DE2850656C2

DE2850656C2 - Elektronenstrahlerzeugungssystem für Kathodenstrahlröhren

Info

Publication number: DE2850656C2
Application number: DE19782850656
Authority: DE
Inventors: Eizaburo Kumagaya Saitama Hamano; Shinpei Fukaya Saitama Koshigoe; Shigeo Fukaya Saitama Takenaka
Original assignee: Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1977-11-22
Filing date: 1978-11-22
Publication date: 1984-04-19
Also published as: DE2850656A1; ES475304A1

Description

Die Erfindung bctriffi ein Elektroncnstrahlerzeugungssystem für Kathodenstrahlröhren gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1. ^h">

Ein Elektronenstrahlerzcugungssystem dieser Art ist aus der DE-OS 25 34 912 bekannt.

Elektronenstrahlerzeugungssysteme oder kurz Elektronenstrahlsysteme lassen sich allgemein in zwei Arten einteilen, nämlich in einen Bipotential- und einen Äquipotential-Typ. In der DE-OS 25 34 912 ist noch eine andere Art offenbart nämlich ein Tripotential-Typ.

Im folgenden sind anhand von F i g. 1 die Anordnung der das Fokussierlinsensystem der drei vorstehend genannten Arten von Elektronenstrahlsystemen bildenden Elektroden sowie die axiale Verteilung ihrer Potentiale erläutert Das Bipotential-Elektronenstrahlsystem (F i g. la) umfaßt ein Hauptlinsensystem aus zwei Fokussierelektroden 1, 2. Die neben der Kathode angeordnete Elektrode 1 liegt an einem vergleichsweise niedrigen Potential, während die dem Leuchtschirm der Kathodenstrahlröhre gegenüberliegende Elektrode 2 an einem vergleichsweise hohen Potential liegt Eine diesen beiden, das Hauptlirisensystem bildenden Elektroden aufgeprägtes Potential besitzt ein durch eine Kurve 3 dargestelltes monoton ansteigendes Verteilungsschema. Die axiale Potentialverteilung der das Hauptlinsensystem des Bipotential-Elektronenstrahlsystems bildenden Elektroden wird als »monoton« bezeichnet, weil sich die ersie Ableitung ohne Änderung ihres Vorzeichens verläuft. Einige Bipotential-Hauptlinsensysteme mit der beschriebenen Anordnung besitzen jedoch eine unzufriedenstellende sphärische Aberrations-Charakteristik. In ein^m verhältnismäßig kleinen Raum, wie dem Halsteil einer mit einem solchen Bipotential-ElektronenstrahlsyEtem versehenen Kathodenstrahlröhre, ist e.s im Fall eines Elektronenstrahls mit besonders großer Stromstärke unmöglich, die Größe eines fokussierten Elektronenstrahlflecks oder -punkts ausreichend zu verringern, um eine Verbesserung der Auflösung zu erreichen.

Fig. Ib bezieht sich auf ein Äquipotential-Hauptlinsensystem aus drei Fokussierelektroden 4, 5 und 6. Die axiale Pctentialverteilung besitzt dabei, wie durch die Kurve 7 angedeutet, ein im wesentlichen sattelförmiges Schema, bei dem die Potentiale am Anfang und am Ende des Hauptlinsensystems auf demselben Pegel liegen. Mit dem genannten Äquipotential-Hauptlinsensystem kann zwar tatsachlich der fokussierte Elektronenstrahlfleck verkleinert werden, doch ist dieses System mit dem Nachteil behaftet, daß in der Kathodenstrahlröhre mit einem Elektronenstrahlsystem mit dem Äquipotential-Hauptlinsensystem eine Entladung aufgrund eines größeren Potentialunterschieds zwischen den Elektroden 4,5,6 stattfinden kann.

Ein derartiges System ist durch die DE-OS 24 50 591 bekannt, die eine Elektronenkanone mit elektrostatischer Fokussierlinse mit verlängertem Feld betrifft. Der axiale Potentialverlauf bei dieser Elektronenkanone entspricht dem in Fig. Ib gezeigten, und auch die zweite Ableitung dieses Potentialverlaufs folgt im wesentlichen der in Fig. Ib gezeigten entsprechenden Kurve.

