DE2612807A1 - Unter ausnutzung der ladungstraeger- laufzeit arbeitende hoechstfrequenz- halbleitervorrichtung - Google Patents
Unter ausnutzung der ladungstraeger- laufzeit arbeitende hoechstfrequenz- halbleitervorrichtungInfo
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Description
Unter Ausnutzung der Ladungsträger-Laufzeit arbeitende Höchstfrequenz-Halbleitervorrichtung.
Die Entwicklung von Vorrichtungen, die unter Ausnutzung der Laufzeit arbeiten, ermöglichte eine beträchtliche Erweiterung
des Bereichs der auf direktem Wege mit Hilfe von Halbleiter-Bauelementen
erzeugten Frequenzen. Diese Erweiterung resultiert aus der Ausnutzung des negativen Widerstandes, der
sich aus dem Laufzeitwinkel der Ladungsträger im Halbleiter ergibt, wenn dieser Winkel in der Größenordnung von 180°
liegt.
Es ist bekannt, daß bei einer Ladungsträger-Laufzeit τ die
Möglichkeiten zur Erhöhung der Frequenz f eines herkömmlichen bipolaren Transistors durch die Bedingung
2 rr f τ «2 π
(D
begrenzt sindy wobei das erste Glied dieser Ungleichung (1)
den Laufzeitwinkel darstellt. Es ist jedoch zu erkennen, daß bei einem Laufzeitwinkel in der Größenordnung von π die Phasen-Schw/Ba
60984-1 /U779
7 6 1 7 8 Ο
umkehr des injizierten Stroms im Fall des Transistors ausgenutzt
werden könnte.
Die durch die Basis eingeführte Phasenverschiebung ist stets von einer beträchtlichen Dämpfung begleitet. Der negative
Widerstand würde daher gering sein, und er könnte von verschiedenen Störelementen verdeckt sein.
Von G.T.WRIGHT in Electronics Letters, Juni 1967, Band 3, Nr.6, Seite 234 ist vorgeschlagen worden, die von der Basis
herbeigeführte Verzögerung mit einer Verzögerung zu kombinieren, die von einerRaumladungszone herbeigeführt wird, die
sich in einem von" der Basis zum Kollektor reichenden Bereich befindet, also einer Zone, in der sich die Ladungsträger mit
einer begrenzten Geschwindigkeit, einer sogenannten gesättigten Geschwindigkeit bewegen. In diesem Fall zeigt die Halbleitervorrichtung
immer noch eine Transistorstruktur mit einer Verzögerung in der Größenordnung von ττ/2, die von der
Basis eingeführt wird, und einer Verzögerung in der Größenordnung von π , die von der Raumladungszone eingeführt wird.
Die an dieser Struktur ausgeführten Berechnungen zeigen, daß ein wesEntlich höherer negativer Widerstand als in
Abwesenheit dieser Zone erwartet werden kann. Außerdem.gestattet die Dicke der Raumladungszone die Anwendung eines
niedrigeren elektrischen Feldes, so daß die Leistung ohne Durchschlag erhöht werden kann. Tatsächlich wird der negative
Widerstand zwischen dem Emitter und dem Kollektor ausgenutzt, wobei eine Basis gleichspannungsmässig vorgespannt und
nicht von der Hochfrequenz durchlaufen ist. In der Praxis führt jedoch die Basis-Kollektor-Streukapazität zu einer
beträchtlichen Störung der Arbeitsweise durch Kurzschliessen des Bauelements.
Die Erfindung beseitigt diesen Nachteil.
H ü 9 8 4 1 / U 7 7 9
V61/H07
Nach der Erfindung ist eine unter Ausnutzung der Ladungsträger-Laufzeit
arbeitende Höchstfrequenz-Halbleitervorrichtung mit einer Halbleiterstruktur mit einer stark dotierten
ersten Zone, einer sogenannten Emitterzone, einer stark dotierten zweiten Zone, einer sogenannten Basiszone,
einer schwach dotierten dritten Zone, einer sogenannten Raumladungszone, und einer stark dotierten vierten Zone,
einer sogenannten Kollektorzone, wobei die erste, dritte und vierte Zone einen ersten Leitungstyp und die zweite Zone
den entgegengesetzten Leitungstyp aufweisen, gekennzeichnet durch eine Übertragungsleitung mit einstellbarer Länge,
die' ein zwischen die Basiszone und die Kollektorzone eingeschaltetes
erstes Ende und ein von einer bei hohen Frequenzen den Wert 0 aufweisenden Impedanz abgeschlossenes zweites Ende
enthält.
