DE2639613A1 - Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten - Google Patents

Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten

Info

Publication number
DE2639613A1
DE2639613A1 DE19762639613 DE2639613A DE2639613A1 DE 2639613 A1 DE2639613 A1 DE 2639613A1 DE 19762639613 DE19762639613 DE 19762639613 DE 2639613 A DE2639613 A DE 2639613A DE 2639613 A1 DE2639613 A1 DE 2639613A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
penta
temperature
heated
oxides
approx
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19762639613
Other languages
English (en)
Inventor
Wolfgang Dr Rer Nat Kruehler
Rolf Dr Phil Plaettner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19762639613 priority Critical patent/DE2639613A1/de
Priority to FR7725820A priority patent/FR2363519A1/fr
Priority to JP10576277A priority patent/JPS5330498A/ja
Publication of DE2639613A1 publication Critical patent/DE2639613A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B17/00Single-crystal growth onto a seed which remains in the melt during growth, e.g. Nacken-Kyropoulos method
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B19/00Liquid-phase epitaxial-layer growth
    • C30B19/02Liquid-phase epitaxial-layer growth using molten solvents, e.g. flux
    • C30B19/04Liquid-phase epitaxial-layer growth using molten solvents, e.g. flux the solvent being a component of the crystal composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B7/00Single-crystal growth from solutions using solvents which are liquid at normal temperature, e.g. aqueous solutions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B9/00Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents
    • C30B9/04Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents by cooling of the solution
    • C30B9/06Single-crystal growth from melt solutions using molten solvents by cooling of the solution using as solvent a component of the crystal composition

