DE2643590A1 - Photovoltaische zelle - Google Patents

Photovoltaische zelle

Info

Publication number
DE2643590A1
DE2643590A1 DE19762643590 DE2643590A DE2643590A1 DE 2643590 A1 DE2643590 A1 DE 2643590A1 DE 19762643590 DE19762643590 DE 19762643590 DE 2643590 A DE2643590 A DE 2643590A DE 2643590 A1 DE2643590 A1 DE 2643590A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
cadmium
selenide
photovoltaic cell
tin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19762643590
Other languages
English (en)
Inventor
Matthias Dipl Phys Dr Selders
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Battelle Institut eV
Original Assignee
Battelle Development Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Battelle Development Corp filed Critical Battelle Development Corp
Priority to DE19762643590 priority Critical patent/DE2643590A1/de
Priority to CA278,972A priority patent/CA1077605A/en
Publication of DE2643590A1 publication Critical patent/DE2643590A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • H01L31/06Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
    • H01L31/072Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PN heterojunction type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0224Electrodes
    • H01L31/022408Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/022425Electrodes for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

  • Photovoltaische Zelle
  • Die Erfindung bezieht sich auf eine photovoltaische, insbesondere zur Umwandlung von Sonnenenergie in elektrische Energie vorgesehene Zelle, die im wesentlichen in Sandwich-Struktur aus zwei verschiedenen, polykristallinen Halbleiterschichten mit innigem gegenseitigen Kontakt besteht, welche auf einem metallischen oder metallbeschichteten Substrat aufgebracht sind und auf der anderen, nämlich der dem Licht zugewandten Seite mit einer lichtdurchlässigen oder gitterförmigen Elektrode versehen ist. Verfahren zur Herstellung solcher Zellen gehören ebenfalls zur vorliegenden Erfindung.
  • Bekannte Solarzellen enthalten entweder eine einkristalline Siliziumscheibe oder eine polykristalline Kadmiumsulfidschicht in engem Kontakt mit einer ebenfalls polykristallinen Kupfersulfidschicht. Die Solarzellen aus einkristallinen Siliziumscheiben können Sonnenenergie mit einem Wirkungsgrad bis zu 15 % in elektrische Energie umwandeln und werden heutzutage. für die Stromversorgung von Satelliten und für einige spezielle terrestrische Anwendungen eingesetzt. Für die Verwendung als Stromerzeuger in Konkurrenz mit herkömmlichen Energiequellen sind Solarzellen aus einkristallinen Halbleiterschichten erheblich zu teuer.
  • Die Solarzellen aus polykristallinen Kadmiumsulfid- und Kupfersulfid-Halbleiterschichten sind zwar in ihrer Herstellung wesentlich billiger als einkristalline Siliziumscheiben, doch besitzen sie nur einen Wirkungsgrad von 5 bis 8 %. Ihrem großtechnischen Einsatz steht neben diesem relativ geringen Wirkungsgrad der immer noch recht hohe IIerstellungspreis und vor allem die unzureichende Lebensdauer bzw. Stabilität ihrer elektrischen Eigenschaften entgegen.
  • Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, photovoltaische Zellen zu entwickeln, die in der Herstellung so billig sind, daß sie mit wirtschaftlich vertretbarent Gesamtaufwand zur Umwandlung von Sonnenenergie in elektrische Energie eingesetztwerden können. Dies setzt u.a.
  • voraus, daß sie sich - im Gegensatz zu den Zellen mit einkristallinen Siliziumscheiben - großflächig herstellen lassen, daß sie des weiteren einen vergleichsweise hohen Wirkungsgrad besitzen und daß ihre elektrischen Eigenschaften bzw. ihr hoher Wirkungsgrad über viele Jahre erhalten bleiben.
  • Es hat sich nun gezeigt, daß sich diese Aufgabe mit der im beigefügten Anspruch 1 beschriebenen Zelle in überraschend einfacher und technisch fortschrittlicher Weise lösen läßt. Erfindungsgemäß besteht also bei einer photovoltaischen Zelle der eingangs genannten Art die eine Halbleiterschicht aus Kadmiumselenid (CdSe) und die andere aus Zinnselenid (SnSe).
