DE2711793C3 - Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) - Google Patents
Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS)Info
- Publication number
- DE2711793C3 DE2711793C3 DE19772711793 DE2711793A DE2711793C3 DE 2711793 C3 DE2711793 C3 DE 2711793C3 DE 19772711793 DE19772711793 DE 19772711793 DE 2711793 A DE2711793 A DE 2711793A DE 2711793 C3 DE2711793 C3 DE 2711793C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- metal
- sims
- meo
- formula
- ions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
= J,+ u;c/[M(m) · (Me)] (C\ = Κοηζ,-f)
(5 a)
berechnet werden und dann mit Hilfe der Snmmenbildung
mit
Z)) = c|(Me(i))/£c7r(Me(<))
c-(Me(Z)) = I
20 so normiert werden, daß die Summe aller Metallkonzentrationen
gleich 1 ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Sekundärionen aus Legierungen
oder Metalloxiden oder Mischsystemen aus Metalloxiden und Legierungen stammen.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung von Mctallkonzentrationen und des mittleren Oxidationsgrads
eines Metalls aus mit Hilfe von Sekundärionenmassenspeklroskopie (SIMS) gemessenen Ausbeuten
von Sekundärionen der Klasse MeOn + bzw.
MeO±.
Die Analyse von Festkörperoberflächen ist sowohl in der Grundlagenforschung wie auch in der ange-
r, wandten Forschung von großem Interesse. Alle Reaktionen von Festkörpern mit den sie umgebenden Medien
schließen die Oberfläche ein. Es existieren eine Reihe von Methoden zur Untersuchung der Festkörperoberflächen.
Drei Meihodeu werden allgemein eingesetzt:
AES (Augenelektronenspektroskopie),
ESCA (Photoelektronenspektroskopie),
SIMS (Sekundärionenmassenspektroskopie).
ESCA (Photoelektronenspektroskopie),
SIMS (Sekundärionenmassenspektroskopie).
4Ϊ Während AES und ESCA ein quantitatives Arbeilen
mit ausreichender Genauigkeit erlauben, ist SIMS in den meisten Fällen auf eine qualitative Vorgehensweise
beschränkt. Auf der anderen Seite ist die Emp-
-,0 findlichkeit von SIMS wesentlich höher als die von
AES und ESCA. Sie hängt jedoch weit mehr von der chemischen Umgebung an der Oberfläche ab als bei
den beiden anderen Methoden. Die Metallionenausbeute Me+ zum Beispiel kann sich in Abhängigkeit
-,--, von der chemischen Umgebung des Metallatoms an
der Oberfläche um einen Faktor 10' ändern. Die Empfindlichkeit von AES und ESCA varriert höchstens
um einen Faktor 10. Deshalb ist der Vorteil von SIMS, nämlich ihre hohe Empfindlichkeit, gleichzeitig
mit großen Schwierigkeiten in der Bestimmung von Konzentrationen aus Ausbeuten verbunden.
Zur Berechnung der Mctallkonzcntrationcn aus Me' existieren zwei Modelle:
das adiahatische Oberflächenionisationsmodell
von Sehr ο ο e r. R h ο d i π und Ii ι a d I c \
(Surface Science 34 [ I'J73|. 5711 das auf reine
Metalk' heschriinki isi und
das lokale, thermodynamische Gleichgewichtsmodell von Andersen und Hinthorne
(Science 175 [1972], 853), das sich nur im Falle des dynamischen SIMS anwenden läßt.
Nach Rüdenaue r. Steiger und Pordenschlag
(Microchemica Acta [Wien, Suppl. 5 [1974],
421) liegt die Genauigkeit dieser Methoden innerhalb eines Faktor=. 2 bis 3 bzw. 20 bis 50%. In beiden
Fällen sind entweder interne Standards (d, h. zwei bekannte Konzentrationen) oder die Ausbeute von
mehrtach geladenen Metallionen zur Berechnung der Konzentrationen der einzelnen Bestandteile erforderlich.
Deshalb sind beide Methoden nur zur Volumenanalyse einsetzbar, wobei die Konzentrationen von
zwei Hauptkomponenten bekannt sein müssen.
In vielen Gebieten der modernen Technologie ist die Oberfläche von Metalloxiden oder oxidierten Metallen
wichtig. Eine große Zahl von Katalysatoren bestehen aus Metalloxiden mit mehreren Komponenten.
in der Korrosionsforschung sind oxidierte Metallschichten von angereicherten Teilen der Legierungsbestandteile
wichtig. Manchmal sind die Metallkonzentrationen außerhalb der Nachweisgrenze
von ESCA als auch von AES.
PIo g, Wiedmann und Benninghoven (DECHEMA Jahrestagung, Frankfurt, Juni 1974)
haben eine empirische Formel (innerhalb des Valenzmodells) aufgestellt, mit der man die Ausbeuten von
Oxidionen mit nur einem Metallatom (das heißt jo
MeO,r) berechnen kann. In den meisten Fällen war
die Genauigkeit besser als ein Faktor 2. In diesem Modell werden nur eine universelle Funktion und
zwei universelle Parameter benutzt, jedoch keine internen Standards. Innerhalb des Auswertungsvor- js
gangs für die Konzentration wird jedoch von den zwei universellen Parametern nur ein Parameter benutzt.