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Unser Zeichen
Berlin und München 3 VPA 76 P 7 1 1 2 BRD
Verfahren zur Herstellung von Penta-Ultraphosphaten«
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Penta-Ultraphosphaten, wie es aus dem Oberbegriff des Patentanspruches 1 hervorgeht.
Aus der Druckschrift H.G. Danielmeyer, H.P Weber, IEEE Journal of Quantum Electronics, QE-8 (1972) S. 805 sind für die Laseranwendung stöchiometrische Neodym-Verbindungen bekannt, und zwar Neodym-Penta-Ultraphosphat (NdP1-O.. ^). Dieses Material besitzt eine 30-fach höhere Neodym-Konzentration als das bisher beste dotierte Lasermaterial YAG : Nd
Allerdings neigt NdPcO^ λ dazu, schon unter geringem mechanischen Druck Zwillingsdomänen zu bilden. Diese Domänen wirken optisch als Streuzentren und können damit einen stabilen Laserbetrieb stören.
Aus der Druckschrift H.G. Danielmeyer, J.P. Jeser, E. Schönherr, W. Stetter, Journal of Crystal Growth (1974) S. 298 302 ist es bekannt, die Neodym-Ionen teilweise durch andere Ionen, insbesondere durch Yttrium-^Ionen zu ersetzen. Insbesondere durch Yttrium-Ionen kann die Bildung von ZwiÜingsdomänen unterbunden werden.
In dieser zuletzt genannten Druckschrift ist auch angegeben, wie Kristalle aus Neodym-Penta-Ultraphosphaten gezüchtet werden können. Dazu werden in ein Phosphorsäurebad Oxide der Metalle eingegeben, von denen Penta-Ultraphosphate gebildet werden soller
31.8.1976 /Rtd 17&Ρ810/02Α1
Diese Lösung wird über mehrere Zwischenstufen auf ca. 500°C erhitzt, diese Temperatur wird für ca. 1 Woche lang gehalten. Dabei entstehen Spontankeime aus Ultra-Pentaphosphaten. Typische Werte für die Kantenlänge der so hergestellten Kristalle sind 1 bis 2 mm. Die Ausbeute optisch guter Kristalle liegt bei ca. 10 %.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung wesentlich größerer Kristalle aus Penta-Ultraphosphaten anzugeben.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren der eingangs genannten Art gelöst, welches erfindungsgemäß die Merkmale des Kennzeichens des Patentanspruches 1 aufweist.
Gemäß der Erfindung werden also Oxide, insbesondere der Elemente Sc, Y, Gd, Lu, La, Ga, In, Tl, M oder Nd mit Phosphorsäure vermischt. Dabei kommen mindestens 0,2 g dieser Oxide auf 10 g Phosphorsäure.
Diese Mischung der Oxide in der Phosphorsäure wird auf ca. 180°C erhitzt, diese Temperatur wird für ca. 2 Stunden gehalten. Damit wird Phosphorsäure von Wasser befreit.
Nun wird die Mischung weiter erhitzt, auf ca. 3700C, diese Temperatur wird für ca. 20 Stunden gehalten. Damit lösen sich die Oxide vollständig in der Phosphorsäure. Soweit diese Oxide mit der Phosphorsäure vorübergehend Verbindungen eingehen, lösen sich die Verbindungen ebenso vollständig.
Diese Verfahrensschritte sind verhältnismäßig unkritisch, die jeweils angegebenen Temperaturen können auch für eine längere Zeit gehalten werden, jedoch sind die genannten kurzen Haltezeiten vorteilhaft, da-damit das Herstellungsverfahren beschleunigt wird.
Nachdem nun die Oxide bzw. die vorübergehenden Verbindungen vollständig in der Phosphorsäure gelöst sind, wird diese Lösung auf die Züchtungstemperatur gebracht, ca. 5000C. Diese Temperatur
8098Ί0/0241
_^_ S Λ P 7 1 t 2 BRD
wird für insgesamt ca. 80 Stunden gehalten. Nachdem diese Temperatur für ca. 12 bis 15 Stunden gehalten worden ist, werden in.die Lösung Keimlinge eingebracht, die die gleiche chemische Zusammensetzung wie die herzustellenden Kristalle haben können.
Diese Keimlinge wachsen nun auf eine Endgröße von ca. 1 cm Kantenlänge, dabei besitzen die fertigen Kristalle eine sehr gute optische Qualität.
Diese Kristalle werden nunmehr der Lösung entnommen. Dazu kann man die Lösung abkühlen lassen, dann wird die Phosphorsäure mit heißem Wasser weggespült, so daß die Kristalle zurückbleiben.
Es ist nicht zweckmäßig, die Züchtungstemperatur (ca. 500°C) für eine längere Zeit als die angegebenen 80 Stunden zu halten, da nach dieser Zeit das Kristallwachstum praktisch abgeschlossen" ist.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausfhrungsbeispiels -erläutert. Dabei wird beschrieben, wie Gadolinium-Yttrium-Penta-Ultraphosphat gemäß der Formel Gd-i-Y ^cp^L hergestellt werden kann.Dabei ist ζ der Mol-Anteil der Yttrium-Ionen im Kristallgitter, ζ kann zwischen den Werten 0 und 1 liegen.