Die Erfindung wird nun an Hand der Zeichnung beispielshalber erläutert. Es zeigen:
Fig.1 eine Schnittansicht einer bekannten Halbleitervorrichtung,
Fig.2 eine Transistor-Laufzeitoszillatorschaltung mit der
Halbleitervorrichtung von Fig.1,
Fig.3 ©in Ersatzschaltbild der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig.4, 5, 6, und 7 Ausführungsbeispiele der erfindungsgemäßen
Vorrichtung und
Fig.8 eine Teilansicht der Ausführungsform der Vorrichtung
von Fig.7.
In Fig.1 ist ein Teil eines Laufzeit-Transistors im Schnitt dargestellt. Auf einem aus Kupfer bestehenden Sockel 10, der
einen ohmschen Kollektorkontakt bildet, ist ein aus Silizium be-
6 0 9 R 4 1 / 0 7 7 9
' ' 26128(17
stehendes Substrat 11 mit starker N-Dotierung (N+) befestigt.
Auf diesem Substrat ist eine Siliziumschicht mit schwacher N-Dotierung (N") epitaktisch aufgebracht, die beispielsweise
einen N-Störstoff mit einer Konzentration von 2·10 Atome/cnr
enthält; darauf befindet sich eine Schicht 13 mit starker P-Dotierung (P+). In diese Schicht sind von der freien Oberfläche
aus in eine Zone 14 N-Störstoffe so eindiffundiert worden, daß eine starke Dotierung (N+) erhalten wird. Die
Schicht 13 und die Zone 14 bilden die Basis bzw. den Emitter des Transistors. Ohmsche Kontakte 15 (B) und 16 (E), die die
Basis-bzw. Emitter-Anschlüsse bilden, sind auf der freien
Oberfläche der Basis und des Emitters implantiert. Es sei bemerkt, daß in der Praxis zur Vermeidung einer Inhomogenität
des Kollektorstroms die Zone 14 in Form eines Kamms
mit mehreren Zähnen ausgebildet wird, auf dem ein Kontakt mit der gleichen Form implantiert ist. Der Kontakt 15 wird
dann in Form eines Kamms implantiert, dessen Zähne mit den Zähnen des Kontakts 16 verzahnt sind.
In der in Fig.2 dargestellten Schaltung wird über eine
Stoßinduktivität 24 zwischen dem Emitter E und dem Kollektor C eines Laufzeit-Transistors gemäß dem Transistor von
Fig.1 eine Gleichspannung aus der Quelle 23 angelegt. An die Basis wird über eine Stoßinduktivität 26 eine Vorspannung
aus der Quelle 25 angelegt. Mit gestrichelten Linien ist die Basis-Kollektor-Kapazität 27 angegeben. Es ist bekannt,
daß auf Grund des negativen Widerstandes zwischen dem Emitter und dem Kollektor eine Hochfrequenzverstärkung
zwischen den Klemmen 21 und 22 möglich ist. Der Wirkungsgrad der Verstärkung ist jedoch wegen der Anwesenheit der
Streukapazität 27 gering, die den negativen Widerstand kurzschließt. '
Gemäß der Erfindung wird zwischen die Basis und den Kollektor ein Ende einer (bifilaren oder auf andere Weise ausgebildeten)
R0 9H4 1 /0779
- 5 - 261 ?««r/
Übertragungsleitung eingeschaltet. Das andere Ende dieser Leitung ist bei hohen Frequenzen in einem veränderlichen
Abstand vom Transistor mit Hilfe einer in Fig.4 symbolisch
dargestellten Vorrichtung 31 kurzgeschlossen. Die bereits in Fig.2 dargestellten Elemente sind mit den gleichen Bezugszeichen angegeben, wobei der Widerstand R^1 hinzugefügt
ist, der mit der Streukapazität 27 das Ersatzschaltbild der Basis-Kollektor-Impedanz ergibt. Bei einer Länge, die
gleich der Wellenlänge der Schwingungsfrequenz ist, hat eine Leitung, die von einer bei hohen Frequenzen den ¥ert 0
aufweisenden Impedanz abgeschlossen ist, bekanntlich an ihrem Eingang eine Impedanz mit dem Wert Unendlich.