Die qualitative Erweiterung des Valenzmodells auf Oxidionen mit mehr als einem Metallatom, das heißt
Me1nO1T, und auf die Veränderung der chemischen
Wertigkeit des Metalls wurde von P1 ο g (DECHEMA
Jahrestagung Frankfurt, Juni 1974) im dynamischen Wertigkeitsmodell erreicht. Dies ist von allgemeiner
Bedeutung für die Interpretation von SIMS-Spektren.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, direkt aus Massenspektren, die mit Hilfe der Sekundärionenmassenspcktroskopie(SIMS)gewonnen
werden, Metallkonzentrationen sowie den mittleren Oxidationsgrad eines Metalls zu bestimmen, wobei keine
internen Standards, das heißt teilweise bekannte Melallkonzenirationen,
benutzt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das in Anspruch I angegebene Verfahren gelöst.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind zum Gegenstand von Unteransprüchen gemacht worden.
Auf der Basis der quantitativen Formel des Valenzmodells wird eine Beziehung hergeleitet, die die Metallkonzentrationen
aus Intensitäten von Sekundärionen berechnet, die von Metalloxiden und oxidierten ^n
Metallen emittiert werden.
Beschreibung des Verfahrens
Der loncnhcschuß von Metalloxiden führt zur
I'!mission von Fragment,» neu Me„,O„- im. η =■- 0,1,2,. . .)
mis jedem Metalloxid. Der Strom eines gewissen Sekundärions,
zum Beispiel slV"Oi+, kann dann geschrieben
werden als
i) = A
/(Me„,0±).
wobei A die beschossene Fläche, jp die Primärionenstromflächendichte,
/ die Gesamttransmission des Gerätes, f-)(i) die Bedeckung, ((Me1nO1?) das Isotopenverhältnis
des gemessenen Signals und S(Me1nO,?) die
absolute Ausbeute des betrachteten Sekundärions ist. Die ersten fünf Größen der Gleichung 1 sind entweder
aus Tabellen von physikalischen Konstanten bekannt oder können experimentell bestimmt werden,
so daß in besonderen Fällen von vorliegenden Oberflächenbedingungen die Ionenausbeute bestimmt werden
kann. Der funktionell Zusammenhang zwischen Ausbeute und Oberflächenparametern hingegen muß
durch ein·; Sekundärionenemissionstheorie erreicht werden, die zumindestens für de:« rail von Metalloxiden
bislang noch nicht existiert, ünrsr bestimmten
Bedingungen erlaubt die Anwendung des empirischen Valenzmodells eine Aussage über die unbekannte
Ausbeute S. Wenn man sich nämlich auf Oxidionen mit nui einem Metallatom beschränkt, so lautet der
Ausdruck für die Ausbeute S wie folgt:
S(MeO1?) | = | VM(m,</)-exp(-(G± | -K)1IIy2) |
(2) | |||
S0 | = | 2,4· H)"2 | |
Mim,q - + | I) = | Mim) = UnIm11) 2A | |
Mim,q = — | I) = | I | |
m | = | Metailmasse | |
mn | _ | 235 |
γ = 0,98, Breite der Gauö-Verteilung (2)
Die verschiedenen Größen der Gleichung 2 werden nachfolgend kurz erläutert:
Oo und )' sind universelle Parameter. Die Komplexwertigkeit K definiert für jedes Ladungsvorzeichen ein
bestimmtes Sekundärion. Die Gitterwertigkeiten G + und G' (Lagen der Gauß-Kurven (2)) sind monotone
Funktionen der Metallwertigkeiten. Die funktionale Beziehung ist bislang noch nicht quantitativ bekannt
und Gegenstand der Erfindung.
M(m) ist eine universelle Funktion der Masse, die
den Faktor zwischen den Maximalwerten der Gauß-Kurven für positive und negative Sekundärionen angibt.
Die Maximalwerte S„ax der Gauß-Kurven (2) der
negativen Ionen sind innerhalb einer gewissen Streuung Mnabhängig von der Masse. Für Metallmassen
unter 235 amu (Uran) sind die Werte von MUn) größer
als 1. M{m) nimm' mit steigender Melallnuisse m ab,
so daß die Intensität eines gewissen Sekundärions McOj? Tür leichte Metalle größer ist als für schwere,
wenn man gleiche G + -Werte annimmt. Man nimmt auch im Fall dei Metalloxide als Argument m der
Funktion Mim) die Masse des Metallatoms und nicht
die Masse des Mctalloxids.
Dafür, (ΙΊ1 man die Metailmasse m als Argument
für die Funktion Mim) sowohl im Fall von reinen Metallen als auch bei Metalloxidcn nimmt, ist erst
kürzlich ein theoretischer Hinweis geliefert worden. Cier ha r d (Zeitschrift Pin sik. Band B 22 [1974]. 31)
hai eine Modcllrcchnung für ti ic Emission neutraler
Moleküle durch den Spiitternro/cß angestellt. Lr
27 Π 793
land. daß fiir die !-!mission von iiciilriilcn Molekülen,
die nils Atomen mit sehr unterschiedlicher Müsse/ι
bestehen (das heißt Metalloxidfragmente McOn). die
Mel :i 11 masse ti ic !hui pt rolle spielt. Da fii r die !!mission
von neutralen Teilchen und von Sekundärionen der Sputterpro/cM identisch ist. scheint eine übertragung
seines Ergebnisses erlaubt.
