DE2633950B2 - SzintUlations-Gammakamera mit durch optische Streuelemente voneinander getrennten Szintillatorkristallen - Google Patents
SzintUlations-Gammakamera mit durch optische Streuelemente voneinander getrennten SzintillatorkristallenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Szintillations-Gammakamera nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Um bei einer solchen Gammakamera eine gute Ortsauflösung zu erreichen, kommt es darauf an, daß das
von einem bestimmten Szintillationsort ausgehende Licht nach Möglichkeit nur in den dem Szintillationsort
nächsten Photoelektronen-Vervielfacher gelangt, während die diesem benachbarten Photoelektronen-Vervielfacher
möglichst wenig Licht aufnehmen sollen.
Bei der aus der deutschen Auslegeschrift 18 11 258 bekannten Szintillations-Gammakamera, die dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 entspricht, besteht die Szintillator-Anordnung aus einer Vielzahl kleiner
prismatischer Szintillatorkristalle, die in einem sich parallel zur Lichtaustrittsebene erstreckenden Mosaik
angeordnet und durch Metallschirme und Aluminiumfolien voneinander getrennt sind, die eine derartige
Streuung oder Kanalisierung des Lichtes bewirken, daß sich das Licht vom jeweiligen Szintillationsort praktisch
nur in Richtung der Prismenachsen ausbreiten kann und schräg verlaufende Lichtstrahlen unterdrückt werden.
Ein derartiges Mosaik aus einer Vielzahl einzelner durch Metallschirme und Aluminiumfolien voneinander
getrennter .Szintillatorkristalle ist jedoch in der Praxis schwierig und teuer. Außerdem ist es fast unmöglich, die
erforderliche Vielzahl von Szintillatorkristallen mit der erforderlichen vollkommenen Giejchförmigkeit bezüglich
der physikalischen Eigenschaften vorzusehen.
Aus der französischen Offenlegungsschrift Nr. 22 37 206 ist eine ähnliche Anordnung bekannt, bei der ein einzelner Szintillatorkristall durch rasterartig gelegte Einschnitte in eine Vielzahl von prismatischen Vorsprüngen mit in Richtung der Lichtausbreitung
Aus der französischen Offenlegungsschrift Nr. 22 37 206 ist eine ähnliche Anordnung bekannt, bei der ein einzelner Szintillatorkristall durch rasterartig gelegte Einschnitte in eine Vielzahl von prismatischen Vorsprüngen mit in Richtung der Lichtausbreitung
to verlaufenden Prismenachsen zerteilt ist. Die Einschnitte
können dabei mit einem Material ausgefüllt sein, das die Streuung oder Reflexion der Photoelektronen erhöht
Auch ein derartiger mit zahlreichen Einschnitten versehener Kristall ist jedoch nur schwierig herzustellen.
Um schräg verlaufende Strahlen wirksam zu unterdrücken, müssen die Einschnitte möglichst tief sein.
In diesem Fall ist aber eile Bruchgefahr der Kristallplatte
erheblich. Im übrigen gehen bei einer Anordnung ebenso wie bei der oben beschriebenen Anordnung
nach der deutschen Auslegeschrift Nr. 1811258 die
zwischen den einzelnen Kristallprismen vorhandenen mit Luft oder sonstigen Materialien ausgefüllten
Zwischenräume für die Aufnahme der Gammastrahlung verloren.
Aus der deutschen Offenlegungsschrift 24 08 428 ist es ferner bekannt, die Lichtleiterscheibe einer Szintillationskamera
mit Einschnitten im Bereich der zentrumsnahen Photoelektronen-Vervielfacher zu versehen, um
die Verteilung des Lichts zur Verbesserung der räumlichen Linearität zu beeinflussen.
Aus der deutschen Auslegeschrift Nr. 1165773 ist weiterhin eine Szintillator-Anordnung bekannt, die aus
mehreren in der zur Lichtaustrittsebene senkrechten Richtung hintereinander angeordneten Szintillatorkristallen
besteht, die an ihren äußeren Oberflächen aufgerauht sind. Diese Aufrauhung bewirkt eine diffuse
Reflexion, die verhindern soll, daß sich das in den so ausgebildeten Szintillatorkristallen erzeugte Licht nicht
innerhalb der Kristalle totläuft.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Szintillations-Gammakamera nach dem Oberbegriff des
Patentanspruchs 1 die Szintillator-Anordnung so auszubilden, daß sie hohe Ortauflösung ergibt, sich leicht
herstellen läßt und einen hohen Wirkungsgrad aufweist.
