DE2651071B2 - Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in DickschichttechnikInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik
gemäß dem Oberbegriff des Anspruches 1.
Ein derartiges zweistufiges Verfahren ist aus der DE-OS 16 65 384 bekannt, bei dem ein erster Widerstand
mit hohem Widerstandswert und ein zweiter Widerstand mit kleinem Widerslandswert in Serie oder
parallel zusammengeschaltet werden. Zum Grobabgleich des kombinierten Widerstandes wird der erste
Widerstand und zum Feinabgleich der zweite Widerstand mit jeweils einem Abgleichschnitt versehen.
Aus der DE-OS 20 54 721 ist ein Abglcichverfahren bekannt, bei dem eine Widerstandsschicht zwischen
zwei Stromzuführungselektroden zumindest teilweise aus gegeneinander isolierten streifenförmigen Bereichen
unterschiedlicher Breite besteht, wobei die Größen der Einzelwiderstände der streifenförmigen Bereiche —
quer zur Verbindungslinie der Stromzuführungselektroden betrachtet — von einer Seite zur anderen
zunehmen. Die Querauftrennung der streifenförmigen Bereiche zum Abgleich wird auf der Seite des Bereiches
mit dem kleinsten Einzelwiderstand beginnend, bis zur Ereichung des Sollwiderstandes durchgeführt, wobei
beim Abgeglichenen Widerstand wenigstens ein streifenförmiger
Bereich unversehrt ist.
Aus der DE-PS 19 50 771 ist ein Verfahren zum Einstellen des Widerstandswertes für einen Schichtwiderstand
bekannt, der aus einer auf einer isolierenden Trägerunterlage aufgebrachten Widerstandsschicht in
Form eines Streifens mit zwei zueinander parallelen Längsseiten und zwei mit äußeren Anschlußelektroden
verbundenen Querseiten besteht Die Anschlußelektroden sind derart angeordnet, daß zwischen diesen
innerhalb der Widerstandsschicht zwei Stromwege unterschiedlicher Länge ausgebildet werden. Im Bereich
des kürzeren Stromweges werden nacheinander ein dem Grobabgleich des Widerstandswertes dienender
erster Abgleichschnitt und im Bereich des längeren Stromweges ein dem Feinabgleich des Widerstandswertes
dienender zweiter Abgleichschnitt von den Längs-Seiten her quer zu denselben in die Widerstandsschicht
bis zur Erreichung des Widerstandssollwertes eingearbeitet
Aus der DE-OS 16 40 382 ist ein Schichtwiderstand bekannt der aus einem Basiswiderstand und mehreren
nach einer geometrischen Reihe abgestuften Sekundärwiderständer, besteht welche zur Einstellung eines
gewünschten Widerstandswertes zu- oder weggeschaltet werden.
Eine veränderbare Eichleitung mit dekadischer Stufung der Dämpfungswerte ist aus der DE-PS
8 20 928 bekannt.
Aus der DE-OS 18 06 257 ist ein abgleichbarer Schichtwiderstand bekannt, der aus mehreren parallel
geschalteten Widerstandsbahnen besteht, die alle durch eine gemeinsame Leiterbahn verbunden werden, welche
zum Abgleich des Widerstandes aufgetrennt wird.
Zum Feinabgleich eines Schichtwiderstandes ist auch der sogenannte L-Schnitt bekannt. Hierbei wird
zunächst quer zur Stromflußrichtung durch Abtragen der Widerstandsschicht ein Grobabgleich und anschließend
senkrecht hierzu ein Feinabgleich vorgenommen.
Bei der Herstellung von Dickschichtschaltungen liegt die fertigungstechnische Toleranzgrenze beim Widerstandsabgleich
bei etwa ± 1%. Moderne rechnergesteuerte Abgleichsysteme sind zwar um mindestens eine
Größenordnung genauer, aber verschiedene sich überlagernde Effekte verändern bei den bekannten Abgleichmethoden
den Widerstandssollwert des abgeglichenen Widerstandes innerhalb einer gewissen Zeit
nach dem Abgleich. Diese im wesentlichen alterungsbedingte Änderung kann in positiver oder negativer
Richtung verlaufen und mehrere Zehntelprozent betragen. Damit fällt die Ausbeute bei engtolerierten
Widerständen oder bei Netzwerken mit z. B. 20 engtolerierten Widerständen auf wirtschaftlich nicht
mehr vertretbare Werte.