  • Nach einer vorteilhaften Ausführungsart der Erfindung ist das Substratmetall Silber, Indium, Kadmium oder Zink, auf das als erste Schicht die Kadmiumselenidschicht aufgebracht ist; die auf der dem Licht zugewandten Zinnselenidschicht aufgebrachte Elektrode besitzt in diesem Fall eine Gitterstruktur und besteht aus Gold oder Indium. Andererseits kann jedoch das Substratmetall auch Gold oder Indium sein, das in diesem Beispiel die Zinnselenidschicht trägt, während sich auf der dem Licht zugewandten Kadmiumselenidschicht in dieser Ausführungsart als Elektrode ein Gitter aus Silber, Gold, Indium oder Zink befindet.
  • Zur Herstellung der photovoltaischen Zelle nach der Erfindung werden vorteilhafterweise auf das erhitzte Substrat im Hochvakuum bei einem Druck von etwa 10 5 torr in gewünschter Reihenfolge die beiden Schichten nacheinander aufgedampft, wobei die zuerst auf das Substrat aufgebrachte Schicht etwa 3 /um dick und die zweite Schicht 0F3 bis 1 /um dick abgeschieden werden. Die Elektrode auf der dem Licht zugewandten Seite wird danach ebenfalls noch aufgedampft.
  • In einer anderen Ausführungsart des erfindungsgemäßen Herstellungsverfahrens wird auf das Substrat zunächst eine dünne Kadmiumselenidschicht aufgedampft und diese Schicht anschließend durch Eintauchen in eine zinnionenhaltige Lösung an ihrer freien Oberfläche in eine Zinnselenidschicht umgewandelt. Weiterhin können jedoch auch die Kadmiumselenid- und die Zinnselenidschicht der erfindungsgemäßen Zelle durch Aufsprühen und thermische Zersetzung von kadmium- und selenhaltigenbzw. zinn- und selenidhaltigen Lösungen auf ein auf iOObis 3000C erhitztes Substrat hergestellt werden.
  • Gegenüber Solarzellen aus einkristallinen Halbleiterscheiben, wie Siliziumscheiben, besitzt die erfindungsgemäße photovoltaische Zelle u.a. den Vorteil, daß sie aus vergleichsweise sehr dünnen, zusammen etwa 3 bis 5 /um dicken polykristallinen Doppelschichten bestehen, die billig und großflächig hergestellt werden können. Im Vergleich zu den bereits erläuterten bekannten Solarzellen aus polykristallinen Schichten, wie Kadmiumsulfid/Kupfersulfid, ist vor allem von Vorteil, daß die erfindungsgemäßen Zellen - aus noch dünneren Halbleiterschichten hergestellt werden können, da die optischen Absorptionseigenschaften und die kristallographischen Parameter der vorgesehenen Materialien eine erhebliche Reduzierung der Schichtdicken erlauben, daß - zu ihrer Herstellung noch billigere Verfahren (chemische Gasphasen-Abscheidung oder Sprühtechniken) benutzt werden können, die die Herstellung von Halbleiterschichten mit 3 bis 5 /um Dicke mit für Solarzellen hinreichender Qualität ermöglichen, daß - ein höherer Wirkungsgrad erreicht werden kann, da zwischen den erfindungsgemäß verwendeten Materialien aufgrund ihrer kristallographischen Eigenschaften eine qualitativ bessere Grenzschicht hergestellt werden kann, was für den Wirkungsgrad einer Solarzelle eine entscheidende Bedingung ist, und daß - eine Mindestlebensdauer von 10 Jahren bei Beibehaltung der elektrischen Eigenschaften und damit eine höhere Stabilität der Solarzelle erreicht wird, weil instabile Komponenten bei ihrer Herstellung vermieden werden.
  • Weitere Merkmale, Vorteile und Anwendungsmöglichkeiten der Erfindung gehen aus der folgenden detallierten Beschreibung von Verfahren zur Herstellung der erfindungsgemäßen Zellen sowie aus der beigefügten Abbildung hervor, die schematisch vereinfacht in perspektivischer Darstellung eine Ausführungsart der erfindungsgemäßen Zelle wiedergibt.
  • Nach dieser Abbildung besteht die photovoltaische Zelle im wesentlichen aus den beiden polykristallinen Halbleiterschichten 1,2, die in Sandwich-Struktur auf einem metallischen oder metallbeschichteten Substrat 3 aufgebracht sind. In diesem Beispiel handelt es sich bei der direkt auf dem Substrat liegenden Halbleiterschicht 1 um eine n-dotierte Kadmiumselenidschicht, auf der sich eine p-dotierte Zinnselenidschicht 2 befindet. Auf der dem einfallenden Licht, das hier durch die Pfeile 4 und die Energie hll charakterisiert ist, zugewandten Fläche, sitzt als Elektrode 5 ein Gitter aus Gold oder Indium.