Die Lösung dieser Aufgabe ist im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegeben. Die danach
vorgesehene grob polierte Trennfläche zwischen den beiden in Lichtaustrittsrichtung senkrecht hintereinander
angeordneten Szintillatorkristallen hat auf Strahlen,
so die sie senkrecht durchsetzen und somit zum nächsten Photoelektronen-Vervielfacher gelangen, praktisch keinen
Einfluß, während schräg auftreffende Strahlen erheblich gestreut werden und daher nur mit wesentlich
herabgesetzter Intensität auf die dem nächsten Photoelektronen-Vervielfacher benachbarten Vervielfacher
gelangen können.
Die Erfindung wird in der nachstehenden Beschreibung anhand der Zeichnung an Ausführungsbeispielen
näher erläutert. In der Zeichnung zeigen
F i g. 1 und 2 den grundsätzlichen Aufbau einer Szintillations-Gammakamera im Schnitt bzw. von oben
gesehen,
F i g. 3 einen Schnitt durch die Szintillator-Anordnung gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung und
F i g. 4 ein Diagramm zur Veranschaulichung der Intensitätsverteilung längs einer Richtung der Lichtaustrittsebene
der Szintillator-Anordnung nach F i g. 3.
Gemäß F i g. 1 umfaßt eine Szintillations-Gammaka-
Gemäß F i g. 1 umfaßt eine Szintillations-Gammaka-
mera einen Szintillations-Kristall 3, wobei ein Szintiilat'tonsereignis
am Punkt P angedeutet ist, ein Fenster 2, einen Lichtleiter 1 sowie eine Vielzahl von Photoelektronen-Vervielfacher,
die mit PMi + 1, MPi. PMi- 1 usw. bezeichnet sind.
Nach F i g. 2 sind die Photoelektronen-Vervielfacher
hexagonal angeordnet, und die Signale werden an Leitungen YX bis YS für die Y-Achse und Xi bis X 9
für die X-Achse abgegriffen.
Die soweit beschriebene Anordnung ist Stand der Technik.
In Fig.3 ist als Ausführungsbeispiel der Erfindung eine Szintillator-Anordnung mit einem Streuelement
gezeigt, das durch Grobpolieren der Voderseite, der
Rückseite und der Seitenflächen zweier Kristalle und anschließendes Andrücken der Vorderseite des einen
Kristalls gegen die Rückseite des anderen Kristalls gebildet wird. Ein Fenster 4 dieser Szintillator-Anordnung
besteht aus Glas. Die beiden Szintilfetorkristalle 5
und 6 sind NaJ(TI)-Kristal!e. Der Reflektor 7 kann aus
AI2O3, MGO oder BaSO4 bestehen. Die beiden
Szintillatorkristalle 5 und 6 sind mittels eines gummielastischen Halteelementes 8 in ein Gehäuse eingesetzt
Das Fenster 4 und der obere Szintillatorkrista.II 5 sind entweder durch einen Epoxidklebstoff miteinander
verklebt oder optisch durch ein Siliconöl miteinander gekoppelt.
Die Oberflächen der Szintillatorkristalle 5 und 6 sind
grobpoliert. Poliert sind die vordere und die rückwärtige Hauptoberfläche sowie die Seitenflächer« beider
Kristalle. Die Gesaintdicke der beiden übereinanderliegenden Szintillatorkristalle 5 und 6 (Fig.3) beträgt
beispielsweise etwa !O bis 15 mm, die Dicke des Szintillatorkristalles 6 beträgt beispielsweise 0,5 bis
6 mm. Der Szintillatorkristall 6 ist dabei also dünner als der Szintillatorkristiill 5.
Beim Zusammenhalten beider Kristalle unter mechanischem Druck werden aufgrund der Oberflächenunebenheiten
der Grobpolitur kleinste unregelmäßig verteilte Lufteinschlüsse zwischen den beiden Kristalloberflächen
eingeschlossen. Wenn die beiden Kristalle optisch durch ein Siliconöl oder ein Epoxidharz
miteinander verbunden sind, stellt diese kombinierte Grenzfläche zwischen beiden Kristallen das Streuelement
9 dar.
In der F i g. 4 sind in graphischer Darstellung die Eigenschaften der so beschaffenen Szintillator-Anordnung
gezeigt. Die in F i g. 3 dargestellte Struktur ist in ihren wesentlichen Elementen zu Erläuterungszwecken
in vergrößertem Maßstab unter die graphische Darstellung der F i g. 4 gezeichnet Unter dieser vergrößerten
Darstellung der Struktur sind schematisch durch einen Pfeil die einfallenden y-Strahlen angedeutet
Das im Punkt P im Kristall 6 erzeugte Szintillaiionslicht
pflanzt sich im Szintillatorkristall unter einem v> bestimmten Raumv/inkel dreidimensional fort. Die in
der Darstellung der F i g. 4 aufwärts gerichtete optische Komponente L 1 wird geringfügig am Streuelement 9
gestreut. Nach Eintritt in den Szintillatorkristall 5 wird es erneut an der grobpolierten Oberfläche gestreut und
tritt dann aus dem Kristall aus. Die schräger zur Normalen des Szintillationskristalls verlaufenden Strahlenkomponenten
L 2 des Lichtes werden am Streuelement 9 stark gestreut, und zwar in der Weise, daß die
Einfallswinkelkomponente und die senkrechte Komponente etwa den gleichen Ausbreitungsgrad in den
Szintillatorkristall 5 hinein erhalten. Die Komponente L 3 der stärker geneigten Lichtstrahlen wird praktisch
vollständig am Streuelement 9 gestreut und büßt dabei praktisch vollständig die Einfaliswinkelkomponente ein.