Wenn die Länge der Leitung unter einer Viertelwellenlänge liegt, ist die Eingangsimpedanz induktiv. Wenn zwischen
den Eingangsklemmen der Leitung eine kleine Kapazität liegt, wie es in der Schaltung von Fig.3 der Fall ist, dann kann
durch Einwirken auf die Länge der Leitung die Resonanz zwischen der Induktivität und der Kapazität erhalten werden,
so daß folglich die unerwünschte Wirkung der Basis-Kollektor-Kapazität eliminiert werden kann.
Ein in Fig.4 dargestelltes erstes Ausführungsbeispiel
enthält eine Mikrostrip-Leitung, die zwischen zwei Koaxialleitungen eingefügt ist. Die Mikrostrip-Leitung enthält
einen leitenden Träger 41, der beispielsweise aus Kupfer
besteht, und als Masseleiter sowie als mechanische Halterung dient; ferner enthält diese Leitung einen isolierenden Strei-1
fen 42, auf dem ein Streifen 43 aus Leitermetall aufgebracht ist, der als Leiterelement der Leitung dient. Die Streifen
und 43 sind unterbrochen, damit ein Abstand entsteht, in dem
der Kupfersockel eines Transistors 40 des oben beschriebenen Typs mit dem Träger 41 verschweißt ist. Anschlußdrähte, die
beispielsweise aus Gold bestehen, sind mittels Thermokompression an den Emitter- und Basis-Kontakten angeschweißt; dies
sind die Drähte 160 (E) und 150 (B), die die Elektroden mit den Innenleitern der.Koaxialleitungen 44 und 45 verbinden,
B (J 9 t;4 1 / U 7 7 9
deren Außenleiter 441 und 451 in Blöcke geschnitten sind, die mit den Enden des Trägers 41 verschweißt sind. Die
Quelle 23 versorgt über die Stoßinduktivität 24 den Emitter über den Innenleiter 442, und die Quelle 25 bewirkt die
Vorspannung der Basis über die Stoßinduktivität 26 und den Innenleiter 452. Am Ende der Koaxialleitung 45 befindet
sich auf der Basisseite ein aus Leitermetall bestehender Schieber 46, der eine beträchtliche Länge der Koaxialleitung
einnimmt; er ist mit einer Betätigungsstange 461 versehen, mit deren Hilfe er verschoben v/erden kann. Dieser Schieber
ist sowohl von dem an Masse liegenden Außenleiter 451 als auch vom Innenleiter 452 mittels eines Sicherheitsabstandes
elektrisch isoliert, so daß der Hochfrequenzkurzschluß ohne metallischen Kontakt ermöglicht wird. Der Mikrostrip-Abschnitt
der Übertragungsleitung muß natürlich wesentlich kleiner als ein Viertel der Wellenlänge sein.
In einer in Fig.5 dargestellten ersten abgewandelten Ausführungsform
vereinigen sich die Koaxialleitungen 44 und in einem rechten Winkel ohne Zwischenschaltung der Mikrostrip-Leitung.
Das Ende der Koaxialleitung 45 mündet in einer seitlichen Öffnung des Außenleiters 441 , wobei der
Innenleiter 442 am theoretischen Treffpunkt der Achsen der beiden Leitungen abgeschnitten ist« An dieser Stelle
befindet sich ein verfestigter Schweißtropfen 51, der mit
einer Stirnfläche eines aus Aluminiumoxid bestehenden Quaders 52 verklebt ist, der seinerseits an einem die Koaxialleitung
44 abschließenden metallischen Boden 53 festgeklebt ist. Der Transistor 40 ist mit seinem Sockel an diesem Boden
festgeschweißt. Die Anschlußdrähte 150 und 16O (mit dem
Tropfen 51 verschweißt) verbinden die Basis und den Emitter mit dem jeweiligen Ende des Innenleiters.