In ein Phosphorsäurebad, dessen Behälter wegen der aggressiven Phosphorsäure zweckmäßigerweise aus Gold oder glasartiger Kohle besteht, werden Gadoliniumoxid (Gd2O3) und Yttriumoxid (Y0O3) eingegeben. Das Mengenverhältnis dieser Oxide wird entsprechend der gewünschten Zusammensetzung der herzustellenden Penta-Ultraphosphate gewählt, d.-.b..:
(1-z Mol Gd2O3) : ( ζ Mol Y2O3).
Hat also ζ beispielsweise den Wert 0,67, so kommen auf 0,33 Mol Gd2O3 dementsprechend 0,67 Mol Y?0-*·
Bei der Mischung dieser Oxide kommen 0,2 g der Oxide auf 10 g Pho sphorsäure.
Diese Mischung wird nun, wie oben beschrieben wurde, erhitzt, und bis zur Züchtungstemperatur gebracht.
809810/02 41
-K- % P 7 1 1 2 BRD
Nachdem die Züchtungstemperatur für 12 bis 15 Stunden gehalten worden ist,wird in die Lösung ein Keimling aus Gd„ Y P1-O..
σ ° 1-z ζ 5 14
eingebracht. Dieser Keimling hat.also die gleiche Zusammensetzung, wie die zu züchtenden Kristalle. Hat ζ den Wert 0,67, so wird in die Lösung dementsprechend ein Keimling aus Gd0,33Y0,67P5°14 einSe^acht.
Innerhalb der angegebenen Züchtungszeit wächst dieser Keimling zu einem Einkristall mit einer typischen Endgröße von ca. 1cm x 0,5 cm χ 0,4 cm.
Allgemein ist die Spaltbarkeit der monoklinen C2/c-Gadolinium-Yttrium-Penta-Ultraphosphat-Rristalle in ihrer (001)-Ebene so gut, daß die Rauhigkeit der gesamten Spaltebene unterhalb von 10 nm liegt. Damit ist vorteilhafterweise ein aufwendiges Polieren der Substratoberflächen unnötig.
Insbesondere GdQ ^Yq ^yP1-O1 Λ-Kri stalle besitzen eine ausgezeichnete Spaltbarkeit in der (001)-Ebene, so daß aus einem
solchen Kristall durch Spalten leicht und schnell jeweils etwa
2
5 Substrate mit 0,5 cm Basisfläche hergestellt werden können.
Auf derartige Substrate können nun weitere Penta-Ultraphosphatschichten epitaktisch aufgebracht werden. Die Herstellung erfolgt in der gleichen Weise wie die Herstellung der Substrate, jedoch werden anstelle der Keimlinge die Substrate verwendet.
Beispielsweise lassen sich auf diese Weise Substrate aus Gadolinium-Yttrium-Penta-Ultraphosphat mit einer laseraktiven Schicht aus Neodym-Yttrium-Penta-Ultraphosphat beschichten. Auf diese Weise lassen sich beispielsweise Wellenleiterlaser herstellen.
Die außerordentlich gute Kristallqualität der nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Penta-Ultraphosphate ist insbesondere bei der Verwendung dieser Stoffe für die integrierte Optik wesentlich und vorteilhaft.
Bei der epitaktischen Beschichtung der Substrateist darauf zu
809810/0241
S 75 P 71 12 BRD
achten, daß die Gitterkonstanten des Substrates und der Epitaxie-Schicht möglichst gleich groß sind, entsprechendes gilt für die thermischen Ausdehnungskoeffizienten.
Sollen z.B. Substrate aus Gadolinium-Penta-Ultraphosphaten mit epitaktischen Schichten aus Neodym-Penta-Ultraphosphaten versehen werden, so ist es aus diesem Grunde zweckmäßig, die Gadolinium-Ionen im Substrat und die Neodym-Ionen in der epitaktischen Schicht teilweise so durch andere Elemente zu ersetzen, daß die genannten Forderungen bezüglich der Gitterkonstanten und des Ausdehnungskoeffizienten erfüllt werden. Das Substratmaterial hat also die chemische Formel Gd* M P-O1», die epitaktische Schicht hat die Formel Nd^xMxP1-O1 ^. Dabei ist M beispielsweise eines der Elemente der Seltenen Erden, insbesondere La oder Y, oder eines der Elemente In, Tl, U oder Ga, χ und ζ liegen zwischen den Werten 0 und 1.
Besonders günstig ist beispielsweise die epitaktische Beschichtung eines Substrates aus Gd1 YZP O1^ mit einer Schicht
aus Ndi_x Y x P5°-|4» wenn gilt: ζ = 2,36 χ - 1,36.
Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn χ mindestens den Wert 0,86 besitzt, da in diesem Falle die epitaktischen Schichten aus Neodym-Yttrium-Penta-Ultraphosphat frei von Zwillhgsdomänen sind.
Liegt der mittlere Ionenradius (arithmetisches Mittel der Ionen-Radien) der Metallionen unter 0,98 S, so sind die Pentaültraphosphate domänenfrei. Dies ist bei optischen Anwendungen wichtig, da die Domänen zu Streuung von Licht führen können. Um diesen mittleren Ionenradius zu erreichen, können die Metallionen entsprechend gemischt werden.
Bei einem Penta-Ultraphosphat entsprechend der Formel M1^ · M PcO1 λ ist der mittlere Ionenradius R also: (1-y) . Rpjc + y . Rpjb = Rm , wobei 0^y^1.
7 Patentansprüche
808810/0241