  • Die Drähte zum Anschluß der beiden Elektroden 6 - das Substrat dient hier gleichzeitig als eine Ableitelektrode -sind ebenfalls in der Äbbildung angedeutet.
  • Zur Herstellung der erfindungsgemäßen Zelle sind verschiedene Verfahren geeignet: Herstellungsbeispiel 1: Auf einem als Substrat dienenden Glaskörner oder einer Kunststoffolie mit einer ca. 1 /um dicken Silberschicht wurde im Hochvakuum bei einem Druck von p t 10 5 torr eine ca. 3 /um dicke Kadmiumselenidschicht aufgedampft.
  • Zur Erzielung einer möglichst perfekten Kristallstruktur der Schicht und den daraus resultierenden guten photoelektrischen Eigenschaften (hohe Beweglichkeit und Lebensdauer der vom Sonnenlicht erzeugten elektrischen Ladungsträger) wurde die Substratstemperatur während des Aufdampfens auf etwa 2000C eingestellt. Auf diese Kadmiumselenidschicht wurde dann bei Substratstemperatur von ca. 3000C ebenfalls im Hochvakuum von ungefähr 10 5 torr eine etwa 0,5 bis 0,8 /um dicke Zinnselenidschicht aufgedampft.
  • Hierauf wurde als Firontelektrode 5 (sh. beigefügte Abbildung) im Hochvakuum Gold in Form eines Gitters mit schmalen Stegen aufgedampft, damit bei Beleuchtung der Zelle das Sonnenlicht möglichst ungehindert die darunter liegenden Halbleiterschichten erreichen konnte; es mußte jedoch darauf geachtet werden, daß wegen des geringen Bedeckungsgrades durch die Elektroden der elektrische Widerstand in dem Material unter dem Gitter klein genug ist, so daß kein wesentlicher Spannungsabfall in der Zelle erfolgt und somit der Wirkungsgrad vermindert würde.
  • Statt eines aufgedampften Metallgitters kann auch ein fertiges Netz aus z.B. vergoldetem Kupfer durch Aufpressen auf die dem Licht ausgesetzte Zinnselenidschicht aufgebracht werden.
  • Herstellungsbeispiel 2: Wiederum wurde die erfindungsgemäße Zelle durch Aufdampfen hergestellt. Allerdings wurde in diesem Beispiel auf das Substrat zuerst eine ca. 3 /um dicke Zinnselenidschicht bei einer Substratstemperatur von ca. 3000C aufgedampft und danach in gleicher Weise bei etwa 2000C eine 0,5 /um dicke Kadmiumselenidschicht darübergedampft. Schließlich wurde in der zuvor beschriebenen Art die Frontelektrode, d.h.
  • die dem Lichteinfall ausgesetzte Elektrode, aufgesetzt, Herstellungsbeispiel 3: Auf das erhitzte Substrat wurde zunächst eine etwa 4 /um dicke Kadmiumselenidschicht aufgedampft und diese anschließend durch Eintauchen in ein chemisches Zinnionen-haltiges Bad an ihrer Oberfläche in Zinnselenid umgewandelt. Als letztes wurde dann in der erläuterten Weise die Frontelektrode aufge#racht.
  • Herstellungsbeispiel 4: In diesem Beispiel wurde die Kadmiumselenidschicht auf dem Substrat durch eine chemische Transportreaktion von kadmiumhaltigen Lösungen (Kadmiumorganika oder Kadmiumchlorid oder kadmiumflitrathaltigen Lösungen) sowie selenhaltigen Lösungen (Selenoharnstoff) hergestellt. Hierbei wurden die kadmiumhaltige und die selenhaltige Lösung zusammen auf ein erhitztes Substrat aufgesprüht und dann durch thermische Zersetzung während eines Zeitraums von ca. 5 - 20 min die Bildung der gewünschten polykristallinen Kadmiumselenidschicht herbeigeführt. Das Substrat war dabei auf ca. 3000C vorerhitzt.
  • Anschließend wurde die Bildung der Zinnselenidschicht durch Eintauchen der Kadmiumselenidschicht in ein Zinnionen enthaltendes chemisches Bad, vergleichbar dem Herstellungsvorgang im Beispiel 3, oder ebenfalls durch thermische Zersetzung von auf die Kadmiumselenidschicht aufgesprühten zinn- und selenhaltigen Lösungen herbeigeführt.
  • Die Reihenfolge der durch solche Transport reaktionen aufgebrachten Halbleiterschichten läßt sich in Anpassung an die gewünschte Struktur der herzustellenden Zelle auch umkehren.