Dabei bleiben eine vertikale Komponente und eine Reflexionskomponente übrig, so daß insgesamt eine
trapezförmige Lichtverteilung ohne ausgedehnte Verteilungsflanken erhalten sind.
Andererseits wird die abwärts gerichtete optische Komponente LA zunächst geringfügig an der grobpolierten
Oberfläche des Szintillatiofkristalls 6 gestreut und anschließend an dem vollkommen streuenden
Reflektor 7 reflektiert Wenn das Licht senkrecht auf den vollkommen streuenden Reflektor 7 auftritt, streut
der Reflektor 7 das Licht vollständig, und zwar praktisch in idealer Weise. Wenn das Licht dagegen schräg auf
den vollständig streuenden Reflektor 7 auftrifft, ist die Reflexion nicht mehr ideal und das Licht geringfügig
gestreut, jedoch kann die Reflexion zumindest in erster Näherung als normale Reflexion betrachtet werden,
unter der das Licht auf den Kristall 6 zurückgeführt wird. Nach starker Streuung am Streuelement 9 wird es
dann geringfügig an der grobpolierten Oberfläche des Szintillatorkristalls 5 gestreut und tritt dann in der zuvor
beschriebenen Weise aus dem Kristall aus. Wenn das Streuelement in dieser Weise in der Nähe der
Lichtquelle angeordnet ist, nimmt die Lichtverteilung praktisch Trapezform für die niederenergetischen
y-Strahlen an, die im Kristall 6 Szintiallationsereignisse
auslösen. Die erhaltene Verteilungskurve ist in der F i g. 4 als ausgezogen dargestellte Kurve s gezeigt.
Nicht ganz ideal wird dagegen der Verlauf der Verteilungskurve für hochenergetische -/-Strahlen, da
für diese die Szintillationsereignisse nicht ausschließlich im Szintillatorkristall 6, sondern auch im Szintillatorkristall
5 eintreten. Selbst unter diesen Bedingungen wird jedoch eine Lichtverteilung erhalten, die von der idealen
Verteilung in der in Fig.4 durch die unterbrochen dargestellte Kurve d gezeigten Art nicht allzu stark
abweicht. Da im hochenergetischen y-Strahl jedoch die
Anzahl N der Lichtquanten sehr groß ist, kann auch für die hochenergetischen y-Strahlen selbst bei nicht ganz
idealer Lichtverteilung eine hohe Auflösung erzielt werden.
Auf diese Weise wird in der Szintillatoranordnung eine praktisch ideale Lichtverteilungsfunktion für
niederenergetische y-Strahlen und damit eine hohe Auflösung erzielt Dabei kann die Szintillatoranordnung
einen relativ dicken Szintillatorkristall enthalten, wie er für hochenergetische y-Strahlen verwendet wird, um die
Quantenausbeute im Photomaximum zur Erzielung einer hohen Auflösung zu verbessern.
Je nach dem gewünschten Verlauf der Lichtverteilung v/ird das Streuelement 9 entweder durch mechanischen
Druck auf die beiden Kristalle oder durch eine optische Kopplung beider Kristalle hergestellt. Wenn beispielsweise
für einen Photoelektronenvervielfacl er mit 7,6 cm Durchmesser eine breite trapezförmige Lichtverteilung
eingestellt werden soll, wird die Oberfläche des Streuelements besonders rauh poliert, und die beiden
Kristalle werden unter Anwendung eines mechanischen Druckes zur Erhöhung der optischen Streuung aufeinandergepreßt
Wenn auf der anderen Seite Photoelektronenvervielfacher mit einem Durchmesser von 5,1 cm
oci>.r weniger eingesetzt werden, können weniger
grobpolierte Oberflächen verwendet werden, die unter Reiben gegeneinander unter Einwirkung eines mechanischen
Druckes aufeinander gepreßt oder unter Verwendung eines Siliconöls oder eines Epoxidharzklebers
miteinander verbunden werden. Dabei wird eine
Lichtverteilung in solchen Strukturen erhalten, die der idealen trapezförmigen Lichtverteilung sehr nahe
kommt. Die dabei erhaltenen Trapezbreiten sind wesentlich schmaler als die bei dem vorstehend
beschriebenen Ausführungsbeispiel erhaltenen Breiten.