Claims (7)

Patentansp r ü ehe
1. Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus Penta-Ultraphosphaten, wobei Metalloxide in ein Phosphorsäurebad gegeben werden, welches dann auf eine Temperatur gebracht wird, bei der Kristalle gezüchtet werden können, dadurch gekennzeichnet , daß auf 10 g Phosphorsäure mindestens 0,2 g der Oxide kommen, daß diese Mischung auf ca. 180°C _+ 200C erhitzt wird, daß diese Temperatur für mindestens 2 Stunden gehalten wird, daß dann die Mischung auf ca. 3600C - 430°C erhitzt wird, daß diese Temperatur für mindestens 20 Stunden gehalten wird, daß dann die Mischung auf ca. 5000C ± 500C erhitzt wird, daß diese Temperatur für ca. 80 Stunden gehalten wird, und daß ca. 12 bis 15 Stunden nach Erreichen dieser Temperatur in die erhitzte Mischung ein Keimling eingegeben wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Mischung zuerst auf 1800C, dann auf 3700C und danach auf 5000C erhitzt wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 und 2, dadurch g e kennzeichnet , daß die Oxide einen Reinheitsgrad von mehr als 99,999 % aufweisen.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch g e kennzeichnet , daß die Oxide eines oder mehrerer der Elemente Nd, Sc, Y, Gd, Lu, La, Ga, In, Tl, U benutzt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich net , daß Penta-Ultraphosphate gemäß der chemischen Formel M1,, zMf f PcO1, hergestellt werden, wobei M1 eines der Elemente Sc, Y, Gd und Lu ist, und wobei M1' eines der Elemente La, Ga, In, Tl, und U ist, und wobei ζ zwischen den Werten 0 und 1 liegt.
809810/0241
ORIGINAL INSPECTED
_/}* Λ Ρ 7 1 1 2 BRD
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich net , daß in das PhosphorSäurebad Neodymoxid und ein weiteres Oxid eines Metalles M''' gegeben wird, und daß als Keimling ein Einkristall aus M1 v_ M 1V PcO1/, benutzt wird, wobei
iv ν z -^
Mf·f, M bzw. M für jeweils eines der Elemente Sc, Y, Ga, Lu, Tl und U steht, und wobei ζ zwischen den Werten 0 und 1 liegt.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet , daß ζ so gewählt wird, daß der mittlere Ionenradius der Metallionen unter 0,98 £ liegt.
809810/0241
DE19762639613 1976-09-02 1976-09-02 Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten Pending DE2639613A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762639613 DE2639613A1 (de) 1976-09-02 1976-09-02 Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten
FR7725820A FR2363519A1 (fr) 1976-09-02 1977-08-24 Procede pour fabriquer des penta-ultraphosphates
JP10576277A JPS5330498A (en) 1976-09-02 1977-09-02 Method of making single crystal of pentaavalent phosphate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19762639613 DE2639613A1 (de) 1976-09-02 1976-09-02 Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2639613A1 true DE2639613A1 (de) 1978-03-09