Diese Widerstandsänderungen werden durch das Abgleichverfahren selbst verursacht, z. B. beim Laserabgleich
durch Gefügeänderungen entlang der Schmelzzonen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art zur Herstellung
eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik zur Verfugung zu stellen, das die Widerstandsänderungen
nach dem Grobabgleich behebt und dadurch die Herstellung sehr engtolerierter Widerstände erlaubt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch das kennzeichnende Merkmal des Anspruches I gelöst.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile bestehen insbesondere darin, daß durch die vorgeschlagene
künstliche Altsrung durch Temperung zwischen den Abgleichschnitten nach Abgleich des kleineren Teilwiderstandes
nur noch dessen Widerstandsänderung in
den Gesamtwiderstandsendwert eingeht
Die Zeichnung zeigt ein Ausführungsbeispiel eines nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten
Dickschichtwiderstandes.
Ein in Dickschichttechnik aufgebauter Widerstand besteht aus einer Widerstandsschicht 1 in Form eines
rechteckigen Streifens und ist beispielsweise in Siebdrucktechnik auf einer isolierenden Trägerunterlage
aufgebracht An zwei gegenüberliegenden Seiten der Widerstandsschicht 1 sind je eine Stromzuführungselektrode
2, 3 vorgesehen; eine dritte nicht kontaktierte Zusatzelektrode 4 teilt den Widerstand in einen ersten
Teilwiderstand 5 mit hohem Widerstandswert und einen zweiten Teilwiderstand 6 rat kleinem Widerstandswert
Die Anschlußelektroden 2,3 und die Zusatzelektrode 4
bestehen zum Beispiel aus einer Silberschicht und werden vorzugsweise gemeinsam in einem Arbeitsgang
auf der isolierenden Trägerunterlage ebenfalls in Siebdrucktechnik aufgebracht
Zur Veranschaulichung der erfindungsgemäßen Abgleichmethode
sei angenommen, daß der Schichtwiderstand mit einem Widerstandswert von 100 kOhm bsi
einer Toleranz von ±0,2% gefertigt werden soll. Der Widerstand wird durch die Zusatzelektrode 4 geometrisch
so aufgeteilt daß der zweite Teilwiderstand 6 ca. 10% der Gesamtlänge des Widerstandes beträgt Der
erste Teilwiderstand 5 wird nun zum Grobabgleich quer zum Stromverlauf mit einem Abgleichschnitt 7 auf 90%
des Nennwiderstandswertes des Widerstandes abgeglichen und anschließend durch Temperung künstlich so
gealtert. Wenn Temperatur und Zeit der Temperung auf das Widerstandsmaterial abgestimmt sind, wird die
durch die künstliche Alterung bewirkte Widerstandsänderung des Teilwiderstandes 5 innerhalb von ± 1% und
sein Widerstandswert somit zwischen 89,1 und J' 90,9 kOhm liegen. Nun wird zum Feinabgleich der
Teilwiderstand 6 mit einem Abgleichschnitt 8 quer zum Stromverlauf versehen, wobei die Widerstandsmessung
über den Gesamtwiderstand erfolgt. Nach Abgleich und natürlicher Alterung wird die Toleranz des Teilwider- w
Standes 6 wieder ±1% betragen, entsprechend ca. ± 100 Ohm, und somit ca. ± 0,1 % des 100-kOhm-Widerstandes.
Das vorgeschlagene Verfahren erlaubt somit vorteilhaft die Herstellung engtolerierter Widerstände, wie sie
insbesondere bei Widerstandsnetzwerken gefordert werden, da durch den Feinabgleich die nach dem
künstlichen Altern eingetretene Widerstandsänderung des Teilwiderstands 5 mit dem großen Widerstandswert
ausgeglichen wird, so daß nur die alterungsbedingte geringe Widerstandsänderung des wesentlich kleineren
Teilwiderstandes 6 in den Widerstandsendwert des Gesamtwiderstandes eingeht.