Claims (7)

  1. Patentansprüche ¼)i. Photovoltaische Zelle, insbesondere Solarzelle, bestehend im wesentlichen aus einer Sandwich-Struktur von zwei verschiedenen polykristallinen Halbleiter-Schichten mit innigem gegenseitigen Kontakt, die auf einem metallischen oder metallbeschichteten Substrat aufgebracht sind und auf der anderen, der dem Licht zugewandten Seite mit einer lichtdurchlässigen oder gitterförmigen Elektrode versehen sind, dadurch gekennzeichnet, daß die eine Halbleiter-Schicht (1 oder 2) aus Kadmiumselenid (CdSe) und die andere Schicht (2 oder 1) aus Zinnselenid (SnSe) besteht.
  2. 2. Photovoltaische Zelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Substratmetall (3) Silber, Indium, Kadmium oder Zink vorgesehen und auf diesem die Kadmiumselenidschicht aufgebracht ist, wobei die Elektrode (5) auf der dem Licht zugewandten Zinnselenidschicht Gitterstruktur aufweist und aus Gold oder Indium besteht.
  3. 3. Photovoltaische Zelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Substratmetall (3) Gold oder Indium vorgesehen und auf diesem die Zinnselenidschicht aufgebracht ist, wobei die Elektrode (5) auf der dem Licht zugewandten Kadmiumselenidschicht Gitterstruktur aufweist und aus Silber, Gold, Indium oder Zink besteht.
  4. 4. Verfahren zur Herstellung der photovoltaischen Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß auf das erhitzte Substrat im Hochvakuum bei einem Druck von etwa ~10-5 torr nacheinander die beiden Halbleiterschichten aufgedampft werden, wobei die zuerst auf das Substrat aufgebrachte Schicht eine Dicke von ungefähr 3 /um und die zweite Schicht eine Dicke von 0,3 - 1 /um erhält.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtdurchlässige oder gitterförmige Elektrode (5) ebenfalls aufgedampft wird.
  6. 6. Verfahren zur Herstellung der photovoltaischen Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß auf das Substrat zunächst eine dünne Kadmiumselenidschicht aufgedampft und anschließend durch Eintauchen in eine zinnionenhaltige Lösung diese Schicht an ihrer freien Oberfläche in eine Zinnselenidschicht umgewandelt wird.
  7. 7. Verfahren zur Herstellung der photovoltaischen Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Halbleiterschichten (1, 2) durch Aufsprühen und thermische Zersetzung von kadmium- und selenhaltigen Lösungen bzw. zinn- und selenhaltigen Lösungen auf das auf 100 bis 30000 erhitzte Substrat (3) aufgebracht werden.
DE19762643590 1976-09-28 1976-09-28 Photovoltaische zelle Ceased DE2643590A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762643590 DE2643590A1 (de) 1976-09-28 1976-09-28 Photovoltaische zelle
CA278,972A CA1077605A (en) 1976-09-28 1977-05-24 Photovoltaic cell of n-cdse and p-snse

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762643590 DE2643590A1 (de) 1976-09-28 1976-09-28 Photovoltaische zelle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2643590A1 true DE2643590A1 (de) 1978-03-30

Family

ID=5989028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19762643590 Ceased DE2643590A1 (de) 1976-09-28 1976-09-28 Photovoltaische zelle