Das Tripotential-Hauptlinsensystem gemäß Fig. Ic besteht aus mindestens drei, vorzugsweise aber vier Fokussierelektroden 8, 9, 10 und 11. Die axiale Potentialverteilung besitzt dabei das durch eine Kurve 12 angegebene Schema, welches eine monotone Potentialverschicbung von einem vergleichsweise mittleren Pegel auf einen verhältnismäßig niedrigen Pegel und sodann eine monotone Verschiebung auf einen hohen Pegel zeigt.

Im Unterschied zu den Elektronenstrahlsystemen mit den vorgenannten Bi- und Äquipotcntial-Hauptlinsensystemen ermöglicht das zuletzt erwähnte Elektronenstrahlsystem mit Tripotential-Hauptlinsensystem eine

zufriedenstellende Verkleinerung des fokussierten Elektronenstrahlflecks. Andererseits ist dieses Elektronenstrahlsystem mit dem Mangel behaftet, daß eine weitere Stromquelle zur Anlegung eines mittleren bzw. Zwischenpotentials für die Fokussierelektroden vorgesehen werden muß und seine Länge größer wird, wobei es außerdem nötig ist, einen Dreielektrodenabschnitt mit äußerst hoher Präzision zusammenzusetzen.

Die zweite Ableitung der einzelnen axialen Poientialverteilungen der drei genannten Hauptlinsensysteme läßt sich durch eine Kurve mit einem positiven Höchstwert (Maximum) darstellen, wie dies durch eine Kurve 3' eines unter F i g. la dargestellten Koordinatensystems für den Bipotential-Typ, durch eine Kurve T eines unter Fig. Ib dargestellten Koordinatensystems für den Äquipotential-Typ bzw. eine Kurve 12' eines unter F i g. 1c dargestellten Koordinatensystems für den Tripotential-Typ wiedergegeben ist

Das aus dem Tripotential-Hauptlinsensystem gebildete Elektronenstrahlsystem ist weiterhin mit dem Nachteil behaftet, daß bei seiner Verwendung bei einer selbstkcnvergierenden Farbkathodenstrahlröhre der derzeit vorherrschend angewandten Art, auch wenn die Fokussierung im Mittelbereich eines Bilds sehr zufriedenstellend ist, der Elektronenstrahl einer Ablenkungsaberration aufgrund eines sehr ungleichmäßigen Magnetfelds unterworfen ist, wodurch die Gleichförmigkeit der Fokussierung beeinträchtigt wird; außerdem wird die sphärische Aberration durch diese Ablenkungsaberration beeinflußt, so daß eine nichtpunktförmige Aberration eingeführt wird, die eine weitere Verschlechterung der Fokussiergleichförmigkeit bewirkt.

Der Halsteil einer Farbkathodenstrahlröhre ist bekanntlich mit einem Farbeinheit-Korrektionsmagneten und einem Konvergenz-Korrektionsmagneten versehen, um die verschiedenen, bei der Montage einer Farbkathodenstrahlröhre mit einem Elektronenstrahlsynem eingeführten Fehler zu kompensieren.

Wenn die Montagefehler mittels der genannten Magnete korrigiert werden, erscheinen die sog. Fahnen auch im Mittelbereich des Bild- oder Leuchtschirms infolge von sphärischer Aberration und Punktaberration, so daß sich die Fokussiereigenschaften des Elektronenstrahlsystems verschlechtern. Elektronenstrahlsysteme müssen daher mit möglichst großer Präzision zusammengesetzt bzw. montiert werden.

Die zuletzt genannten Aberrationen hängen vom Streuwinkel eines aus seiner Quelle austretenden Elektronenstrahls ab; diesbezüglich wirft das Äquipotential-Hauptlinsensystem praktisch keine großen Probleme auf, während die Bi- und Tripotential-Hauptlinsensysteme zu Schwierigkeiten Anlaß geben.

Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht somit darin, ein Elektronenstrahlerzeugungssystem der aus der DE-OS 25 34 912 bekannten Art zu schaffen, das hinsichtlich seiner Fokussiereigenschaften wesentlich verbessert ist.

Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 gekennzeichneten Merkmale gelöst.

Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung im Vergleich zum Stand der Technik anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen

Fig. la —c graphische Darstellungen der schematischen Anordnung von bisherigen Bi-, Äqui- und Tripotential-Hauptlinsensystemen eines Elektronen-Strahlerzeugungssystems, der Funktionen ihrer axialen Potentialverteilungen so-vie der zweiten Ableitungen der Potentialverteilungsfunktionen.