Oa die massciiiibhängigc Empfindlichkeit von M{m)
größer als I ist Rir Metalle mit einer Masse kleiner als
Uran, kann man sich auf positive Ionen McOn' beschränken,
um eine größtmögliche Empfindlichkeit /U erhalten. Wenn man
■V,
aus Vercinfachungsgründcn deliniert, so können die
(ilcichungen I und 2 kombinier! werden und man erhält
i-i JlMeOn' I S1 · /IMcO11' I ■ AfImI
■ e\pl -Id'' ■ K)1 2:.). (3)
Die rechte Seite dieser Gleichung ist der maximale Wert .*)„',„>
der Gauß-Kurven 12). ilen man aus Intensitäten
berechnet hat. die bezüglich der Isotopcnhäuligkeit und der massenabhängigen Empfindlichkeit
korrigiert worden sind.
Wenn sich nur der Saiierstoffanteil einer gewissen
Art eines Mctalloxids an der Oberfläche ändert (das heißt V2O4 an Stelle V,O5). dann ändern sich die
Intensitäten aller Fragmentionen, die aus diesem Metalloxid emittiert werden, relativ zueinander (das
heißt (i' ändert sich: d> nautisches Wertigkcitsmodcll).
Der Maximalwert S„",„, der entsprechenden Gauß-Kur\e
ändert sich jedoch nicht.
Wenn nun auf der anderen Seite ein gewisser Mctalloxidanteil
geändert wird Idas heißt zum Beispiel ]0"n VO, an Stelle \on 5'Ό VO,ι. dann ändert sich
der entsprechende S„ulx-\\ er!, während die Intensitäten
der emittierten Fragmentionen sich relativ zueinander nicht ändern Idas heißt G' bleibt konstant).
Während G' durch den Wcrtitikeitszustand des
Metalls bestimmt wird, wird S„„x durch den Metall-.AiJiifHui
beViirnrni I'm die 'viciankonzeniraiion
selbst zu bekommen, müssen die verschiedenen S^,ax-Werte
der unterschiedlichen Metalloxide miteinander verglichen werden. Dies führt zu der Gleichung für
die Metallkonzentration
IMe) - /„",„ .S', ■ A/lml- /IMe)
Da in der Praxis die Konstante S1 oft unbekannt
ist. kann sie durch den Gebrauch von relativen Konzentrationen eliminiert werden
= /,;„/[Mim)· /(Me)] mit c\ = Κοηζ™Γ)
(5a)
)I = c' (Me(Z)) ^(MeO'l) mit£rMMe(/)) = ι
)I = c' (Me(Z)) ^(MeO'l) mit£rMMe(/)) = ι
(5 b)
Um C und /^01 für ein gegebenes Metall aus Intensitäten
zu berechnen, wird die Gleichung (2) umgeformt und lautet
G' =|;-:- InI/, I1)HK1 - K2)] + 0.5 - (K1 + K2) (6)
wobei /;. /·> die Intensitäten bestimmter Fraementionen
McOn' und MeO1," und K1. K: die züge
hörigen Komplcxwertigkeitcn sind.
Gleichung (6) gilt natürlich auch für G .
Der Maximalwert Ä'„',„t der Gauß-Kuive für Inten
sitätcn wird durch
C - /ι c\p(K;· - μ- :-'i
gegeben, wobei /, die Intensität irgendeines ge·
to mcsscnen Fragment ions McO„' mit der zugehöriger
Komplcxwcrtigkeit K1 ist. O' kann mit der Cilci
chung (6) berechnet werden.
Oic Formel (Gleichung (4)) zur Berechnung tier
Mctiillknnzenlralion aus Intensitäten von Metall
r> oxidioncn wurde aus einer empirischen Beziehung ab
geleitet. Deshalb besieht die Aufgabe nachzuweisen daß damit brauchbare Ergebnisse erzielt werden, da
eine grundlegende Theorie nicht besteht.
Beim Versuch, die Formet expeiimcnicii zu be-
2<) weisen, wird man mit einigen schwierigen Problemen
konfrontiert. Im allgemeinen unterscheidet sich die Obcrdächenzusammensctzung von Proben von der
Zusammensetzung des Volumens. Deshalb kann man keine Probe benutzen, deren Vohimcnzusammcn-
2r> setzung bekannt ist, um eine obcrflächcnanalvtischc
Methode zu eichen. Der Korrosionsschutz von Legierungen beruht zum Beispiel auf Oxidschichten von
angereicherten Teilen der Legierungsbcstandteilc. Beim
Reinigen der Probe durch lonenbeschuß treten die
i» HfTekte »selektives Zerstäuber« und »Implantation«
auf
Hin kombiniertes Vorgehen mit ALS sollte es ermöglichen,
die quantitativen Aspekte von SIMS nachzuweisen. Hier gibt es folgende Probleme: Die
ii Informationstiefen beider Verfahren sind verschieden
und es kann angenommen werden, daß sie für SIMS kleiner ist als für AIiS. Im Falle von AFS hängt sie
von der kinetischen Energie der Augerelektronen ab. Exakt vergleichbare Resultate sind deshalb auf jene
Fälle begrenzt, wo die Austrittstiefc bekannt ist. Wenn die Brennfleckgrößc des Ionen- und Elektronenstrahls
verschieden sind, dann muß die Mruillkon/rntration
innerhalb der Fläche konstant sein. Im voriicgeüucM
i üif Ociiagi üci iiiial>sici ic Bereich 0.^ lim
und einige 3(K) μηι2.