Country Status (2)

Country Link
CA (1) CA1077605A (de)
DE (1) DE2643590A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2480506A1 (fr) * 1980-04-11 1981-10-16 Bayer Ag Cellule photovoltaique de grande surface

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE868199C (de) * 1951-05-05 1953-02-23 Fritz Dr Michelssen Lichtelektrisch empfindlicher Koerper
GB971017A (en) * 1961-08-30 1964-09-23 Ncr Co Process for making thin semi-conductive films
DE2447066A1 (de) * 1974-03-01 1975-09-04 Univ Delaware Photozelle und verfahren zu ihrer herstellung
US3975211A (en) * 1975-03-28 1976-08-17 Westinghouse Electric Corporation Solar cells and method for making same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE868199C (de) * 1951-05-05 1953-02-23 Fritz Dr Michelssen Lichtelektrisch empfindlicher Koerper
GB971017A (en) * 1961-08-30 1964-09-23 Ncr Co Process for making thin semi-conductive films
DE2447066A1 (de) * 1974-03-01 1975-09-04 Univ Delaware Photozelle und verfahren zu ihrer herstellung
US3975211A (en) * 1975-03-28 1976-08-17 Westinghouse Electric Corporation Solar cells and method for making same

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
GB-Z.: Advanced Energy Conversion, Bd. 6, 1966, S. 201-221 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2480506A1 (fr) * 1980-04-11 1981-10-16 Bayer Ag Cellule photovoltaique de grande surface

Also Published As

Publication number Publication date
CA1077605A (en) 1980-05-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0468094B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Chalkopyrit-Solarzelle
DE19912961B4 (de) Halbleiterdünnfilm, Herstellungsverfahren dafür, sowie den Halbleiterdünnfilm aufweisende Solarzelle
EP0715358B2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle mit Chalkopyrit-Absorberschicht und so hergestellte Solarzelle
DE10151415A1 (de) Solarzelle
EP0535522A2 (de) Verfahren zur Herstellung von pn CdTe/CdS-Dünnschichtsolarzellen
WO1995009441A1 (de) Solarzelle mit einer chalkopyritabsorberschicht
EP0662247A1 (de) Schnelles verfahren zur erzeugung eines chalkopyrit-halbleiters auf einem substrat
DE102011050089B4 (de) Verfahren zum Herstellen von elektrischen Kontakten an einer Solarzelle, Solarzelle und Verfahren zum Herstellen eines Rückseiten-Kontaktes einer Solarzelle
DE2917564A1 (de) Verfahren zum herstellen von solarzellen und dadurch hergestellte gegenstaende
DE2639841B2 (de) Solarzelle und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3015706A1 (de) Solarzelle mit schottky-sperrschicht
DE102011054716A1 (de) Gemischtes Sputtertarget aus Cadmiumsulfid und Cadmiumtellurid und Verfahren zu ihrer Verwendung
DE102011054795A1 (de) Verfahren zum Abscheiden von Cadmiumsulfid-Schichten mittels zerstäuben zum Einsatz in photovoltaischen Dünnfilmvorrichtungen auf Cadmiumtellurid-Grundlage
DE2711365A1 (de) Halbleiteranordnung mit schottky- grenzschicht
DE3420887A1 (de) Solarzelle
DE2949359A1 (de) Photoelement
DE4447865B4 (de) Verbindungshalbleiter-Dünnschichtsolarzelle mit Alkalimetallzusatz und Verfahren zur Herstellung
DE3542116C2 (de)
DE2643590A1 (de) Photovoltaische zelle
DE19611996C1 (de) Solarzelle mit einer Chalkopyritabsorberschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE3119631A1 (de) "photovoltaische solarzelle"
DE10004733C2 (de) Dünnfilm-Halbleiterbauelement mit einer Chalkopyritschicht und Verfahren zu seiner Herstellung sowie Verwendung des Verfahrens zur Herstellung einer Dünnfilm-Solarzelle
DE3713957C2 (de)
DE3001463C2 (de) Halbleiterphotoelement
CH670335A5 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8120 Willingness to grant licences paragraph 23
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: BATTELLE-INSTITUT E.V., 6000 FRANKFURT, DE

8131 Rejection