Fig.2 eine Schnittansicht eines Elektronenstrahlerzeugungssystems gemäß einer Ausführungsform der Erfindung mit einem Hauptlinsensystem,

F i g. 3 eine schematische und graphische Darstellung der Anordnung desselben Hajptlinsensystems wie in Fig.2 bzw. der Funktion der axialen Potentialverteilung und der zweiten Ableitung dieser Funktion,

Fig.4 eine schematische Darstellung der Ausbreitung eines Elektronenstrahls durch das Hauptlinsensystem gemäß F i g. 2,

Fig.5 eine graphische Darstellung der Beziehung zwischen der an erste und dritte Fokussierelektrode gemäß F i g. 3 angelegten Fokussierspannung Wund der Länge der zweiten Fokussierelektrode,

Fig.6 einen Schnitt durch ein Hauptlinsensystem gemäß einer anderen Ausführungsform,

F i g. 7 eine perspektivische Darstellung eines Elektronenstrahlerzeugungssystems mit dem Hauptlinsensystem nach F i g. 6 und

Fig.8 einen Schnitt durch ein Hauptlinsensystem gemäß einer weiteren Ausführungsform.

Das Elektronenstrahlerzeugungssystem gemäß F i g. 2 umfaßt einen Dreielektrodenabschnitt aus einer Kathode 21, einer ersten Gitterelektrode 22 und einer zweiten Gitterelektrode 23 sowie ein Hauptlinsensystem aus vier Fokussierelektroden 24,25,26 und 27 mit jeweils zylindrischer Form. Die Kathode 21 wird im allgemeinen mit einer Gleichspannung von 100—150 V gespeist und mit einem Bildsignal beschickt. Die erste Gitterelektrode 22 wird im wesentlichen mit einem Massepotential beschickt, während der zweiten Gitterelektrode 23 ein Potential von etwa 400—1000 V aufgeprägt wird. Erste und dritte Fokussierelektrode 24 bzw. 26 werden praktisch auf demselben Potential wie dem an der Innen- oder Außenseite der Kathodenstrahlröhre anliegenden Potential von z.B. 4,4—10 kV gehalten, so daß sie ihre Funktion als sog. Fokussierelektroden erfüllen. Die zweite Fokussierelektrode 25 liegt an einem niedrigeren Potential als erste und dritte Fokussierelektrode 24 bzw. 26. Der vierten Fokussierelektrode 27 wird praktisch die Hochspannung von 20—30 kV aufgeprägt, die dem Potential des Leuchtschirms entspricht. Bei der beschriebenen Elektrodenanordnung besitzt die zweite Fokussierelektrode 25 eine Länge entsprechend einem Verhältnis von 0,2—0,5 zum Durchmesser des Hauptlinsensystems, wobei sie kürzer ist als erste und dritte Fokussierelektrode 24 bzw. 26.

Die axiale Potentialverteilung eines in Fig.2 dargestellten Hauptlinsensystems für ein Farbkathodenstrahlröhren- Elektronenstrahlerzeugungssystem besitzt ein Schema, das — wie durch die Kurve in F i g. 3 veranschaulicht — sanft und monoton von einem mittleren Pegel zu einem vergleichsweise niedrigen Pegel und weiterhin monoton auf einen vergleichsweise hohen Potentialpegel verläuft. Die zweite Ableitung dieser Funktion besitzt zwei Maxima und drei Minima.

Bei der dargestellten Anordnung des Hauptlinsensystems ist eine Hilfsfokussierelektrode, die wesentlich dünner ist als die anderen Fokussierelektroden und der eine wesentlich niedrigere Spannung aufgeprägt wird, z. B. dieselbe Spannung wie an der zweiten Gitterelektrode 23, zwischen die beiden geteilten Abschnitte der ersten Fokussierelektrode des bisherigen Bipotential-Hauptlinsensystems eingefügt. Dabei wird der Streuwinkel des Elektronenstrahls, vom Hauptlinsensystem aus betrachtet, auf einen so kleinen Wert verringert, daß gemäß Fi g. 4 der Streuwinkel <xi eine Größe von 4 oder

5° und der Streuwinkel λ₀ eine solche von 3 oder 4° besitzt. Dabei bedeuten «ι und oco die Winkel von erster, zweiter und dritter Elektrode 24, 25 bzw. 26 einerseits und von dritter und vierter Elektrode 26 bzw. 27 andererseits her gesehen.