Auch die Auswertungen der AES-Daten sind nicht ohne Schwierigkeiten. Rückgestreiite Elektronen und
Oberflächenrauhigkeit können die Empfindlichkeit gewisser Elemente verändern. Im ersten Fall ist der
maximale Fehler geringer als 30%. Die Rauhigkeit kann die Intensitäten um höchstens 10% ändern.
wenn die Probe normal zum Elektronenstrahl eingebaut wird und der Energieanalysator ebenfalls
normal ausgerichtet ist.
">■> Um die maximal mögliche Genauigkeit bei Auger
zu erreichen, muß man Signalflächen an Stelle von Signalhöhen benutzen. In der Praxis sind der Fehler
der oben genannten Effekte und die Genauigkeit für SIMS die begrenzenden Faktoren. Um den Aus-Wertungsprozeß
zu vereinfachen, beschränkt man sich deshalb in der Regel auf die Auswertung von Signalhöhen.
Wenn man mit einem Elektronenstrahl von 3 keV, normalem Einfall und einer normalen Ausrichtung
des Analysators zur Probe arbeitet, kann man die in der Literatur bekannten Empfindlichkeiten
fiir Auger nehmen.
Eine andere experimentelle Schwierigkeit '— die Aufladung wird durch die isolierenden Eigen-
schäften der meisten Metalloxide hervorgerufen. Wenn
dieser Aufladungseffekt zeitlich stabil ist, dann bedeutet es für Auger nur eine Energieverschiebung.
Dieser Effekt kann manchmal dadurch verhindert werden, daß man entweder die Primärenergie oder ;
den Einfallswinkel ändert. Aber eine Variation des Einfallswinkels verändert bei rauhen Oberflächen die
Empiindlichkeiten für die einzelnen Elemente erheblich.
Aufladungseffekte. die durch den Beschüß mit tu
positiven Ionen (man arbeitet mit dem 3 keV Argon * Strahl) können durch zusätzlichen Elektronenbeschuß
verhindert werden. In der Literatur bekannt sind Energieverteilungsmessungen von Sekundärionen, die
von oxidierten Wolframproben emittiert werden. Da- r> bei wurde herausgefunden, daß die mittlere Energie
Tür gleiche Fragmentionen für positive Ionen höher als für negative Ionen ist. Im allgemeinen nimmt die
mittlere Energie der Sekundärionen mit steigender Masse ab. Sie ist höher für Monomerionen als für
Molekülionen. Wegen ihrer Energieverteilung ist die Kompensation von positiven Sekundärionen wesentlich
einfacher als die Tür negative. Innerhalb eines Ladungsvorzeichens sind schwere Einzelionen und
besonders Molekülionen schwieriger zu kompen- 2> sieren als leichte Monomerionen. Dieser Aufladungseffekt
bei Isolatoren wird kompensiert, in dem man die Intensität von Molekülionen mit der höchsten
nachgewiesenen Masse optimiert. Die Qualität der Kompensation kann sehr gut durch das Valenzmodell jo
kon.iolliert werden.
Die Einschußwinkel der Elektronen und Ionen sind im vorliegenden Fall unterschiedlich (normal und
70 zur Normalen). Deshalb ist die gemessene Fläche (die die Projektionsfläche normal zum Einschuß- ι·>
winkel ist) in beiden Fällen verschieden.
Bei rauhen Oberflächen können sich die Ergebnisse, die man durch AES und SIMS erhält, in Folge
von Abschattungs- und Makrostruktureffekten unterscheiden. Es wurden einige Dünnschichten untersucht,
von denen die Oberflächenrauhigkeit, wie sie durch dieRastsrslektrcncr;mikroskopie bcstirr.mi wurden,
im Bereich von 1 μπη lagen. Die Metallkonzentrationen
an der Oberfläche selbst — wie sie durch AES (normal) und SIMS (schräg) erhalten wurden,
wichen beträchtlich voneinander ab. Während des nachfolgenden Ionenbeschusses der Probe (Tiefenprofil)
kamen die Werte für die Metallkonzentrationen immer mehr zusammen, wie sie durch beide
Methoden bestimmt wurden. Wenn man beide Methoden gleichzeitig anwendet, kann man deshalb
sogar chemische Makrostruktureffekte an rauhen Oberflächen nachweisen.
Die SI MS-Daten wurden ausgewertet, in dem man die Länge der ursprünglich bestimmten logarithmisehen
Spektren in Intensitäten verwandelte. Eine Dekade über lOcps entspricht dabei einer Länge
(4,02±0,08)cm. Der Bereich bis lOcps entspricht
(1,87 ± 0,04) cm. G+ und /mox wurden berechnet — gemäß
den Gleichungen (6) und (7) — aus den Intensitäten der Me+ und MeO+ Fragmentionen, der
universellen Konstante γ = 0,98 und den entsprechenden Komplexwertigkeiten X(Me+) = 1 und
X(MeO+) = 3. Da im vorliegenden Fall Intensitäten an Stelle von absoluten Ausbeuten benutzt werden,
bedarf es nicht der universellen Konstante S^, um
mit dem beschriebenen Verfahren Konzentrationen aus Intensitäten zu berechnen. Es werden nur eine
universelle Funktion und ein universeller Parameter, aber keine internen Standards benutzt.
Besonders in dem Fall von kleinen Sekundärionenrnassen muß sicher sein, daß nur Metalloxidbruchstücke
zu den gemessenen Sekundärionenintensitäten beitragen, die zu dem entsprechenden Metall gehören.