In einer in Fig.6 dargestellten zweiten Variante ist die
Koaxialleitung 44 durch einen rechtwinkligen Wellenleiter
R 0 9 H 4 1 / U 7 7 9
ersetzt. Mit einerWand 61 dieses Wellenleiters sind der
Sockel des Transistors 40 und ein einen Schweißtropfen tragender Quader 63 aus Aluminiumoxid verschweißt. In
der der Wand 61 gegenüberliegenden Wand 62 mündet ein Zylinder 65, in dem der Schieber 66 eines scheibenförmigen
Anpassungsglieds 67 gleitet, dessen Scheibe 671 in Anlage an den Tropfen 64 kommt. Der Emitteranschluß 2ä der in
Fig.3 dargestellten Vorrichtung befindet sich am freien Ende der Stange des Schiebers 46. In der Wand 61 mündet
dicht beim Transistor 40 eine Koaxialleitung 45 wie in den Figuren 4 und 5, die insbesondere einen Schieber 46
enthält.
In der in Fig.7 dargestellten dritten Variante werden
wieder ein Wellenleiter 60 mit rechtwinkligem Querschnitt, ein in der Wand 62 mündender Zylinder 65 und eine in der
gegenüberliegenden Wand 61 mündende Koaxialleitung verwendet. In diesem Fall befindet sich die Achse der Koaxialleitung
jedoch in der Verlängerung der Achse des Zylinders 65. Außerdem ist zwischen der Wand 61 und dem Ende der
Koaxialleitung 45 eine zylindrische Vorkammer 71 angebracht. Der im Zylinder 65 gleitende Schieber 66 ist von
einerBetätigungsstange 73 durchdrungen, die an einem in die
Vorkammer 71 eindringenden Schieber72 befestigt ist. Am Boden dieser Vorkammer befindet sich eine metallisierte
Aluminiumoxidscheibe 74, die den Transistor 40 und einen aus Aluminiumoxid bestehenden Quader 75 trägt. In Fig.8
sind in einer vergrößerten perspektivischen Ansicht die Scheibe 74 und die von ihr getragenen Teile dargestellt.
Diese Scheibe ist in der Mitte von einer Stange 76 aus Kupfer durchdrungen, die den Basisanschluß 150 mit dem
Mittelleiter 452 verbindet. Der Transistor 40 ist mit seinem Sockel auf der Scheibe 74 festgeschweißt, die
den metallisierten Boden der Vorkammer 71 bildet.
609841/0779
261 X 8 Γ) 7
In allen Ausführungsformen kann die Länge der Übertragungsleitung
um ein ganzzahliges Vielfaches der halben Wellenlängen verändert werden, ohne daß sich die Eingangsimpedanz
dabei ändert.
Ausgehend von der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist es
einfach, Höchstfrequenzverstärker und Höchstfrequenzgeneratoren
zu verwirklichen.
Dabei ist jedoch darauf hinzuweisen
- daß im ersten Fall die Verstärkung zwischen den Klemmen 21
und 22 der Schaltung von Fig.4 durch Auftreten eines negativen Widerstandes stattfindet. Dieser negative Widerstand
erscheint zwischen den Leitern des Koaxialkabels 44 der Figuren 4 und 5; beim Wellenleiter 60 der Figuren 6
und 7 erfolgt ein Abschließen eines seiner Enden mit Hilfe eines (nicht dargestellten) beweglichen Schiebers, und eine
Verstärkung wird durch Einwirkung auf den Wellenleiter am anderen Ende erhalten;
- daß im zweiten Fall wie für die Verstärkung vorgegangen wird, vobei die den negativen Widerstand veranlassenden Parameter.
(Versorgungsspannung oder Versorgungsstrom , Ladungsbedingungen der Leitung oder des Hellenleiters ) verändert
werden, bis der Reflexionskoeffizient negativ wird, ( bei einem wesentlich Jäheren Absolutwert als 1), was zu
einem Schwingen des Systems führt.
Die Erfindung bezieht sich auf alle Systeme mit kleinen und mittleren Höchstfrequenzleistungen.