Die Verkleinerung des Streuwinkels eines Elektronenstrahls auf den angegebenen kleinen Wert wird nach folgendem Verfahren erreicht: Es sei zunächst angenommen, daß bei einer Kathodenstrahlröhre mit einem Elektronenstrahlsystem mit einem Bipotential-Hauptlinsensystem der Art gemäß Fig. la die Länge der ersten Fokussierelektrode so festgelegt ist, daß dem Elektronenstrahlsystem die Fokussierspannung V>_o aufgeprägt wird. Bei der in Fig.4 dargestellten Ausführungsform der Erfindung ist die Länge der ersten Fokussierelektrode G\_L des Hauptlinsensystems, auf dessen Durchmesser bezogen, auf 1,27 festgelegt, während ein Abstand g\ zwischen erster und zweiter Fokussierelektrode 24 bzw. 25 auf 0,027 festgelegt und ein Abstand g2 zwischen zweiter und dritter Fokussierelektrode 25 bzw. 26 ebenso mit 0,027 gewählt werden; dabei sei es angenommen, daß die Länge (G\l + G21, + Ga + g\ + gr, F i g. 4) des dargestellten Hauptlinsensystems für ein Elektronenstrahlsystem entsprechend der Länge der ersten Fokussierelektrode des bisherigen Bipotential-Hauptlinsensystems gewählt ist. Wenn den ersten drei Fokussierlinsen 24, 25 und 26 dieses Hauptlinsensyslems die Fokussierspannung Vf₀ aufgeprägt wird, wird dieses System genau gleich dem genannten Bipotential-System (unter der Voraussetzung, daß Ga₁G₃L > gugi)-

Wenn die Länge der zweiten Fokussierelektrode 25 bei gleichbleibenden Abständen g\, g2 zwischen den Elektroden geringfügig geändert wird, steigt die an erster und dritter Fokussierlinse 24 bzw. 26 anliegende Spannung gemäß F i g. 5 ab einem bestimmten Punkt stark an, bis schließlich ein Nichtfokussierzustand erreicht ist.

Beim dargestellten Hauptlinsensystem sind daher die axiale Länge G2 der zweiten Fokussierelektrode 25 und die Zwischenelektrodenabstände g_u g2 so gewählt, daß den Fokussierelektroden 24 und 26 dieses Systems eine Fokussierspannung im Bereich von ±0,5 bis 2,5 kV im Gegensatz zur Fokussierspannung des bisherigen Bipotentialsystems mit denselben Abmessungen aufgeprägt wird. Die zweite Fokussierelektrode 25 wird vorzugsweise möglichst nahe an der Kathode 21 angeordnet. Wenn sie jedoch sehr nahe am Leuchtschirm angeordnet ist, wird die Wirkung dieser zweiten Elektrode 25 als ursprünglich vorgesehene Hilfsfokussierelektrode unnötig groß, bis schließlich das Hauptlinsensystem die Eigenschaft kleiner elektronenoptischer Vergrößerung verliert, wie sie beim bisherigen Bipotentialsystem realisiert ist. Unter Berücksichtigung aller oben angegebenen Faktoren sollen die Längen Gil. G₂l. G3L von erster, zweiter und dritter Fokussierelektrode der Beziehung GaL δ Gil > G2L genügen.

Das beschriebene Elektronenstrahlerzeugungssystem bietet folgende Vorteile:

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1. Da sich der Streuwinkel des Elektronenstrahls einfach verkleinern läßt, werden Überstrahlung und »Fahnen« im Mittelbereich eines Bildes aufgrund von sphärischer Aberration beträchtlich verringert, wobei auch die Nichtkonvergenz aufgrund von Montagefehlern des Elektronenstrahlerzeugungssystems weitgehend beseitigt wird. Der Grund dafür liegt darin, daß die sphärische Aberration der 3. Potenz des Streuwinkels eines Elektronenstrahls proportional ist und die Nichtkonvergenz im selben Maß abnimmt, wie die sphärische Aberration reduziert wird.

2. Eine Verringerung der sphärischen Aberration auf einem Bild führt zu einer Minderung der Nichtkonvergenz (oder Punktunschärfe) im Randbereich des Bilds eines selbstkonvergierenden Farbfernsehempfängers, bei dem üblicherweise eine merkliche Ablenkungsaberration vorhanden ist, wodurch die Gleichförmigkeit der Fokussierung verbessert wird.

3. Die Fokussierelektroden des dargestellten Hauptlinsensystems sind kürzer als beim Tripotential-Hauptlinsensystem, so daß nur eine geringe Tendenz zu einer Nichtkonvergenz besteht, die anderenfalls durch ein unnötiges Magnetfeld, etwa ein Farbreinheitsmagnetfeld verursacht werden kann.