In dem Fall von hohen Sekundärionenmassen muß die Auflösung des Spektrometer groß genug sein,
um zwischen MeO+ und MeOH+ zu unterscheiden,
denn manchmal ist die Intensität von MeOH+ sogar
höher als die von MeO + . In dem Fall der überlagerung
oder schlechter Auflösung würde man eine zu große Intensität zur Berechnung der Konzentrationen
benutzen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden anhand von Tabellen nachstehend erläutert.
Es wurden sowohl Metalloxidgemische als auch Dünnschichten aus mehreren Metalloxiden auf einem
Metallsubstrai untersucht. In Tabelle 1 sind die Bestandteile der verschiedenen Proben aufgeführt. Die
Zahl der unterschiedlichen Metalle pro Probe variiert zwischen zwei und fünf, wenn man Na und K außer
Betracht läßt. In der Probe Nr. 3 wurde Ba nur mit SIMS nachgewiesen (Konzentration aus SIMS:
2,4 Atom %). Der Bereich der Sekundärionenmassen reicht von 24amu (Mg + ) bis 197 amu (TaO + ), während
die Energie der Augerelektronen von 127eV(Y) bis 1845 eV(Zr) reicht. Alles in allem waren 13 unterschiedliche
Metalle vertreten.
Der Vergleich zwischen den Metallkonzentrationen, die mit Hilfe von AES und SIMS bestimmt wurden,
wird auf zwei unterschiedliche Arten dargestellt. Um den Auswertungsvorgang im Detail zu zeigen, sind
die einzelnen Werte der Probe Nr. I in Tabelle 2 aufgezeichnet.
Darüber hinaus sind sämtliche SIMS-AES-Paare
der Metallkonzentrationen aus 8 untersuchten Proben in der F i g. 1 dargestellt. Aus diesen Werten sind alle
Verhältnisse r berechnet worden, und zwar für jedes Paar der SIMS- und AES-Werte. r oder l/r abhängig
davon, was größer als 1 war, wurde in verschiedenen Kiäancn suuiinici i, ucicii Häufigkeitsverteilung in
F i g. 2 dargestellt ist.
In 58 und 71% aller 24 Fälle ist die Ubereinstimmung
besser als 20 bzw. 50%. In drei Fällen ist die Übereinstimmung schlechter als ein Faktor 2.
Gemäß Tabelle 2 hängt die Konzentration bei AES von der Augerelektronenenergie ab, die man für die
Berechnung benutzt. Wenn die energieabhängige Austrittstiefe unbekannt ist, so erhält man die beste übereirstimmung,
wenn man Augerenergien nimmt, die nahe beieinander liegen. Die mittlere Konzentration
für die 127 eV (Y) /147 eV (Zr) und für die 1746 eV (Y) /1845 eV (Zr) Augerübergänge sind 30,3 At% Y
und 69,7At%Zr verglichen mit den SIMS-Werten
29,9 At% Y und 70,lAt%Zr.
Gemäß der Tabelle 2 sollte das Verhältnis r der Austrittstiefen für die Zirkoniumübergänge r = 0,3
sein, was gut mit dem Wert r = 0,28 übereinstimmt, das man aus dem £1V2-Gesetz erhält. Es wird angemerkt,
daß die Niederenergieübergänge zu Y-Konzentrationen führen, die sowohl größer sind als die
entsprechenden SI MS-Werte als auch die der Hochenergieübergänge. Dies kann bedeuten, daß die Austrittstiefe
für 15OeV Augerelektronen (A ~ 5A) kleiner
ist als die der Fragmentionen MeO+.
Das Beispiel zeigt, daß nur eine begrenzte Übereinstimmung
zwischen SIMS und AES in der Praxis
erwartet werden kann, wenn man die Austrittstiefe und den Rückstreufaktor nicht mit berücksichtigt.
Der Einfluß der Wertigkeit und der massenabhängigen Empfindlichkeit bei SIMS hängt von den
Unterschieden in den Werten von G+ und m ab. In dem Beispiel der Tabelle 2 beeinflußt der Faktor
M(m) ■ /(Me) das Ergebnis mehr als es der Unterschied
in den G + -Werten tut. Dieses Ergebnis kann nicht verallgemeinert werden, denn meistens müssen
beide Effekte mit berücksichtigt werden.
Mit SIMS wurden auf allen Proben gewisse Anteile von Natrium und Kalium nachgewiesen. Da keine
Auger-Signale dieser Elemente erhalten wurden, wurden beide Metalle bei dem Auswertungsprozeß nicht
mit berücksichtigt. Trotzdem kann mit SIMS eine Abschätzung ihrer Konzentration angegeben werden.
Gemäß dem Valenzmodell erreicht ein Sekundärion seine maximale Emission, wenn die Gitterwertigkeit
Gr mit seiner Komplexwertigkeit K zusammenfällt.
Wenn man dieses Modell konsequent anwendet, dann bedeutet es für den Fall von Natrium und
Kalium (Komplexwertigkeit K=I, maximale Emission), daß die Gitterwertigkeit G+ zu 1 angenommen
werden kann. Entsprechend Gleichung (7) ist dann Cx identisch mit den Intensitäten von Na+ und K + .
Die beobachteten Intensitäten beider Metalle liegen in der Größenordnung von 5 · IO3 cps in allen Spektren.
