entfernung der unbelichteten Bereiche gerieben. Die Produkte werden als lithographische Druckplatten A und B bezeichnet.

Natri um s ulfit Benzylalkohol Triäthanolamin Monoäthano1amin

Perex NBL (Natrium-tert.-hutylnaphthalinsulfonat, Produkt der Kao-Atlas Co., Ltd.)

Wasser

Eine wässrige Lösung C der folgenden Zusammensetzung wurde hergestellt und eine Lösung D mit der weiteren nachstehend angegebenen Zusammensetzung wurde allmählich zu der wässrigen Lösung G unter kräftigem Rühren zugesetzt und die erhaltene Emulsion wurde der weiteren Emulgierung

3	g
30	6
20	g
5	g
30	g
1000	ml

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unter Anwendung eines Homogenisators unterworfen, bis das Schutzmittel gemäss der Erfindung hergestellt war.

Wässrige Lösung C	4- S
Gummi arabicum	16 g
Dextrin	0,05 g
Phosphorsäure (85 %)	75 g
Wasser
Lösung B	1,0 g
Katriumdilaurylsulfο sue cinat	2,0 g
Dibutylphthalat	.1,0 g
Polyoxyathylennonylphenylather (HLB=8)
Oberflächenaktives Mittel vom aliphati-

sehen Säureestertyp 1,0 g

(siehe nachfolgende Tabelle I)

Ohne Wäsche der lithographischen Druckplatten mit Wasser wurde eine geringe Menge des in dieser Weise hergestellten Plattenschutzmittels tropfenweise auf den Platten aufgetragen und ein Schwamm wurde zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche jeder Druckplatte verwendet. Die beiden in dieser Weise behandelten Platten werden als Platten A bzw. Platte. B bezeichnet.

Zur Kontrolle wurde die Platte B entwickelt, mit Wasser gewaschen, der Überschuss an Wasser durch Abwischen entfernt, eine geringe Menge des Schutzmittels tropfenweise zugesetzt und ein Schwamm zur Ausbreitung des Mittels zur Abdeckung der gesamten Oberfläche der Platte verwendet, wobei die in dieser Weise behandelte Platte als Platte C bezeichnet wird.

Anschliessend wurde jede Platte mit Wasser zur Ent-

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fernung des Schutz mittels "von deren Oberfläche gewaschen und in eine Druckmaschine zum Drucken eingesetzt. Der lipophile Charakter der Platte wurde bewertet, indem die Anzahl an verschmutzten Blättern gezählt wurde, bevor Drucksachen mit einer zufriedenstellenden Konzentration der Druckfarbe erhalten wurden, wobei diese Zahlen nachfolgend als Anzahl von Abfallblättern bezeichnet wird. Die Ergebnisse der Untersuchung sind in der nachfolgenden Tabelle I aufgeführt.

	Tabelle I	Anzahl	15	der Abfallbögen	B Platte C
Versuch	Oberflächenaktives	Mittel vom aliphati- Platte A sehen Säureestertyp	15	Platte	10
		Sorbitanmonopalraitat	10	10	10
Beisp.1	Sorbitanmono stearat	15	10	VJI
2	Sorbitanmonoolelat	5	VJl	5
3	Sorbitantrioleat	10	5	10
4	Monoglyceridmono stearat	40	10	5
VJl	Monoglyceridoleat	80	5	10
6	ohne		30	60
Vergl.- beisp.1	Lediglich Lösung C als Schutzmittel		80
2

Tabelle I zeigt den stark lipophilen Charakter des erfindungsgemäss hergestellten Schutzmittels. Es ist darauf hinzuweisen, dass sämtliche mit den Schutzmitteln der Beispiele 1 bis 6 und der Vergleichsbeispiele 1 und 2 behandelten lithographischen Druckplatten Drucksachen ohne Flecken lieferten.