K (J 9 H k 1 / U 7 7 9
Claims (12)
1./Unter Ausnutzung der Ladungsträger-Laufzeit arbeitende
- Höchstfrequenz-Halbleitervorrichtung, mit einer Halbleiterstruktur
mit einer stark dotierten ersten Zone, einer sogenannten Emitterzone, einer stark dotierten
zweiten Zone, einer sogenannten Basiszone, einer schwachdotierten dritten Zone, einer sogenannten Raumladungszone,
und einer^stark dotierten vierten Zone, einer sogenannten Kollektorζone, wobei die erste, dritte und vierte Zone
einen ersten Leitungstyp und die zweite Zone den entgegengesetzten Leitungstyp aufweisen, gekennzeichnet durch
eine Übertragungsleitung mit einstellbarer Länge, die ein zwischen die Basiszone und die Kollektorzone eingeschaltetes
erstes Ende und ein von einer bei hohen Frequenzen den Wert aufweisenden Impedanz abgeschlossenes zweites Ende enthält.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Ende von einem Koaxialleitungselement gebildet
ist, das einen aus leitendem Metall bestehenden Schieber enthält, der im Zwischenraum zwischen seinem Innenleiter
und seinem Außenleiter gleitet.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterstruktur am Ende eines Abschnitts einer
Koaxialleitung angebracht ist, deren Außenleiter mit dem Außenleiter des Koaxialleitungselements verbunden ist, und
deren Innenleiter zum Einfügen der Halbleiterstruktur unterbrochen ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß
der Koaxialleitungsabschnitt senkrecht zur Achse des Koaxialleitungselements
verläuft, daß der Kollektor der Halbleiterstruktur am Verbindungspunkt der Außenleiter angeschlossen
ist, und daß die Basis und der Emitter der Halbleiterstruktur an die jeweiligen Innenleiter des Koaxialleitungselements
H () 9 ü 4 1 / U 7 7 R
2 6 1^807
- ίο -
bzw. des Koaxialleitungsabschnitts angeschlossen sind.
5. Vorrichtung nach Zuspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
zwischen das erste Ende und das Koaxialleitungselement ein Abschnitt einer Mikrostrip-Leitung eingefügt ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Abschnitt der Mikrostrip-Leitung auf der Seite des Emitters mittels eines zusätzlichen Mikrostrip-Leitungsabschnitts
verlängert ist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6,dadurch gekennzeichnet, daß
der zusätzliche Mikrostrip-Leitungsabschnitt mit einem zusätzlichen Koaxialleitungselement verbunden ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterstruktur an einerstelle in einem Wellenleiter
angebracht ist, an der das Koaxialleitungselement und ein scheibenförmiges Anpassungsglied münden.
9. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterstruktur in einer in der Wand eines Wellenleiters
angebrachten Vorkammer zum Anpassen des Wellenleiters an das Koaxialleitungselement angebracht ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitterkontakt der Halbleiterstruktur an einen in der
Vorkammer gleitenden Schieber angeschlossen ist, der mit Hilfe einer Stange betätigt werden kann, die einen in der
der Vorkammer gegenüberliegenden Wand mündenden Zylinder durchläuft.
11.Vorrichtung * nach einem der .Ansprüche 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß sie als Höchstfrequenzwellenverstärker verwendet ist.
R09B41/Ü779
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Höchstfrequenzwellengenerator
verwendet ist.
. 609841/07 7 9
Λ -
Leerseite
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FR7509920A FR2305857A1 (fr) | 1975-03-28 | 1975-03-28 | Dispositif hyperfrequence a semiconducteur, du type utilisant le temps de transit, et appareils generateurs ou amplificateurs utilisant ce dispositif |
Publications (1)
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DE2612807A1 true DE2612807A1 (de) | 1976-10-07 |
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ID=9153292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19762612807 Pending DE2612807A1 (de) | 1975-03-28 | 1976-03-25 | Unter ausnutzung der ladungstraeger- laufzeit arbeitende hoechstfrequenz- halbleitervorrichtung |
Country Status (5)
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JP (1) | JPS51122362A (de) |
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FR (1) | FR2305857A1 (de) |
GB (1) | GB1516945A (de) |
Families Citing this family (5)
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OHN | Withdrawal |