Für jede einzelne Ausführungsform des Szintiilators existiert ein Optimalbereich der Dicke des Szintillatorkristalls
6. Dieser Bereich wird durch Faktoren, wie beispielsweise den Durchmesser des Photoelektronenvervielfachers
und der Dicke des Wellenleiters, bestimmt. Diese Größen können unter Beachtung bzw.
unter Bezug auf die Streueigenschaften des Streuelementes 9 frei gewählt werden.
Wenn beispielsweise ein niederenergetischer Strahler wie das Tc-Nuclid mit 140 keV vermessen werden soii,
so muß der Szintillatorkristall 6 etwa 2 bis 6 mm dick sein, wenn die Szintillationsereignisse zumindest ganz
wesentlich in diesem Kristall auftreten sollen. Beim Vermessen hochenergetischer Nuklide im Szintillatorkristall
6 dagegen dürfen die Signalimpulshöhen für Licht nicht voneinander verschieden sein, das der
Photoelektronenvervielfacher einmal direkt von der Quelle aufwärts abgestrahlt, das andere Mal von der
Quelle abwärts abgestrahlt und nach Reflexion direkt aufwärts gerichteter Strahlung erhält Trotz unterschiedlicher
Dicken des Szintillatorkristalls 6 für rein mechanisch aneinandergedrückte und optisch gekoppelte
Szintillatorkristalle können diese Dicken so gewählt werden, daß die durch das vom Photoelektronenvervielfacher
aufgefangene Licht erzeugten Signalimpulshöhen in beiden Fällen praktisch gleiche Werte
annehmen. Diese Bedingung kann in aller Regel für eine Dicke des Szintillatorkristalls 6 im Bereich von 0,5 bis
6 mm eingestellt werden. Die Erfindung ist nicht auf die Ausbildung eines einzigen Steuerelements im Szintillatorkristall
beschränkt. Vielmehr können auch mehrere solche Steuerelemente übereinanderliegend im Szintillatorkristall
ausgebildet sein. Solche Szintillatorkristalle sind zwar aufwendiger herzustellen, jedoch erlauben sie
die Herstellung fast rechteckiger, seitlich scharf begrenzter Lichtverteilungen.
Insbesondere bei der Herstellung von Szintillatorkristauen
mit großen Durchmessern von y-Kameras mag es in der technischen Ausführung mitunter schwierig
sein, den dünnen Szintillatorkristall 6 in ausreichender Flächengröße herzustellen, zu schleifen und an den
dicken Szintillatorkristall 5 anzuheften. Daher kann für die Herstellung solcher Kamerakristalle mit besonders
großem Durchmesser in der Art verfahren werden, daß zunächst ein relativ dicker und mechanisch in sich
stabiler Szintillatorkristall 6 mit einer entsprechend bearbeiteten Oberfläche mit dem Szintillatorkristall 5
verbunden wird, wobei dann der Szintillatorkristall 6 erst anschließend nach dem Verbinden auf die gewünschte
Dicke abgeschliffen wird.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (7)
1. Szintillations-Gammakamera mit einer Szintillator-Anordnung,
einem Lichtleiter und einer Vielzahl von Photoelektronen-Vervielfachern, wobei die
Szintillator-Anordnung mindestens zwei durch optische Streuelemente voneinander getrennte gleichartige
Szintillatorkristalle aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß die Szintillatorkristalle (5,6)
in der zur Lichtaustrittsebene der Szintillator-Anordnung senkrechten Richtung hintereinander angeordnet
sind, und daß ihre einander zugewandten, grob polierten und quer zum Lichtverlauf vom
Szintillationsort zum jeweils nächsten Photoelektronenvervielfacher
stehenden Oberflächen das Streuelement (9) bilden.
2. SzLntülations-Gammakamera nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtdicke der Szintillatorkristalle (5, 6) 10 bis 15 mm
beträgt.
3. Szintillations-Gammakamera nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die einzelnen Szintillatorkristalle (5, 6) durch mechanischen Druck zusammengehalten werden.
4. Szintillations-Gammakamera nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Aufrechterhaltung
cfss mechanischen Druckes ein gummielastisches
Spannelement (8) vorgesehen ist, das die Ränder der Szintillatorkristalle (5,6) aufeinanderdrückt.
5. Szintillations-Gammakamera nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die miteinander in Berührung stehenden Oberflächen der einzelnen Szintillatorkristalle (5, 6) durch
ein Haftmittel verbunden sind.
6. Szintillations-Gammakamera nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Haftmittel Siliconöl
ist.
7. Szintillations-Gammakamera nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Haftmittel ein
Epoxidharz ist.
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