Die massenabhängige Empfindlichkeit M(m) · ((Me) ist 264,78 bzw. 68,9. Das führt zu einer Konzentration
für das Beispiel der Tabelle 2 von 0,6At% NA, 2,3At%K, 29,0 At% Y, 68,1 At% Zr. Zumindest
Natrium liegt unterhalb der Nachweisgrenze von AES. Wegen seiner Nachbarschaft zum Kohlenstoff
in den Augerspektren ist Kalium nur sehr schwer eindeutig nachzuweisen.
In vielen SIMS-Spektren von reinen Metallen, von den trotzdem in den allermeisten Fällen Sekundärionen
reaktiver Elemente nachgewiesen werden, ist die Intensität von Na+ und K f sogar höher als die
Me+-Intensitäten der Hauptbestandteile. Das Valenzmodell
arbeitet in diesem Fall in folgender Weise:
fiit
Metalle gewonnen wurden, sind die folgenden Ausüihrungen
kein Beweis, sondern können nur ais ein Hinweis auf die Tendenz verstanden werden. Gettings
und Coad — Surface Science 53 (1975), 636 — haben mit SIMS, AES und ESCA eine reine
Silberprobe analysiert. Sie fanden, daß gemäß AES und ESCA der Anteil der Verunreinigung jeweils
kleiner als I At% war. Mit Hilfe von SIMS fanden sie jedoch folgende Metallionen: Na+ (6200cps).
Nl+ (500 cps), K+ (6900 cps), Crf (135 cps), Fe +
(75 cps) und Ag+ (40 cps). In ihren SIMS-Spektren hat Silber nicht seine natürliche Isotopen häufigkeit.
Für die nachfolgenden Überlegungen wurden die Intensitäten des 109 amu Isotops benutzt. Sie berechneten
das Natrium-Silber-Konzentrationsverhältnis gemäß Rüdenauer und fanden, daß es sich
in der Größenordnung von 1 befinden sollte, was natürlich nicht mit den ESCA/AES-Daten übereinstimmt.
Im folgenden wird das Valenzmodell für diesen Fall angewandt. Die Frage ist, wie groß ist die Wertigkeitsstufe
Gunddieentsprechende Gitterwertigkeit G+ für reine Metalle? Die Valenzstufe von reinen Metallen
ist sicherlich in der Größenordnung Null. Deshalb wird G = O gesetzt. Wenn dies der Fall ist,
wie groß ist dann die Gitterwertigkeit G+ für das Metall?
Dies ist bislang exakt noch nicht bekannt. Man kann den Hinweis geben, daß die folgende
Beziehung zwischen der Valenzstufe G und den Gitterwertigkeiten Gf, G" zu bestehen scheint
wobei // in der Größenordnung von 1/16 liegt. Diese
Beziehung kann aus den Werten für Gf und G von
in 15 unterschiedlichen Metallen gewonnen werden, die
im Vakuum oxidiert worden waren. Die Annahme, die dabei gemacht wurde, ist die, daß in allen Fällen
die Wertigkeitsstufe des Metalls erreicht wurde, die identisch ist mit der chemisch wahrscheinlichsten.
ι) Die Beziehung (8) wurde an zwei reinen Metalloxiden
durch kombinierte SIMS- und AES-Messungen überprüft. Es wurden dabei die folgenden Ergebnisse
gewonnen:
-Ό Co-Oxid: G(AES) = 2,3; G(SIMS) = 2,0;
Ce-Oxid: G(AES) = 3,9; G(SIMS) = 4,2.
Ce-Oxid: G(AES) = 3,9; G(SIMS) = 4,2.
Die Abweichungen für die Metallwertigkeiten beträgt zwischen den Methoden SIMS und AES weniger
2-, als 15%.
Der Ausdruck (G-G + ) der Gleichung (8) ist
identisch mit der Größe 2\ des Valenzmodells. Wenn man annimmt, daß * nicht eine Funktion von G
sei (die heute bekannten Untersuchungen, die diesen so Punkt betreffen, widersprechen dieser Aussage nicht),
dann kann man schreiben (G = 0):
G+= - (I - 1/16) · 2 ■ x.
j-, Für Aluminium, Chrom und Eisen sind die Werte von bekannt. Der Wert für Silber wurde bislang
noch nicht bestimmt. Deshalb nimmt man für Silber den Wert für das chemisch ähnliche Element Kupfer,
dessen »-Wert bekannt ist. Dies führt uns zu folgender Abschätzung für die Gitterwertigkeiten G+ dieser
Metalle: G+ (Na = 1, G+ (Al) = -2,81, G' (K) = I,
Q+ irT\ — —29J n+(p»\ — — 2a! "η** η* 'Λο*
= — 4,13. Mit der Gleichung (4) werden die folgenden Konzentrationen berechnet, weiche offensichtlich mit
4-, den AES und ESCA-Werten übereinstimmen:
0,0002 At% Na, 0,05 At% Al, 0,0008 At% Kalium, 0,1 At% Cr, 0,04 At% Fe und 99,9 At% Ag.
Wegen der hierbei gemachten Annahmen ist das Ergebnis kein vollständiger Beweis. Aber es zeigt die
Tendenz in die richtige Richtung auch dann, wenn man das Valenzmodell auf »reine« Metalle anwendet.