Im folgenden ist anhand von F i g. 6 die Konstruktion einer anderen Ausführungsform beschrieben.

Wie bei der ersten Ausführungsform umfaßt das Elektronenstrahlsystem einen Dreielektrodenabschnitt aus einer Kathode 31, einer ersten Gitterelektrode 32 und einer zweiten Gitterelektrode 33 sowie ein Hauptlinsensystem aus vier Fokussierelektroden 34,38, 39 und 43. Die erste Fokussierelektrode 34 umfaßt ein flaches, napf- oder schalenförmiges Elektroden-Element 35, ein ähnlich geformtes Element 36 und ein räumlich (mit Abstand) dazwischen angeordnetes plattenförmiges Elektrodenelement 37. Die zweite Fokussierelektrode 38 besteht aus zwei mit Abstand paraiiel zueinander angeordneten Elektroden-Plattenelementen 38'. Die dritte Fokussierelektrode 39 besteht aus zwei einander zugewandten, flach schalenförmigen Elektroden-Elementen 40, 42 sowie zwei parallel und mit Abstand dazwischen eingesetzten Plattenelementen 41. Die vierte Fokussierelektrode 43 ist aus zwei einander zugewandten, flach schalenförmigen Elektroden-Elementen 44, 45 aufgebaut. Die auf beschriebene Weise angeordneten Elektroden-Elemente 40, 41, 42 des Systems nach F i g. 6, denen dasselbe Potential aufgeprägt wird, sind gemäß Fig.7 mittels einer einzigen Leitung 46 zusammengeschaltet, die am einen Ende mit einem Stift 48 verbunden ist, der einen Sockel 47 durchsetzt. Die vier Fokussierelektroden 34, 38, 39, 43 werden von auf Abstand angeordneten Stützen 49 getragen. Die flach schalenförmigen Elemente und die plattenförmigen Elemente, welche die vier Fokussierelektroden bilden, sind mit drei linear miteinander fluchtenden, kreisförmigen Bohrungen 50 mit jeweils einem Durchmesser/versehen.

Im folgenden ist anhand von Fig.8 eine dritte Ausführungsform beschrieben.

Wie bei der Ausführungsform nach F i g. 6 umfaßt das Elektronenstrahlerzeugungssystem gemäß F i g. 8 einen Dreielektrodenabschnitt aus einer Kathode 31, einer ersten Gitterelektrode 32 und einer zweiten Gitterelektrode 33 sowie ein Hauptlinsensystem aus vier Fokussierelektroden 60,63,65,69. Die erste Fokussierelektrode 60 besteht dabei aus einander zugewandten flachen, schalenförmigen Elementen 61, 6Z Die zweite Fokussierelektrode 63 ist aus drei laminierten Elektroden-Plattenelementen 64 zusammengesetzt Die dritte Fokussierelektrode 65 besteht aus zwei auf Abstand angeordneten flachen, schalenförmigen Elementen 66, 68 und einem ebensolchen Element 67, das in Berührung

mit dem einen schalenförmigen Element 68 angeordnet ist. Die vierte Fokussierelektrode 69 besteht wiederum aus einander zugewandten flachen, schalenförmigen Elementen 70, 71. Die schalenförmigen Elemente und die plattenförmigen Elemente, welche die vier Fokussierelektroden 60, 63, 65, 69 bilden, sind jeweils mit drei linear miteinander fluchtenden, kreisförmigen Bohrungen 50 versehen. Die Elemente, an welche dasselbe Potential angelegt wird, sind, wie bei der zweiten Ausführungsform, durch eine Einzelleitung 46 zusammengeschaltet, die am einen Ende mit einem Stift 48 verbunden ist, der einen Sockel 47 durchsetzt. Die Fokussierelektroden 60, 63, 65 und 69 werden von einem Paar oder zwei Paaren voi$ auf Abstand angeordneten Isolierstützen49getragen. '.5

Im Vergleich zum bisherigen Hauptlinsensystem lassen sich die plattenförmigen und flach schalenförmigen Elektroden-Elemente der zweiten und dritten Ausführungsform gemäß Fig.6 und 8 mit höherer Genauigkeit herstellen, wobei sie gleichzeitig auch besser vor einer Verformung im Laufe der Zeit geschützt und leichter zusammengesetzt werden können.