§08881/0

Beispiele 7 bis 9 und Vergleichsbeispiele 3 und 4-

Ein mechanisch gekörntes 2S-Aluminiumsubstrat wurde teilweise durch Eintauchen in eine 2%ige wässrige Lösung von Natriumhydroxid bei 40 C während eines Zeitraums von

1 Minute geätzt. Nach der Wäsche mit Wasser wurde das Alurainiumsubstrat in ein Gemisch aus Schwefelsäure und Chromsäure während eines Zeitraums von etwa 1 Minute zur Freilegung der Oberfläche aus reinem Aluminium eingetaucht. Dann wurde das Substrat in eine 20%ige Schwefelsäure bei 30° C eingetaucht und einer Anodisierung bei einer Spannung von 1,5 "V Gleichstrom und einer Strom-

2
dichte von 3 A/dm unterworfen, worauf mit Wasser gewaschen und getrocknet wurde. Anschliessend wurde ein Walzenüberzugsgerät verwendet, um kontinuierlich das Substrat mit der lichtempfindlichen Lösung der folgenden Zusammensetzung zu überziehen, bis das Trockenüberzugsgewicht

2 g /m betrug.

Naphthochinon-1,2-diazid(2)-5-sulfonsäureester eines Aceton-Pyrrogallolharzes (hergestellt nach Beispiel 1 der US-Patentschrift 3 635 709)

PR-50530 (tert.-Butylphenol/Formaldehydharz der Sumitomo Durez Co., Ltd.)

Hitanol 3110 (Cresol/Formaldehydharz der Hitachi Chemical Co., Ltd.)

Methyläthylke ton Cyclohexanon

Die bei 100° C während eines Zeitraumes von 2 Minuten getrocknete Platte zeigte das Verhalten einer PS-Platte, die an einem kühlen dunklen Ort während eines Zeitraumes von 1 Jahr ohne irgendeine signifikante Schädigung ihrer Qualität gelagert werden konnte. Die in dieser Weise vor-

5	S
O	,5 g
VJl	6
50	S
40	g

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sensibilisierte lithographische Druckplatte wurde in einen Vakuuradruckrahmeη eingesetzt und an Fuji Film PS-Licht (mit einer 3 KW-Lichtquelle der Toshiba-Metal Halogenidlampe MU 2000-2-OL der Fuji Photo Film Co., ^td.) durch einen positiven Film während eines Zeitraumes von 30 Sekunden ausgesetzt. Anschliessend wurde die Platte in eine Entwicklerlösung der folgenden Zusammensetzung eingetaucht.

Natriumsilicat JIS Nr. 3 10 g

Aerosol OS (Natrium-isopropylnaphthalin-

sulfonat der American Cyanamide CoI.) 20 g

Benzylalkohol 30 g

Wasser zu Ϊ000 ml

Die erhaltene lithographische Druckplatte wurde abgewischt und mit einem der drei Plattenschutzmittel mit der gleichen Zusammensetzung, wie in Beispiel 1 hergestellt, gummiert, die jedoch unterschiedliche oberflächenaktive Mittel vom aliphatischen Säureestertyp enthielten, wie in der nachfolgenden Tabelle II angegeben. Die Platte wurde auch mit Vergleichsschutzmitteln der in der gleichen Tabelle angegebenen Zusammensetzungen gummiert. Dann wurde jede Platte bei 80° C während eines Zeitraumes von 5 Minuten getrocknet. Die fünf. Druckplatten wurden bei einer Temperatur von 20° C während eines Zeitraumes von 7 Tagen stehengelassen, zum Drucken nach üblichem Verfahren verwendet und die Anzahl an Abfallblättern wurde gezählt. Die Ergebnisse der Zählung sind in der nachfolgenden Tabelle II aufgeführt.

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Tabelle II

Versuch. Oberflächenaktives Mittel Anzahl an Abfallvom aliphatischen Säure- blättern
estertyp

Beisp.7 Sorbitanmonooleat 10

8 Sorbitantristearat 5

9 Sorbitantrioleat 5

Vergl.-

beisp.3 ohne 20

4- Lediglich Lösung C als

Schutzmittel 40

Die vorstehenden Ergebnisse belegen, dass die Plattenschutzmittel geraäss der Erfindung den Vorteil haben, den lipophilen Charakter des Bildbereiches der lithographischen Druckplatte nicht zu erniedrigen.

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Claims

Patentansprüche

Λ.) Schutzmittel vom Emulsionstyp für die Oberfläche" von lithographischen Druckplatten, bestehend aus einer wässrigen Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, und einer Ölphase, die ein organisches Lösungsmittel, ein nichtionisches oberflächenaktives Mittel vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14-, ein oberflächenaktives Mittel vom aliphatischen Säureestertyp und ein anionisches oberflächenaktives Mittel enthält.
2. Schutzmittel nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das oberflächenaktive Mittel vom aliphatischen Säureestertyp aus einem Ester einer aliphatischen Säure mit 12 bis 18 Kohlenstoffatomen und einem mehrwertigen Alkohol besteht.
3. Schutzmittel nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, dass das oberflächenaktive Mittel aus einem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säuresorbitantyp oder einem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureglycerintyp besteht.
4. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das oberflächenaktive Mittel aus Sorbitanraonopalmitat, Sorbitanmonostearat, Sorbitantristearat, Sorbitanmonooleat, Sorbitantrioleat, Monoglyceridstearat, Monoglyceridoleat, Glycerinmonostearat und/oder Glycerinmonooleat besteht.

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ORIGINAL INSPECTED
5· Schutzmittel nach, Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das oberflächenaktive Mittel aus Sorbitanmonooleat, Sorbxtaniiiono stearat und/oder Monoglyceridsteara t besteht.
6. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 5» dadurch gekennzeichnet, dass die Gesamtmenge der oberflächenaktiven Mittel in der ölphase etwa 1 bis 15 %, bezogen auf das Gesamtgewicht des Schutzmittels beträgt.
7· Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel etwa 10 : 1 bis 1 : 10 beträgt und das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp zu dem oberflächenaktiven Mittel vom aliphatischen Säureestertyp etwa 10 : 1 bis 1 : 10 beträgt.
8. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 7i dadurch gekennzeichnet, dass das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus einer Verbindung der formel (I) besteht

°—*- ^Cm^H2rn-° ^T-H (D

worin R eine Alkylgruppe, ρ die Zahlen 1 oder 2, m eine ganze Zahl von 1 bis 4 und η eine ganze Zahl von 2 oder höher bedeuten.

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ORIGINAL INSPECTED
9. Schutzmittel nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus dem Polyoxymethylenoctylphenyläther, Polyoxymethylennonylphenyläther, Polyoxymethylencetylphenyläther, Polyoxymethylenlaurylphenyläther, Polyoxyäthylenoctylphenyläther, Polyoxyäethylennonylphenyläther, Polyoxyäthylendecylphenylather, Poiyoxyäthylenlaurylphenyläther, Polyoxypropylenoctylphenyläther, Polyoxypropylennonylphenyläther, Polyoxypropylendecylphenyläther, Polyoxypropylenlaurylphenyläther, PoIyoxypropylencetylphenyläther, Polyoxybutylenoctylphenyläther, Polyoxybutylennonylphenyläther, Polyor.ybutylendecylphenyläther, Polyoxybutylenlaurylphenyläther, PoIyoxybutylencetylphenyläther und/oder Polyoxyä thylendinonylphenyläther, jeweils mit einem HLB-Vert niedriger als 14, besteht.

10. Schutzmittel nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, dass das nichtionische oberflächenaktive Mittel vom Alkylphenyltyp aus Polyoxyäthylenonylphenyläther oder Polyoxyäthylenoctylphenyläther besteht.

11. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem aliphatischen Säuresalz, einem Alkylsulfatester, einem Alkylbenzolsulfonat, einem Alkylnaphthalinsulfonat, einem Dialkylsulfοsuccinatester, einem Alkylphosphatester, einem Kondensat von Naphthalinsulfonsaure und Formalin oder einem Polyoxyäthylenalkylsulfatester besteht.

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12. Schutzmittel nach Anspruch 11,dadurch gekennzeichnet, dass das anionische oberflächenaktive Mittel aus einem Dialkylsulfosuccinat besteht.

13· Schutzmittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Dialkylsulfosuccinat aus Natriumdihexylsulfοsuccinat, Natrium-di-(2-äthylhexyl)-sulfosuccinat, Natrium-dinonylsulfοsuccinat und/oder Natriumdilaurylsulfοsuccinat besteht.

14. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 13» dadurch gekennzeichnet, dass die Gesamtmenge von nichtionischem und anionischem oberflächenaktiven Mittel etwa 0,5 bis etwa 10 Gew.%, bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, beträgt.

15· Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Verhältnis des nichtionischen oberflächenaktiven Mittels zu dem anionischen oberflächenaktiven Mittel etwa 10 : 1 bis 1 : 10 beträgt.

16. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass das organische Lösungsmittel aus einem Plastifizierer, der sich bei einer Temperatur niedriger als 15° C verfestigt und bei einer Temperatur höher als 300 G bei Atmosphärendruck siedet, besteht.

17· Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 15» dadurch gekennzeichnet, dass das organische Lösungsmittel aus einem in Wasser unlöslichen Lösungsmittel besteht.

18. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, dass das Lösungsmittel in einer Menge von

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etwa 0,1 bis 10 Gew.% , bezogen auf das Gewicht des Plattenschutzmittels, vorliegt.

19· Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Ölphäse zusätzlich eine lipophile Substanz enthält, die die Stabilität der Emulsion erhöht.

20. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 19-> dadurch gekennzeichnet, dass das hydrophile Polymere aus Dextrin, Gummi arabicum, einem Alginat, einer wasserlöslichen Cellulose, Polyvinylalkohol, Polyvinylpyrrolidon, Polyacrylamid, Acrylamidcopolymerem, Vinylmethyläther-Maleinsäureanhydrid-Copolymerem und/oder Vinylacetat-Maleinsäureanhydrid-Copolymerem besteht.

21. Schutzmittel nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass das hydrophile Polymere aus Gummi arabicum, Dextrin, Polyvinylpyrrolidon, Carboxymethylcellulose und/ oder Polyvinylalkohol besteht.

22. Schutzmittel nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, dass das hydrophile Polymere aus Gummi arabicum besteht.

23- Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 22, dadurch gekennzeichnet, dass die hydrophile polymere Verbindung in einer Menge von etwa 5 bis 40 Gew.%, bezogen auf das Gewicht der Plattenschutzmittels, vorliegt.

24. Schutzmittel nach Anspruch 1 bis 23, dadurch gekennzeichnet, dass die wässrige Phase zusätzlich ein Benetzungsmittel enthält.

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(ρ

25· Schutzmittel nach Anspruch 24-, dadurch gekennzeichnet, dass das Benetzungsmittel aus einem mehrwertigen Alkohol besteht.

26. Schutzmittel nach Anspruch Λ bis 25, dadurch gekennzeichnet, dass die wässrige Phase zusätzlich ein wasserlösliches Salz enthält.

27· Gummierverfahren, wobei eine Schutzlösung auf eine lithographische Druckplatte, die aus einem Nicht-Bildbereich, welcher Wasser zurückhält und fettartige Druckfarben abweist, und einem Bildbereich, welcher Wasser abweist und die fettartige Druckfarbe annimmt, besteht, aufgezogen wird, wobei die Schutzlösung eine ölphase, die ein ein oberflächenaktives Mittel lösendes organisches Lösungsmittel umfasst und eine wässrige Phase, die gelöst eine hydrophile hochmolekulare Verbindung enthält, umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass eine ölphase angewandt wird, die eine Kombination eines nichtionischen oberflächenaktiven Mittels vom Alkylphenyltyp mit einem HLB-Wert niedriger als 14·,eines oberflächenaktiven Mittels vom aliphatischen Säureestertyp und einae anionischen oberflächenaktiven Mittels enthält.

28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, dass eine lithographische Druckplatte angewandt wird, welche aus einer vorsensibilisierten Platte hergestellt wurde.

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