In F i g. 1 ist anscheinend ein kleiner systematischer Trend der Unterdrückung hoher Konzentrationen
(das sind Sekundärionen mit großen Intensitäten) und der Anhebung niedriger Konzentrationen (das sind
Sekutidärionen mit kleinen Intensitäten) erkennbar. Die Metalle, deren Konzentrationen größer als 50At%
sind, sind Titan, Mangan, Eisen, Zirkon und Lanthan. Die entsprechenden G+-Werte variieren zwischen 0,1
und 2,8. Deshalb kann weder die massenabhängige Empfindlichkeit noch ein Wertigkeitseffekt diesen
systematischen Trend hervorrufen. Der Grund hierfür
es könnte vielmehr in der Kalibrierungsfunktion (siehe
Beschreibung des Verfahrens) liegen, die die ursprünglich gemessenen logarithmischen Längen in
Intensitäten verwandelt. Wenn die Länge einer De-
kade zu groß bestimmt wurde, so werden hohe Intensitäten systematisch unterdrückt. Im vorliegenden
Fall war uie Länge (4,02 ± 0,08) cm. Sollte sich die
Länge nur um 0,08 auf 3,94 cm ändern, so ändert sich das Intensitätsverhältnis typischer Intensitäten ;
(300kcps und I kcps) um 12%. Ein anderer Grund
könnte darin liegen, daß die Länge einer Dekade nicht konstant ist, wie angenommen wurde.
Die Übereinstimmung der Metallkonzentrationen, die durch AES und SIMS von Metalloxiden und in
oxidierten Metallen gewonnen wurden in 58 und 71% aller 24 Fälle ist diese Übereinstimmung besser
als 20 bzw. 50% — zeigt, daß das beschriebene Verfahren in der Praxis anwendbar ist, um Intensitäten
von Metalloxid-Sekundärionen in Metallkonzentra- i->
tionen umzuwandeln.
Das Verfahren basiert auf dem quantitativen Teil des empirischen Valenzmodells von Pl ο g, Widmann
und Benninghoven. Das Auswertungsverfahren
für die SIMS-Daten benutzt eine uni- >
<> verseile Funktion und einen universellen Parameter, aber keine internen Standards. Alle Informationen,
die man zusätzlich braucht — Intensitäten von zwei Sekundärionen des Fragmenttyps MeOn* (n = 0, I,
2, 3 ...) werden aus den SIMS-Spektren selbst 2->
genommen. Effekte der Austrittstiefe sollten die SIMS-Ergebnisse wesentlich geringer beeinflussen als
im Falle von AES und ASCA.
Um den Fehler für das SIMS-Auswertevurfahren
selbst herauszufinden, werden ähnliche Untersuchungen, wie sie hier beschrieben wurden, an wohl definierten
Systemen durchgeführt werden, wo die Effekte der Austrittstiefe, der Rückstreuung und -ier matrixabhängigen
Empfindlichkeit bekannt sind. In diesen Fällen sollte die Abweichung zwischen den Werten
für die Metallkonzentrationen, die mit SIMS bzw. AES bestimmt wurden, in der Hauptsache durch den
Auswerteprozeß hervorgerufen werden.
Wenn die vorgeschlagene Beziehung /.wischen dem
Metalloxidationsgrad und der Gitterwertigkeit bestätigt wird, kann man mit SIMS den mittleren Oxiuationsgrad
eines Metalls bestimmen.
Proben Bestandteile
Nr.
Nr.
Beschaffenheit
I | Y1Zr | Metalloxidgemisch |
7 | Mn, La | Metalloxidgemisch |
3 | Ca, Mn, Sr, Ba, La | Metalloxidgemisch |
4 | Mg, Mn, Mo, La | Metalloxidgemisch |
5 | Ca, Mn, Sr, La | Metalloxidgemisch |
6 | Mg, Si, Ti. Mn | dünner Film |
7 | Ti, Fe | dünner Film |
8 | Mn, Ta | dünner Film |
(cps) M(m) ■ i(Me)
Konzentration
(At ·/.)
(At ·/.)
Y + | 7070 | 1,75 | 9483 | 10,31 | 29,9 |
YO + | 4210 | ||||
Zr + | 6380 | 2,0 | 10738 | 4,99 | 70,1 |
ZrO + | 6380 |
Energie
isV)
isV)
Empfindlichkeit peak-to-peak
Konzentration
(At %)
(At %)
Y | 127 |
Y | 1746 |
Zr | 147 |
Zr | 1845 |
1,76
0,29
2,14
0,20
0,29
2,14
0,20
4,6
1,8
10,9
3,4
Mittlere Metallkonzentration für übergänge mit ähnlicher Austrittstiefe:
30,0 At% Y, 69,7At%Zr.