Family

ID=5987020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19762639613 Pending DE2639613A1 (de) 1976-09-02 1976-09-02 Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS5330498A (de)
DE (1) DE2639613A1 (de)
FR (1) FR2363519A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111547695A (zh) * 2020-05-19 2020-08-18 云南莱德福科技有限公司 一种网状分支结构的多聚磷酸盐及其制备方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5648336A (en) * 1979-09-22 1981-05-01 Canon Inc Feeding device of paper
JPS5678739A (en) * 1979-11-27 1981-06-27 Usac Electronics Ind Co Ltd Paper-feeding device for printer
JPS5757130A (en) * 1980-09-17 1982-04-06 Mitsubishi Chem Ind Ltd Transfer device
JPS584538U (ja) * 1981-06-29 1983-01-12 コニカ株式会社 給紙装置
JPS58224927A (ja) * 1982-06-23 1983-12-27 Fujitsu Ltd 帳票搬送装置
JPS5978016A (ja) * 1982-10-25 1984-05-04 イーストマン・コダック・カンパニー シ−ト送り装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111547695A (zh) * 2020-05-19 2020-08-18 云南莱德福科技有限公司 一种网状分支结构的多聚磷酸盐及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
FR2363519A1 (fr) 1978-03-31
JPS5330498A (en) 1978-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2252728B1 (de) Elektrodepositionsverfahren zur herstellung von nanostrukturiertem zno
DE19751294B4 (de) Halbleiter-Einrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE4022090A1 (de) Elektro-optisches bauelement und verfahren zu dessen herstellung
DE2453347A1 (de) Mehrschichtenmaterial mit verminderter spannung
DE102008028036A1 (de) Optoelektronischer Halbleiterkörper mit Tunnelübergang und Verfahren zur Herstellung eines solchen
DE4444844A1 (de) Glaskeramik-Materialien insbesondere für Laser und optische Verstärker, die mit Elementen der Seltenen Erden dotiert sind, und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE102018213437A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Galliumnitridsubstrat unter Verwendung von Hydriddampfphasenepitaxie
DE2639613A1 (de) Verfahren zur herstellung von penta- ultraphosphaten
DE10034263B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Quasisubstrats
DE60311412T2 (de) InP-basierte Hochtemperaturlaser mit InAsP-Quantenschachtschichten und Sperrschichten aus Gax(AIIn)1-xP
EP0428673B1 (de) Verfahren zur herstellung von dotierten halbleiterschichten
DE60105228T2 (de) Material für mit Wismut substituierte Granat-Dickschicht und zugehöriges Herstellungsverfahren
DE4440072C1 (de) Verfahren zur Herstellung einer vergrabenen monokristallinen Siliziumcarbidschicht
DE3026573C2 (de) Verfahren zur Züchtung eines magneto-optischen Wismut-Seltenerde-Eisengranat-Kristalls
DE69924095T2 (de) Optisch klare, dauerbeständige infrarot-fenster und herstellungsverfahren
DE2639221A1 (de) Epitaktische laseraktive schicht aus nd tief 1-x y tief x p tief 5 o tief 14 auf einem substrat aus gd tief 1-z y tief z p tief 5 o tief 14
DE2414513C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Neodym-Pentaphosphaten
DE102017213587A1 (de) Halbleiterscheibe aus einkristallinem Silizium und Verfahren zur Herstellung der Halbleiterscheibe
DE10144474B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Bismutoxid-haltigen Gläsern und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung optischer Gläser
DE2723642A1 (de) Epitaktische laseraktive schicht aus ndal tief 3 (bo tief 3 ) tief 4 auf einem substrat aus gd tief 0,151 la tief 0,485 al tief 3 (bo tief 3 ) tief 4
WO1998039502A1 (de) VERFAHREN ZUR ZÜCHTUNG VON EINKRISTALLEN VON HOCHTEMPERATURSUPRALEITERN AUS SELTENERD-KUPRATEN DER FORM SE1+xBa2-xCu3O¿7-δ?
WO2004021457A2 (de) Verfahren zum herstellen eines elektromagnetische strahlung emittierenden halbleiterchips und elektromagnetische strahlung emittierender halbleiterchip
DE4242555A1 (en) Compsn. for preparing film
EP1548845B1 (de) Verfahren zur Behandlung von Pulverkörner
DE2400911B2 (de) Verfahren zur herstellung von neodym-ultraphosphaten

Legal Events

Date Code Title Description
OAM Search report available
OC Search report available
OHJ Non-payment of the annual fee