DE2740366A1 - Verfahren und einrichtung zur herstellung sehr kleiner integrierter stromkreise - Google Patents

Verfahren und einrichtung zur herstellung sehr kleiner integrierter stromkreise

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DE2740366A1
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Keith Allan Brueckner
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Xonics Inc
Original Assignee
Xonics Inc
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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    • H01L21/0271—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34 comprising organic layers
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0127861A2 (en) * 1983-06-06 1984-12-12 The University Of Rochester X-ray lithography

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS629632A (ja) * 1985-07-06 1987-01-17 Agency Of Ind Science & Technol 投影露光装置
JPS62208631A (ja) * 1986-03-07 1987-09-12 Sanyo Electric Co Ltd 縮小型ｘ線リソグラフイ装置
JP2628165B2 (ja) * 1987-06-15 1997-07-09 キヤノン株式会社 Ｘ線露光装置
JP2603225B2 (ja) * 1986-07-11 1997-04-23 キヤノン株式会社 Ｘ線投影露光装置及び半導体製造方法
JPH07147230A (ja) * 1994-08-04 1995-06-06 Canon Inc 縮小投影露光装置および半導体製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0127861A2 (en) * 1983-06-06 1984-12-12 The University Of Rochester X-ray lithography
EP0127861A3 (en) * 1983-06-06 1987-02-25 The University Of Rochester X-ray lithography

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IT1089816B (it) 1985-06-18

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