Die Aufteilung des Widerstandes muß je nach Widerstandsbereich und geforderter Toleranz bestimmt
werden und kann auch in weiterer Ausbildung nach der Erfindung in mehrere elektrisch in Reihe geschaltete
Teilwiderstände 5, 6,... mit vorzugsweise dekadischer Abstufung der Widerstandswerte erfolgen. In der
Reihenfolge abnehmender Widerstandswene werden die Teilwiderstände 5, 6,... nacheinander mit je einem
Abgleichschnitt 7,8,... hergestellt, wobei zwischen den Abgleichschnitten 7, 8, ... wenigstem, eine künstliche
Alterung erfolgt Hierdurch können die "Toleranzgrenzen
weiter eingeengt werden. Zur Herstellung von Widerständen mit kleinen Gesamtwiderstandswerten
werden die Teilwiderstände 5,6,... mindestens zum Teil elektrisch parallel geschaltet
Bei mehreren elektrisch in Reihe geschalteten Teilwiderständen 5, 6, ... aus einer Widerstandspaste
mit beispielsweise dekadischer Abstufung der Widerstandswerte durch dekadische Abstufung ihrer geometrischen
Längserstreckung kann bei den geometrisch kleinsten Teilwiderständen 5,6,... ein Abgleich infolge
ihrer geringen Längserstreckung problematisch bzw. ganz unmöglich sein. Daher wird in weiterer vorteilhafter
Ausgestaltung nach der Erfindung vorgeschlagen, die dekadische Abstufung der Widerstandswerte der
Teilwiderstände 5, 6,... dadurch zu erreichen, daß die Teilwiderstände 5, 6, ... aus Widerstandspasten mit
dekadisch abgestuften Flächenwiderstandswerte;! bestehen. Da in diesem Fall die Teilwiderstände 5,6,... die
gleichen geometrischen Abmessungen aufweisen, ist ihr Abgleich besonders einfach und genau.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik mit einer auf
einer isolierenden Trägerunterlage aufgebrachten, sich zwischen zwei Stromzuführungselektroden
erstreckenden Widerstandsschicht, die durch eine nichtkontaktierte Zusatzelektrode in zwei Teilwiderstände
unterschiedlicher Widerstandswerte getrennt ist, wobei der Teilwiderstand mit großem
Widerstandswert zum Grobabgleich und der Teilwiderstand mit kleinem Widerstandswert zum
Feinabgleich nacheinander mit je einem Abgleichschnitt versehen werden, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen den aufeinanderfolgenden Abgleichschnitten (7,8) eine künstliche Alterung
vorgenommen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet dpi* die Widerstandsschicht (1) in mehrere
TeilwidersiäHde (5, 6) unterschiedlicher Widerstandswerte
unterteilt wird, daß die Teilwiderstände (5,6) in der Reihenfolge abnehmender Widerstandswerte
mit je einem Abgleichschnitt (7, 8) versehen werden und daß zwischen den Abgleichschnitten (7,
8) wenigstens eine künstliche Alterung vorgenommen wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche I bis 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Widerstandswerte
der Teilwiderstände (5, 6) dekadisch abgestuft werden.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß CIe Teilwiderstände (5,
6) elektrisch parallel odei in Serie geschaltet werden.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Teilwiderstände (5,
6) aus Widerstandspasten mit unterschiedlichen Flächenwiderstandswerten hergestellt werden.
ίο
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762651071 DE2651071B2 (de) | 1976-11-09 | 1976-11-09 | Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19762651071 DE2651071B2 (de) | 1976-11-09 | 1976-11-09 | Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2651071A1 DE2651071A1 (de) | 1978-05-18 |
DE2651071B2 true DE2651071B2 (de) | 1980-03-20 |
Family
ID=5992715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762651071 Ceased DE2651071B2 (de) | 1976-11-09 | 1976-11-09 | Verfahren zur Herstellung eines abgeglichenen Widerstandes in Dickschichttechnik |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2651071B2 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63140558A (ja) * | 1986-12-02 | 1988-06-13 | Toshiba Corp | 厚膜回路基板 |
US5361300A (en) * | 1993-01-19 | 1994-11-01 | Caddock Electronics, Inc. | Balancing resistor and thermistor network for telephone circuits, and combination thereof with relay |
-
1976
- 1976-11-09 DE DE19762651071 patent/DE2651071B2/de not_active Ceased
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2651071A1 (de) | 1978-05-18 |
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