33,9 13,3
26,8 54,9
66,1 45,1
73,3 86,7
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
- Patentansprüche:I. Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls aus mit Hilfe von Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) gemessenen Ausbeuten von Sekundärionen der Klasse MeOn + bzw. MeOn 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Bestimmung der Metallkonzentration die gemessenen in Ausbeuten J1 und J2 von zwei Sekundärionen der Klasse MeOn + für jedes Metall in die FormelG+ = [r 2· In U1IJ2)I(K1 - K,)~] + 0,5 · (K1 + K2)(6) ι,eingesetzt werden, wobei y = 0,98 die Breite der Gauß-Verteilung ist; K1 und K2 die Komplexwertigkeiten definiert durchK = q + Inq = Ladungsvorzeichen des Sekundärions,
π = Anzahl der Sauerstoffe im Komplex der Klasse MeO*sind und sich daraus die Gitterwertigkeit G+ errechnet, daß die Gitterwertipkeit zusammen mit der Ausbeute J1 , der Komplexwertigkeit K1 eines Sekundärions und die Breite der Gauß-Verteilung )> in die FormelJ1n +,, = J.-expf^-K,)2^2) (7)eingesetzt werden, wodurch sich der Maximalwert der Gauß-Verteilung J+ UJC errechnet, daß Jmax zusammen mit der Kon<«antenS1 = A-J11-J-S0Brennfleckgröße des Ionenstrahls,Primärstromflächendichte,Transmission,2,4 · I0~2 (universelle Konstante)und der massenabhängigen Empfindlichkeitsfunk tionM(m) = (m/235)"2-4 im = Metallmasse)und dem Isotopenanteil des gemessenen Mctallisotops / (Me) eingesetzt in die Formelf(Me) =S1 ■ Mim) ■ /(Me)] (4)die Konzentration c(Me) der Metalle ergibt, daß zur Bestimmung des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls die gemessenen Ausbeuten J1 und J2 für jeweils zwei Sekundärionen der Klasse MeOn +- fiir dieses Metall in die Formel <-,--,Gi =[;·2· In(J1/J2)/(K, - K2)] + 0,5 · (K1 + K2)(6)eingesetzt werden und sich daraus die positiven hn und negativen Gitterwertigkeitcn G ' und G ergeben, die zusammen mit ,>' - 1/16 in FormelG - Ii- G'(X)eingesetzt werden und die initiiere themische Wertigkeit G des Metalls ergeben. - 2. Verfahren nach Anspruch I zur Mcslimmung der Metallkonzentration, dadurch gekennzeichnet, daß bei unbekannter Konstante Si relative Konzentrationen aus der Formel
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772711793 DE2711793C3 (de) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19772711793 DE2711793C3 (de) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2711793A1 DE2711793A1 (de) | 1978-09-21 |
DE2711793B2 DE2711793B2 (de) | 1979-04-12 |
DE2711793C3 true DE2711793C3 (de) | 1979-12-13 |
Family
ID=6003934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19772711793 Expired DE2711793C3 (de) | 1977-03-18 | 1977-03-18 | Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2711793C3 (de) |
-
1977
- 1977-03-18 DE DE19772711793 patent/DE2711793C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2711793A1 (de) | 1978-09-21 |
DE2711793B2 (de) | 1979-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3098581A1 (de) | Verfahren zur korrektur von untergrundsignalen in einem spektrum | |
DE7901623U1 (de) | Röntgenröhre | |
EP0153786A2 (de) | Röntgengerät | |
DE69724681T2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Analyse von Kristallstruktur | |
WO2009056236A1 (de) | Flüssigmetallionenquelle, sekundärionenmassenspektrometer, sekundärionenmassenspektrometrisches analyseverfahren sowie deren verwendungen | |
DE3023263C2 (de) | Anordnung zur Ermittlung der inneren Struktur eines Körpers mittels monoenergetischer Strahlung | |
DE2540911C3 (de) | Verfahren zur Bestimmung des Teilchenflusses in einer Vakuumbeschichtungsanlage und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE102015101567B4 (de) | Fragmentionenmassenspektren mit Tandem-Flugzeitmassenspektrometern | |
DE2540505A1 (de) | Flugzeit-massenspektrometer fuer ionen mit unterschiedlichen energien | |
DE102011051365B4 (de) | Detektionseinrichtung und System zum Messen der Dicke einer Zinkschicht auf Stahl und zum Messen des Eisengehaltes einer Zinkschicht | |
WO2008074302A1 (de) | Elektronenmikroskop und ein verfahren zur messung der defokusstreuung oder der grenzauflösung | |
DE2711793C3 (de) | Verfahren zur Bestimmung der Metallkonzentration und des mittleren Oxidationsgrads eines Metalls mit Hilfe der Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS) | |
EP0873574A1 (de) | Verfahren zur bestimmung von tiefenprofilen im dünnschichtbereich | |
Lamparter et al. | Struktur von Schmelzen aus dem System Wismut-Antimon mittels Neutronenbeugung | |
DE19900878C2 (de) | Verfahren zur Analyse eines primären Neutronenstrahls einer Neutronenquelle sowwie Strahlmonitor zur Untersuchung eines in einer Neutronenquelle erzeugten primären Neutronenstrahls | |
EP3420345B1 (de) | Verfahren zur bestimmung der oberflächeneigenschaften von targets | |
DE2652273C2 (de) | Verfahren zur bildlichen Darstellung eines Beugungsbildes bei einem Durchstrahlungs-Raster-Korpuskularstrahlmikroskop | |
EP0993604B1 (de) | Verfahren zur detektion eines elementes in einer probe | |
DE19720458C1 (de) | Verfahren zur Analyse einer Probe | |
DE2749229C2 (de) | Nichtdispersives Infrarot-Gasanalysengerät | |
DE2242987B2 (de) | Vorrichtung zur Trennung von neutralen Teilchen und schnellen Ionen von langsamen Ionen | |
DD293895C4 (de) | Verfahren zur bestimmung von konzentrationstiefenprofilen von prueflingen mit schichtstrukturen mit einer elektronenstrahlmikrosonde | |
Brumme et al. | Influence of Polarization of Exciting X-Radiation on Sensitivity of Energy Dispersive X-Ray Fluorescence Trace Analysis at Rocks and Soils | |
DE1816542C3 (de) | Monochromator-Einkristall | |
DE102011122930B3 (de) | System und Verfahren zum Messen der Dicke einer Zinkschicht auf Stahl und zum Messen des Eisengehaltes einer Zinkschicht |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |