DE2900921C2 - Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück - Google Patents

Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück

Info

Publication number
DE2900921C2
DE2900921C2 DE2900921A DE2900921A DE2900921C2 DE 2900921 C2 DE2900921 C2 DE 2900921C2 DE 2900921 A DE2900921 A DE 2900921A DE 2900921 A DE2900921 A DE 2900921A DE 2900921 C2 DE2900921 C2 DE 2900921C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
alignment
workpiece
adjustment
pattern
alignment marks
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE2900921A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE2900921B1 (de
Inventor
Dr.rer.nat. Ernst W. Eschen Liechtenstein Löbach
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Perkin Elmer Censor Anstalt
Original Assignee
CENSOR PATENT- und VERSUCHS-ANSTALT 9490 VADUZ LI
Censor Patent und Versuchs Anstalt 9490 Vaduz
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by CENSOR PATENT- und VERSUCHS-ANSTALT 9490 VADUZ LI, Censor Patent und Versuchs Anstalt 9490 Vaduz filed Critical CENSOR PATENT- und VERSUCHS-ANSTALT 9490 VADUZ LI
Priority to DE2900921A priority Critical patent/DE2900921C2/de
Priority to US06/109,169 priority patent/US4357100A/en
Priority to JP55000327A priority patent/JPS5924537B2/ja
Priority to NL8000166A priority patent/NL8000166A/nl
Priority to FR8000480A priority patent/FR2446507A1/fr
Priority to GB8000969A priority patent/GB2041554A/en
Publication of DE2900921B1 publication Critical patent/DE2900921B1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2900921C2 publication Critical patent/DE2900921C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment
    • G03F9/7076—Mark details, e.g. phase grating mark, temporary mark

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Projection-Type Copiers In General (AREA)
DE2900921A 1979-01-11 1979-01-11 Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück Expired DE2900921C2 (de)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2900921A DE2900921C2 (de) 1979-01-11 1979-01-11 Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück
US06/109,169 US4357100A (en) 1979-01-11 1980-01-02 Arrangement for projection copying masks on to a work piece
JP55000327A JPS5924537B2 (ja) 1979-01-11 1980-01-08 加工片上へのマスク投写装置
NL8000166A NL8000166A (nl) 1979-01-11 1980-01-10 Inrichting voor het door projectie kopieren van maskers op een werkstuk.
FR8000480A FR2446507A1 (fr) 1979-01-11 1980-01-10 Dispositif pour produire par projection des masques sur une piece
GB8000969A GB2041554A (en) 1979-01-11 1980-01-11 Registration marks for projection copying

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2900921A DE2900921C2 (de) 1979-01-11 1979-01-11 Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2900921B1 DE2900921B1 (de) 1980-07-24
DE2900921C2 true DE2900921C2 (de) 1981-06-04

Family

ID=6060372

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2900921A Expired DE2900921C2 (de) 1979-01-11 1979-01-11 Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück

Country Status (6)

Country Link
US (1) US4357100A (US08063081-20111122-C00044.png)
JP (1) JPS5924537B2 (US08063081-20111122-C00044.png)
DE (1) DE2900921C2 (US08063081-20111122-C00044.png)
FR (1) FR2446507A1 (US08063081-20111122-C00044.png)
GB (1) GB2041554A (US08063081-20111122-C00044.png)
NL (1) NL8000166A (US08063081-20111122-C00044.png)

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3318980C2 (de) * 1982-07-09 1986-09-18 Perkin-Elmer Censor Anstalt, Vaduz Vorrichtung zum Justieren beim Projektionskopieren von Masken
JPS5950518A (ja) * 1982-09-01 1984-03-23 パ−キン−エルマ−・ツエンゾ−ル・アンシュタルト 投影プリント方法
JPS5946026A (ja) * 1982-09-09 1984-03-15 Toshiba Corp 試料位置測定方法
JPS5972728A (ja) * 1982-10-20 1984-04-24 Canon Inc 自動整合装置
JPS59101829A (ja) * 1982-12-01 1984-06-12 Canon Inc アライメントマ−クの配置方法
DE3485022D1 (de) * 1983-12-26 1991-10-10 Hitachi Ltd Belichtungsvorrichtung und verfahren fuer die ausrichtung einer maske mit einem arbeitsstueck.
DE3402177A1 (de) * 1984-01-23 1985-07-25 Werner Dr. Vaduz Tabarelli Einrichtung zum kopieren einer maske auf ein halbleitersubstrat
DE3402178A1 (de) * 1984-01-23 1985-07-25 Werner Dr. Vaduz Tabarelli Vorrichtung zum projektionskopieren von masken auf ein werkstueck
JPH0722097B2 (ja) * 1984-06-11 1995-03-08 株式会社ニコン 投影露光方法
US4682037A (en) * 1984-07-10 1987-07-21 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus having an alignment light of a wavelength other than that of the exposure light
US4701050A (en) * 1984-08-10 1987-10-20 Hitachi, Ltd. Semiconductor exposure apparatus and alignment method therefor
US4725737A (en) * 1984-11-13 1988-02-16 Hitachi, Ltd. Alignment method and apparatus for reduction projection type aligner
JPS61183928A (ja) * 1985-02-12 1986-08-16 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
JPS61123139A (ja) * 1985-10-11 1986-06-11 Canon Inc アライメント装置
JPH0685387B2 (ja) * 1986-02-14 1994-10-26 株式会社東芝 位置合わせ方法
JPS62281422A (ja) * 1986-05-30 1987-12-07 Canon Inc 露光装置
JPS62293718A (ja) * 1986-06-13 1987-12-21 Canon Inc 露光装置
US5137363A (en) * 1986-06-04 1992-08-11 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPS63187729U (US08063081-20111122-C00044.png) * 1987-05-26 1988-12-01
JPS63153821A (ja) * 1987-10-27 1988-06-27 Nikon Corp 位置合わせ装置
US5631731A (en) * 1994-03-09 1997-05-20 Nikon Precision, Inc. Method and apparatus for aerial image analyzer
US5917332A (en) * 1996-05-09 1999-06-29 Advanced Micro Devices, Inc. Arrangement for improving defect scanner sensitivity and scanning defects on die of a semiconductor wafer
SE540184C2 (en) 2016-07-29 2018-04-24 Exeger Operations Ab A light absorbing layer and a photovoltaic device including a light absorbing layer