Wenn bei zweiter und dritter Ausführungsform das Verhältnis zwischen der Länge G21. der zweiten Fokussierelektrode und dem Durchmesser / des Hauptlinsensystems sowie die Verhältnisse des Abstands g\ zwischen zweiter und erster Fokussierelektrode sowie des Abstands #2 zwischen zweiter und dritter Fokussierelektrode zum genannten Durchmesser / ebenfalls mit den in Verbindung mit den F i g. 2 bis 5 beschriebenen, vorbestimmten Größen gewählt werden, kann dieses Hauptlinsensystem bezüglich seiner Eigenschaften der Beziehung nach F i g. 5 entsprechen. Längs beider Seiten des zentralen Elektronenstrahls laufende Elektronenstrahlen werden manchmal durch das Hauptlinsensystem anders fokussiert als der zentrale Elektronenstrahl, je nachdem, wie sie abgelenkt werden. In diesem Fall empfiehlt es sich, die Form oder den Durchmesser der in den jeweiligen Elektroden-Elementen vorgesehener. Bohrungen zu ändern, durch welche der Elektronenstrahl hindurchtritt.

Bei den beschriebenen Ausführungsformen wird für die zweite Fokussierelektrode 25, 38 bzw. 63 dasselbe Potential gewählt wie für die zweite Gitterelektrode 23 bzw. 33 des Dreielektrodenabschnitts.

Diese Anordnung ist jedoch nicht in jedem Fall erforderlich, vielmehr kann der zweiten Fokussierelektrode 25, 38 bzw. 63 dasselbe Potential aufgeprägt werden, das an der ersten Gitterelektrode 22 bzw. 32 des Dreielektrodenabschnitts oder an der Kathode 21 bzw. 31 anliegt.

Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Elektronenstrahlerzeugungssystem für Kathodenstrahlröhren, bestehend aus einer den Elektronenstrahl erzeugenden Quelle mit einer Kathode (21, 31) und zwei Gitterelektroden (22, 32 bzw. 23, 33), sowie aus einem Hauptlinsensystem zur Fokussierung des von der Quelle emittierten Elektronenstrahls, mit einer ersten (24,34,60), einer zweiten (25, 38, 63), einer dritten (26, 3S, 65) und einer vierten (27, 43, 69) Fokussierelektrode, die koaxial in der angegebenen Reihenfolge, von der zweiten Gitterelektrode (23, 33) der Quelle aus gesehen, angeordnet sind, wobei die axiale Potentialverteilung des Hauptlinsensystems eine Funktion besitzt, die von der ersten zur zweiten Fokussierelektrode von einem vergleichsweise mittleren Potential auf ein vergleichsweise niedriges Potential abnimmt und die von der zweiten Fokussierelektrode über die dritte Fokussierelektrode zur vierten Fokussierelektrode vom niedrigen Potential monoton auf ein vergleichweise hohes Potential ansteigt, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Ableitung der axialen Potentialverteilung zwei Maxima und drei Minima besitzt, und daß die axiale Länge G21. der zweiten Fokussierelektrode die Beziehung G₃L > GtL > G₂L zu den axialen Längen G]L, GiL von der ersten bzw. dritten Fokussierelektrode besitzt.

2. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die axiale Länge Gil der zweiten Fokussierelektrode (25) größer ist als der Abstand £1 zwischen der ersten und der zweiten Fokussierelektrode (24 bzw. 25) und der Abstand #2 zwischen der zweiten und der dritten J Fokussierelektrode (25 bzw. 26).

3. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von der axialen Länge G21. der zweiten Fokussierelektrode (25) zu dem Durchmesser des to Hauptlinsensystems den Wert 0,2 bis 0,5 besitzt.

4. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß erste, zweite und dritte Fokussierelektrode (24, 25 bzw. 26) eine Äquipotential-Fokussierlinse darstellen, wobei die zweite Fokussierelektrode auf einem niedrigeren Potential als die erste Fokussierelektrode liegt.

5. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite Fokussierelektrode (25) auf dem gleichen Potential w liegt, wie die zweite Gitterelektrode (23) der den Elektronenstrahl erzeugenden Quelle.

6. Elektronenstrahlerzeugungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß erste und dritte Fokussierelektrode (24 bzw. 26) auf einem Potential von etwa 4 bis 1OkV liegen und daß die vierte Fokussierelektrcde (27) auf einem Potential von etwa 20 bis 30 kV liegt.