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3695758A (en) * 1969-06-30 1972-10-03 Nippon Kogaku Kk Illumination device for projector type ic printer
DE2539206A1 (de) * 1975-09-03 1977-03-17 Siemens Ag Verfahren zur automatischen justierung von halbleiterscheiben
DE2707477A1 (de) * 1976-02-25 1977-09-15 Hitachi Ltd Verfahren und vorrichtung zur masken-ausrichtung bei verkleinerungsprojektion

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3844655A (en) * 1973-07-27 1974-10-29 Kasper Instruments Method and means for forming an aligned mask that does not include alignment marks employed in aligning the mask
US3865483A (en) * 1974-03-21 1975-02-11 Ibm Alignment illumination system

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3695758A (en) * 1969-06-30 1972-10-03 Nippon Kogaku Kk Illumination device for projector type ic printer
DE2539206A1 (de) * 1975-09-03 1977-03-17 Siemens Ag Verfahren zur automatischen justierung von halbleiterscheiben
DE2707477A1 (de) * 1976-02-25 1977-09-15 Hitachi Ltd Verfahren und vorrichtung zur masken-ausrichtung bei verkleinerungsprojektion

Also Published As

Publication number Publication date
FR2446507B3 (US08063081-20111122-C00044.png) 1981-10-16
NL8000166A (nl) 1980-07-15
GB2041554A (en) 1980-09-10
JPS55108743A (en) 1980-08-21
FR2446507A1 (fr) 1980-08-08
US4357100A (en) 1982-11-02
DE2900921B1 (de) 1980-07-24
JPS5924537B2 (ja) 1984-06-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2900921C2 (de) Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück
DE2845603C2 (de) Verfahren und Einrichtung zum Projektionskopieren
DE3104007C2 (US08063081-20111122-C00044.png)
DE3114682C2 (US08063081-20111122-C00044.png)
DE2905636C2 (de) Verfahren zum Kopieren von Masken auf ein Werkstück
DE2431960C3 (de) Verfahren zum Erzeugen einer strukturierten Schicht auf einem Substrat mit Hilfe von Photoätzprozessen sowie Einrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
DE69133544T2 (de) Vorrichtung zur Projektion eines Maskenmusters auf ein Substrat
DE69827608T2 (de) Ausrichtungsvorrichtung und lithographischer apparat mit einer solchen vorrichtung
EP0002668B1 (de) Einrichtung zur optischen Abstandsmessung
DE2263856A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum korrigieren defekter fotomasken
DE2439987A1 (de) Verfahren zum ausrichten von objekten durch elektrooptische vorrichtungen
DE2615084A1 (de) Vorrichtung zum beobachten eines objekts
DE2910280A1 (de) Optisches abbildungssystem
DE102009029471A1 (de) Spiegel zur Verwendung in einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
DE19611726B4 (de) Blindstruktur zur Außeraxial-Belichtung
DE112017000543T5 (de) Laserstrahl-bestrahlungsvorrichtung
DE3228806A1 (de) Belichtungseinrichtung
DE3039162A1 (de) Ausrichteinrichtung
DE2211476C3 (de) Verfahren zur Ausrichtung von zur Deckung zu bringenden Bildern in einer Projektions-Belichtungseinrichtung, insbesondere zur Fertigung integrierter Schaltungen
DE2948646A1 (de) Automatisch arbeitende vorrichtung zum ausrichten einer photomaske
DE102015209173A1 (de) Verfahren zum herstellen eines objektivs für eine lithographieanlage sowie messvorrichtung
AT413305B (de) Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske
DE3248382A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum ausrichten
DE3402178A1 (de) Vorrichtung zum projektionskopieren von masken auf ein werkstueck
DE2421509B2 (de) Verfahren und vorrichtung zur ausrichtung einer folge von masken in bezug auf ein substrat

Legal Events

Date Code Title Description
8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: HENKEL, G., DR.PHIL. FEILER, L., DR.RER.NAT. HAENZEL, W., DIPL.-ING., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: PERKIN-ELMER CENSOR ANSTALT, VADUZ, LI

8328 Change in the person/name/address of the agent

Free format text: DERZEIT KEIN VERTRETER BESTELLT

8339 Ceased/non-payment of the annual fee